光譜成像具有良好的多維信息獲取能力，廣泛應(yīng)用在食品安全、醫(yī)學(xué)診斷、環(huán)境監(jiān)測(cè)、偽裝識(shí)別及軍事遙感等領(lǐng)域。傳統(tǒng)光譜成像系統(tǒng)受到分光器件的限制，其存在體積大、成本高和集成度低等問(wèn)題。基于新型超構(gòu)表面的成像光譜芯片可為傳感器小型化、低成本提供有效解決方案。隨著光譜分析需求的持續(xù)攀升，加速了超構(gòu)表面成像光譜芯片的快速發(fā)展。

據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道，近日，長(zhǎng)春理工大學(xué)物理學(xué)院王婷婷、蔡紅星教授領(lǐng)導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)在《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》期刊上發(fā)表了以“新型超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進(jìn)展”為主題的文章。本文綜述了近年來(lái)超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進(jìn)展。在此基礎(chǔ)上，介紹了該團(tuán)隊(duì)最新研究成果，通過(guò)創(chuàng)新設(shè)計(jì)成像光譜芯片體系架構(gòu)，可同時(shí)實(shí)現(xiàn)高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率，為芯片級(jí)光譜成像系統(tǒng)的應(yīng)用打下良好的基礎(chǔ)。最后論述了成像光譜芯片的發(fā)展趨勢(shì)及應(yīng)用前景，為實(shí)現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)小型化提供參考。

基于超構(gòu)表面的相位調(diào)控機(jī)理

基于廣義斯涅耳定律的超構(gòu)表面是哈佛大學(xué)Capasso等于2011年提出的，作為超材料的二維形式，可在二維平面內(nèi)周期性的排列亞波長(zhǎng)單元結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的光場(chǎng)調(diào)控，從而形成平面光學(xué)元件，為先進(jìn)光子器件的集成化與芯片化發(fā)展提供新思路。在基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中，需要通過(guò)調(diào)控光學(xué)自由度實(shí)現(xiàn)光譜響應(yīng)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的復(fù)雜多樣性導(dǎo)致了豐富的光學(xué)特性。其中，金屬超構(gòu)表面中等離激元激發(fā)需要滿足特定的波矢匹配條件，因此通過(guò)合理設(shè)計(jì)單元結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)可以改變其相位分布，從而實(shí)現(xiàn)光譜曲線的按需調(diào)控。在超構(gòu)表面近12年的發(fā)展歷程中，逐漸形成了不同的相位調(diào)控機(jī)理，包括傳輸相位和幾何相位，文中對(duì)這兩種類型的相位調(diào)控機(jī)理分別進(jìn)行了闡述。

基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片

超構(gòu)表面以其平面化和集成化的巨大優(yōu)勢(shì)，克服了傳統(tǒng)分光技術(shù)中常用分立元件的尺寸限制，在成像光譜系統(tǒng)中極具吸引力。然而，要想更好地挖掘出基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的更大潛力，需要結(jié)合多種不同功能的超構(gòu)表面，發(fā)揮出超構(gòu)表面平面化和集成化的優(yōu)勢(shì)，還能實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的成像性能和成像效果。下面將以分光原理為主線，對(duì)基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進(jìn)行綜述。

色散型成像光譜芯片

色散型成像光譜系統(tǒng)，以棱鏡和光柵最為常見。但在芯片化的設(shè)計(jì)方案中，波導(dǎo)光柵結(jié)構(gòu)成為大體積棱鏡的完美替代品。隨著微納制造加工技術(shù)的快速發(fā)展，形成了一系列的色散解決方案，其中包括陣列波導(dǎo)光柵、刻蝕衍射光柵以及超構(gòu)表面等。2018年，美國(guó)加州理工學(xué)院Kavli納米科學(xué)研究所Faraon教授，通過(guò)引入折疊超構(gòu)表面光學(xué)的概念，設(shè)計(jì)了一款芯片級(jí)的近紅外光譜儀，并發(fā)表于Nat.Commun.期刊。在系統(tǒng)中，色散和聚焦光學(xué)元件被放置于一側(cè)玻璃基板上的超構(gòu)表面代替，在兩側(cè)反射鏡的作用下，使光線在基板內(nèi)部傳輸，縮小了系統(tǒng)的尺寸，實(shí)現(xiàn)了1 mm × 1 mm × 7 mm的小體積設(shè)計(jì)。該光譜儀的分辨率約為1.2 nm，工作譜段覆蓋760 ~ 860 nm。基于圖1（a）的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，通過(guò)改進(jìn)器件的角響應(yīng)，于2019年設(shè)計(jì)出一臺(tái)線掃式高光譜成像儀，光譜范圍為750 ~ 850 nm，光譜分辨率和角分辨率分別約為1.5 nm和0.075°，如圖1（b）所示。系統(tǒng)總體積為8.5 mm3，該系統(tǒng)具備了片上集成芯片級(jí)的分光能力。然而，基于波導(dǎo)光柵的成像光譜芯片，其分辨率依賴于系統(tǒng)所提供的允許光線傳輸?shù)墓獬涕L(zhǎng)度如圖1（c）所示。因此，高分辨能力與系統(tǒng)的小型化設(shè)計(jì)依然存在著相互制約的關(guān)系，限制了其在極端小型化的應(yīng)用。

圖1. 基于折疊超構(gòu)表面的高光譜成像儀：（a）設(shè)計(jì)方案；（b）光譜成像系統(tǒng)；（c）光線傳輸及器件制備 窄帶濾波型成像光譜芯片 基于超構(gòu)表面的窄帶濾波型成像光譜芯片，可以選擇性地傳輸特定波長(zhǎng)的光，其光譜分辨率受到光譜通道數(shù)量的限制。其與色散型成像光譜芯片在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和系統(tǒng)集成方面相比更具有優(yōu)勢(shì)，規(guī)避了光程長(zhǎng)度對(duì)分辨率的限制，實(shí)現(xiàn)了濾波結(jié)構(gòu)與探測(cè)器的集成。2018年，美國(guó)普渡大學(xué)Kildishev設(shè)計(jì)了一種基于超構(gòu)表面的納米腔結(jié)構(gòu)，如圖2（a）所示。該結(jié)構(gòu)借助了法布里-珀羅（FP）干涉原理，如圖2（b）所示。該結(jié)構(gòu)由兩個(gè)厚度為15 nm的銀鏡組成FP光學(xué)腔，并在腔內(nèi)嵌入了厚度為22 nm，周期為150 nm的銀超構(gòu)表面光柵，且超構(gòu)表面與下表面銀鏡被厚度為40 nm的氧化鋁間隔層分開。

由FP干涉原理可知，通過(guò)改變腔的厚度和腔內(nèi)介質(zhì)的折射率，可以實(shí)現(xiàn)不同波段中心波長(zhǎng)的可控調(diào)諧。而在此基礎(chǔ)上，超構(gòu)表面提供了更多的可調(diào)制自由度，從而能夠?qū)崿F(xiàn)多波段濾波和彩色成像，如圖2（c）所示。同年，瑞士聯(lián)邦理工學(xué)院Altug開發(fā)了基于超構(gòu)表面納米光子的中紅外成像系統(tǒng)，并將其應(yīng)用于物質(zhì)的化學(xué)鑒定和成分分析，如圖3所示。片上設(shè)計(jì)的電介質(zhì)超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)的每個(gè)共振都被調(diào)諧到離散的頻率上，使分子吸收特征可以在多個(gè)光譜點(diǎn)被讀出。實(shí)現(xiàn)了對(duì)生物、聚合物以及殺蟲劑分子的精準(zhǔn)監(jiān)測(cè)，展示了超構(gòu)表面在生物傳感和環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域中的應(yīng)用潛力。

圖2. 基于嵌入式超構(gòu)表面的納米腔：（a）結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)；（b）原理對(duì)比；（c）成像效果

圖3. 像素化超構(gòu)表面 計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片 計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片，利用高速的計(jì)算技術(shù)部分替代物理分光元件的工作負(fù)荷，進(jìn)一步縮小成像系統(tǒng)的體積和重量，這已成為未來(lái)片上集成芯片級(jí)成像光譜系統(tǒng)發(fā)展的主要趨勢(shì)。 2019年，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校Yu等提出了一種基于光子晶體平板的隨機(jī)光譜儀。將不同周期、晶格常數(shù)和孔尺寸的光子晶體平板集成在CMOS成像傳感器表面，實(shí)現(xiàn)了光譜的探測(cè)和成像光譜系統(tǒng)的構(gòu)建。所設(shè)計(jì)的6 × 6光子晶體結(jié)構(gòu)的光學(xué)圖像，以及3張選定的光子晶體平板結(jié)構(gòu)的電鏡圖像，如圖4（a）所示。該濾波結(jié)構(gòu)的工作光譜范圍為550 ~ 750 nm，光譜分辨率為1 nm。整個(gè)濾波器尺寸為210 μm × 210 μm，體積較小，實(shí)現(xiàn)了片上集成芯片化的設(shè)計(jì)。構(gòu)建的簡(jiǎn)易光譜成像系統(tǒng)成功獲取目標(biāo)的光譜信息，驗(yàn)證了光子晶體平板濾波器的光譜成像能力，如圖4（b）所示。

圖4. 基于光子晶體平板的計(jì)算重構(gòu)型成像光譜芯片：（a）芯片級(jí)光譜儀的示意圖和光學(xué)圖像以及濾波結(jié)構(gòu)的透射光譜；（b）高光譜成像的驗(yàn)證結(jié)果及重構(gòu)數(shù)據(jù)立方體的空間圖 2022年，清華大學(xué)Cui等采用超構(gòu)表面研制出國(guó)際上首款實(shí)時(shí)超光譜成像芯片，相關(guān)研究成果發(fā)表在Optica上。通過(guò)超構(gòu)表面實(shí)現(xiàn)對(duì)入射光在頻譜域的調(diào)制，利用CMOS圖像傳感器完成從頻譜域到電域的映射測(cè)量，再利用壓縮感知算法進(jìn)行光譜的計(jì)算重構(gòu)，并通過(guò)超構(gòu)表面的大規(guī)模陣列集成，最終實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)光譜成像，如圖5所示。該款實(shí)時(shí)超光譜成像芯片將單點(diǎn)光譜儀的尺寸縮小到百微米以下，空間分辨率超過(guò)15萬(wàn)光譜像素，可快速獲得每個(gè)像素點(diǎn)的光譜，工作譜段為450 ~ 750 nm，光譜分辨率為0.8 nm。該團(tuán)隊(duì)進(jìn)一步研制出基于自由形狀超原子的超構(gòu)表面光譜成像芯片，突破了傳統(tǒng)規(guī)則形狀的超構(gòu)表面設(shè)計(jì)限制，取得了更優(yōu)異的光譜成像性能，如圖6所示。對(duì)窄帶光譜和寬帶光譜分別進(jìn)行重構(gòu)，結(jié)果表明，該超光譜成像芯片能夠?qū)崿F(xiàn)保真度99%以上的寬譜光計(jì)算重構(gòu)以及0.5 nm的波長(zhǎng)分辨率。該項(xiàng)研究進(jìn)一步提升了超構(gòu)表面光譜成像芯片的性能，研究成果發(fā)表于Laser & Photonics Reviews，推動(dòng)了未來(lái)光譜成像芯片的發(fā)展及其在實(shí)時(shí)傳感領(lǐng)域的應(yīng)用。

圖5. 基于超構(gòu)表面的超光譜成像芯片

圖6. 基于自由形狀超原子的超表面光譜成像芯片 近年來(lái)，長(zhǎng)春理工大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)針對(duì)目前成像光譜芯片存在能量利用率低、空間分辨率下降大、成本高、工藝復(fù)雜等問(wèn)題。設(shè)計(jì)新型的超構(gòu)表面，基于計(jì)算重構(gòu)光譜學(xué)原理，成功研制了成像光譜芯片。將超構(gòu)表面微納結(jié)構(gòu)與CMOS圖像傳感器相結(jié)合，研制了與現(xiàn)有CMOS的光刻生產(chǎn)相兼容的生產(chǎn)工藝，實(shí)現(xiàn)了成像光譜芯片的量產(chǎn)。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)階段，通過(guò)選取微納結(jié)構(gòu)材料、優(yōu)化微納結(jié)構(gòu)、選擇探測(cè)器類型以及設(shè)計(jì)像素分布方式等研究工作，實(shí)現(xiàn)可定制的成像光譜芯片性能參數(shù)。該團(tuán)隊(duì)優(yōu)化設(shè)計(jì)了I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)，如圖7（a）所示，整體具有能量利用率高、空間分辨率高、光譜分辨率高的優(yōu)點(diǎn)，其芯片結(jié)構(gòu)如圖7（b）所示。在工藝制備階段，采用聚焦離子束刻蝕工藝，并引入多層套刻技術(shù)，針對(duì)每層光譜調(diào)制材料不同的特性，對(duì)其掩模特性、刻蝕特性以及玻璃基片表面的附著特性進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)。最后，在顯微鏡下通過(guò)人工操作的方式實(shí)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)與探測(cè)器焦平面的像素級(jí)對(duì)準(zhǔn)貼合，尺寸< 2 cm × 2 cm × 0.5 cm，該結(jié)構(gòu)具有體積小、成本低的優(yōu)點(diǎn)。

圖7. 基于超構(gòu)表面計(jì)算重構(gòu)技術(shù)的成像光譜芯片：（a）I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)；（b）芯片結(jié)構(gòu)

該團(tuán)隊(duì)研制了多光譜相機(jī)，波段范圍為350 ~ 950 nm，像素尺寸為6 μm × 6 μm，空間分辨率為，其在暗光條件下的成像效果與相同襯底的RGB芯片比較如圖8所示。

圖8. 暗光成像效果比較

總結(jié)和展望

以分光技術(shù)為主線，介紹了基于不同分光原理的超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進(jìn)展。近幾年，超構(gòu)表面的研究在理論建模和微納制造方面都取得了重大進(jìn)展。超構(gòu)表面可在亞波長(zhǎng)尺度內(nèi)實(shí)現(xiàn)對(duì)光場(chǎng)的靈活調(diào)控，且兼具傳統(tǒng)光學(xué)元件無(wú)法比擬的平面化和低損耗的優(yōu)點(diǎn)，超構(gòu)表面為解決成像光譜系統(tǒng)的集成化、芯片化設(shè)計(jì)提供了有效的技術(shù)途徑。盡管現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片已在多個(gè)領(lǐng)域中發(fā)揮巨大作用，但在芯片級(jí)的成像光譜系統(tǒng)中，同時(shí)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率依然存在著巨大的挑戰(zhàn)。 綜上所述，色散型和窄帶濾波型，實(shí)質(zhì)上是按比例縮小傳統(tǒng)的光譜系統(tǒng)，各自存在著局限性。色散型超構(gòu)表面光譜成像系統(tǒng)具有復(fù)雜的光路設(shè)計(jì)和龐大的元件體積，在片上集成芯片級(jí)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，可靠性并不高。色散型成像光譜系統(tǒng)的光譜分辨率嚴(yán)重依賴光程長(zhǎng)度，阻礙其進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)小型化。在眾多的芯片化解決方案中，應(yīng)用較多的是窄帶濾波型技術(shù)。窄帶濾波型的光譜分辨率可通過(guò)工作帶寬下濾波通道的數(shù)量來(lái)衡量。在一定工作帶寬下，濾波通道數(shù)量越多，光譜分辨率越高。

然而，濾波型超構(gòu)表面光譜成像技術(shù)更適用于低光譜分辨率的成像探測(cè)系統(tǒng)。獲取單一光譜信息需要一個(gè)窄帶濾波結(jié)構(gòu)以形成光譜濾波通道。然而應(yīng)對(duì)高分辨率需求時(shí)，成像系統(tǒng)必須使用帶寬更窄和數(shù)量更多的濾波結(jié)構(gòu)，這使得系統(tǒng)難以實(shí)現(xiàn)小型化，因此同時(shí)獲取高空間分辨率和高光譜分辨率是存在矛盾的。此外，窄帶濾波結(jié)構(gòu)僅能夠接收中心波長(zhǎng)的光，增加濾波結(jié)構(gòu)的數(shù)量也會(huì)極大地降低系統(tǒng)的光能量利用率，從而導(dǎo)致信噪比降低，成像效果難以滿足實(shí)際應(yīng)用需求。 隨著計(jì)算機(jī)科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，計(jì)算機(jī)算法和光學(xué)領(lǐng)域的交叉融合得到了深入的探索，光學(xué)算法的發(fā)展降低了光譜成像系統(tǒng)對(duì)硬件的需求，并使得其成像性能得到了極大的提升。近年來(lái)，將超構(gòu)表面與壓縮感知算法相結(jié)合的計(jì)算重構(gòu)型光譜成像探測(cè)系統(tǒng)被廣泛研究，該系統(tǒng)利用超構(gòu)表面的寬帶濾波特性可對(duì)光譜信號(hào)進(jìn)行采集。具有不同的寬帶光譜響應(yīng)特性的濾波結(jié)構(gòu)，可以接收更寬范圍的光譜信號(hào)，從而提升光能量利用率，有效提高系統(tǒng)的信噪比。在現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的光譜成像系統(tǒng)中，超構(gòu)表面的透射光譜響應(yīng)被用作壓縮感知過(guò)程的測(cè)量矩陣。

然而，測(cè)量矩陣一般為隨機(jī)矩陣，因此對(duì)超構(gòu)表面的設(shè)計(jì)通常采用“大量生產(chǎn)—隨機(jī)挑選”的方法，該方法無(wú)法保證光譜重構(gòu)的保真度。此外，寬帶濾波的設(shè)計(jì)會(huì)加寬透射光譜，極易導(dǎo)致波段之間彼此混疊，產(chǎn)生嚴(yán)重的圖像串?dāng)_，成像色差大，無(wú)法滿足實(shí)際的應(yīng)用需求。 因此，在未來(lái)超構(gòu)表面成像光譜芯片的發(fā)展上，將面臨新的考驗(yàn)，要實(shí)現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)的小型化、芯片化、集成化、低成本，還要綜合評(píng)估芯片級(jí)成像光譜系統(tǒng)的性能，使其達(dá)到高能量利用率、高空間分辨、高光譜分辨率的性能指標(biāo)要求，向標(biāo)準(zhǔn)化和通用化方向邁進(jìn)。未來(lái)，超構(gòu)表面成像光譜芯片將有望真正進(jìn)入掌上時(shí)代，深度融入日常生活，在食品安全、移動(dòng)健康等方面展現(xiàn)出其獨(dú)特的魅力。更有望為尖端裝備裝上“中國(guó)芯”，實(shí)現(xiàn)裝備的小型化和輕量化。

審核編輯：劉清