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FPC焊點剝離失效分析

新陽檢測中心 ? 來源:新陽檢測中心 ? 作者:新陽檢測中心 ? 2023-11-20 16:32 ? 次閱讀

一、案例背景

FPC在后續(xù)組裝過程中,連接器發(fā)生脫落。在對同批次的樣品進(jìn)行推力測試后,發(fā)現(xiàn)連接器推力有偏小的現(xiàn)象。據(jù)此進(jìn)行失效分析,明確FPC連接器脫落原因。

#1、#2樣品連接器脫落連接器脫落;#3樣品連接器未脫落;#4樣品連接器推力OK。

二、分析過程

#1 樣品

1、外觀分析

wKgZomVbGXCAXulYAAEtnFM8-po921.jpg

wKgaomVbGXGAcfxPAAJhCHKtqIo845.jpg

測試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留

2、剝離面分析

SEM分析

wKgZomVbGXaALwctAACxtEmVqB8210.jpg

wKgaomVbGXeAOX-TAADSxBMtMMo579.jpg

測試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),有少量錫殘留。

EDS分析

wKgZomVbGXiAbbeWAAMZd5Tzlxc823.jpg

測試結(jié)果:P含量為14.92%,呈異常狀態(tài)。

3、失效點斷面分析

斷面金相分析

wKgaomVbGXiAO5jGAAEHjYbKwN4529.jpg暗場光

wKgZomVbGXmALJPXAADmbRLqicc448.jpg明場光

測試結(jié)果:FPC側(cè)焊盤表面焊錫剝離,兩端有焊錫殘留。

斷面SEM/EDS分析

1)PCB側(cè)切片SEM分析:

wKgaomVbGXmAS8zaAAEwmzykU8E375.jpg

測試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度高達(dá)1.24μm,且FPC Ni層存在貫穿性Ni腐蝕。

2)FPC側(cè)切片SEM分析:

wKgZomVbGXuAJE0OAAHbFcSgKDs916.jpg

測試結(jié)果:FPC殘留錫位置有明顯的貫穿性Ni腐蝕,形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀。部分位置IMC層偏厚,富磷層厚度為0.69μm。

3)FPC側(cè)切片EDS分析:

wKgaomVbGXyAQu-vAAEyR_e4qgA161.jpg

wKgZomVbGX6AOUqTAADQOkHKe1s574.jpg

測試結(jié)果:富磷層P含量為21.24%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為9.97%。

#2 樣品

1、外觀分析

wKgZomVbGX6AYPP9AAFMNMdUYTA346.jpg#2-1

wKgaomVbGX-AcJV5AAFOa2bOtic004.jpg#2-2

測試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留。

2、剝離面分析

SEM分析

wKgZomVbGX-AQCqSAAC6qdzFXj8496.jpg

wKgaomVbGYCAK9UsAAFQGLkXV3w726.jpg

測試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),僅有少量錫殘留。

EDS分析

wKgZomVbGYCAIRAeAALqJuauP_w982.jpg

測試結(jié)果:P含量為15.32%,呈現(xiàn)異常狀態(tài)。

3、失效點斷面分析

斷面金相分析

wKgaomVbGYGACZsSAAD9sd7HF34576.jpg暗場光

wKgZomVbGYGAFqJJAADpXwDtgyU146.jpg明場光

測試結(jié)果:PCB側(cè)焊盤表面焊錫剝離,引腳兩側(cè)有焊錫殘留。

斷面SEM/EDS分析

1)PCB側(cè)切片SEM分析:

wKgaomVbGYKAPjMIAAI1R51IXn0200.jpg

測試結(jié)果:FPC殘留錫位置形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀,厚度嚴(yán)重超標(biāo)。同時富磷層厚度高達(dá)1.20μm,F(xiàn)PC Ni層存在腐蝕現(xiàn)象。

2)局部SEM分析:

wKgZomVbGYKAGJ6lAADhZEU1BrU115.jpg

wKgaomVbGYSAM7-jAAEe0R8ytbc392.jpg

測試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度為1.15μm。

3)FPC側(cè)切片EDS分析:

wKgZomVbGYSAc9cyAAHS8fvvKOA001.jpg

wKgaomVbGYWAf7L0AAFoQY9GA0k873.jpg

測試結(jié)果:富磷層P含量為16.27%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為11.37%,IMC層Cu含量偏高。

4、MARK點PAD分析

選取FPC上的一個MRAK點,采用化學(xué)褪金后對其進(jìn)行觀察分析

1)表面SEM分析:

wKgaomVbGYiAGg05AAGMmZaZsK8074.jpg

wKgZomVbGYmAEnWKAAERVXVHFQI081.jpg

測試結(jié)果:MARK點褪金后觀察其表面狀態(tài),有明顯的Ni層腐蝕異常。

2)表面EDS分析:

wKgaomVbGYmAGFLtAAFIoVfJZ2s606.jpg

wKgZomVbGYqAIASXAAGB9joVPGY454.jpg

測試結(jié)果:表面P含量最大值11.33%。

3)切片斷面SEM分析:

wKgaomVbGYqAJUXJAAEWmsiSVL8636.jpg

wKgZomVbGYuAf9ZgAADOT8P_qUk244.jpg

測試結(jié)果:Ni層未見明顯異常。

4)斷面EDS分析:

wKgaomVbGYyAXOWoAAFBYXw4SV4805.jpg

wKgZomVbGYyAEfmOAAE6DXt7xCo642.jpg

測試結(jié)果:Ni層P含量9.97%。

#3 樣品

1、外觀分析

wKgaomVbGY2ALsNkAAHT34zmVL0068.jpg

wKgZomVbGY2AflSVAAG8w95cTT8900.jpg

測試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

2、X-RAY分析

wKgaomVbGY6ACG2KAADza9VHEh4635.jpg#3-1

wKgZomVbGY-AS0bqAAD48DSLSBo383.jpg#3-2

wKgaomVbGY-AD86oAADl1R_QnWc969.jpg#3-3

測試結(jié)果:#3樣品焊點氣泡較多(圖片中白色陰影為焊點)

3、連接器焊點斷面分析

斷面金相分析

wKgZomVbGZCACdnPAAEbC49tuhU949.jpg暗場光 wKgaomVbGZCAIN-NAAD2_bR-4lI122.jpg明場光

測試結(jié)果:焊接潤濕性良好。

斷面SEM/EDS分析

1)SEM分析:

wKgZomVbGZGAFn0gAAI-0zRJCrg604.jpg

測試結(jié)果:焊接IMC層呈現(xiàn)離散、塊狀、厚度大等異常。富磷層厚度遠(yuǎn)超正常(0.2-0.5μm)狀態(tài),在0.8μm以上。

3)EDS分析:

wKgaomVbGZGAZ0KuAAEN-FRGRwk983.jpg

wKgZomVbGZKAM5CsAADT8Q4tJug025.jpg

測試結(jié)果:富磷層P含量為12.59%,正常Ni層P含量為9.18%。

#4 樣品

1、外觀分析

wKgaomVbGZKAeaaRAAHUUJTzE-k854.jpg

wKgZomVbGZOAdTp5AAGx4aDtku4970.jpg

測試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

2、X-RAY分析

wKgaomVbGZOAcnvdAADAgDFpWHM193.jpg#4-1 wKgZomVbGZSAEdhiAADleLKl5so216.jpg#4-2

測試結(jié)果:焊點氣泡較多。

3、連接器焊點斷面分析

斷面SEM/EDS分析

1)SEM分析:

wKgaomVbGZWAYCVrAAI38_gVbLs700.jpg

測試結(jié)果:富磷層1.03μm,IMC層呈現(xiàn)塊狀、超厚等現(xiàn)象。整體說明焊接質(zhì)量存在明顯的缺陷。

2)EDS分析:

wKgZomVbGZWAcRS_AAFKV6AXW7A076.jpg

wKgaomVbGZaAcK3GAAF1u8cn3Fs771.jpg

測試結(jié)果:富磷層P含量為16.04%(說明Ni過渡析出),正常Ni層P含量為8.51%,IMC層Cu含量偏高。

三、分析結(jié)果

綜合以上分析,推斷連接器脫落的原因為FPC鎳層腐蝕及焊點強度低,具體失效解析如下:

① FPC鎳鍍層存在明顯的鎳腐蝕,降低了焊點的連接強度;

② 連接器與FPC焊接形成的富磷層在1μm左右,IMC層呈現(xiàn)塊狀、離散、超厚的異常現(xiàn)象,遠(yuǎn)超出合理范圍,在這種狀態(tài)下,焊點強度會明顯降低。

四、改善建議

① 對鎳腐蝕現(xiàn)象進(jìn)行工藝控制;

② 對SMT回流制程的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,使IMC及富磷層狀態(tài)符合要求(IMC厚度0.5-3.5μm,連續(xù)、致密,富磷層厚度0.2-0.5μm)。

騰昕檢測有話說:

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審核編輯:湯梓紅

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