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西門子EDA為紫光展銳在DFM改善奠定良好技術基礎

西門子EDA ? 來源:西門子EDA ? 2024-01-17 10:12 ? 次閱讀

“芯片競爭,關鍵在良率。”看似簡單的一句話,當我們深度推敲它,卻別有一番天地。有業內行業分析指出,當前影響3nm工藝量產的最大因素是良率只有50%左右,然而大家只在先進工藝節點上才關注芯片的良率問題嗎?非也,可以說芯片行業對良率的關注度覆蓋所有工藝節點,包括特色工藝,因為它是關聯企業成本最直接、最重要的因素。

良率提升,是芯片企業獲利能力的關鍵

我們以國內芯片大廠為例,紫光展銳執行副總裁周晨表示:“產品良率對紫光展銳的獲利能力和產品質量管控至關重要,因此紫光展銳的研發部門和Foundry合作伙伴有非常緊密的合作,對先進工藝中缺陷模型、產品可測試性設計、良率改善和爬坡有相當深厚的技術積累。此外,EDA 在幫助產品提升良率方面有非常大的價值。產品良率提升非常依賴完善的工作流程,從DFT、診斷、失效分析、大數據分析以及物理設計等環節都要依賴EDA工具來完成缺陷模型的建立、學習和改善的工作。”

換言之,當前行業中改善良率主要從兩個方向切入:一個方向是芯片設計企業對先進工藝的理解,特別是和Foundry 廠的互動如何更好、更快地調整工藝參數,減小缺陷發生的概率和減低對產品良率的影響;另外一個方向是在設計中采取一些創新性的技術,使芯片的物理設計的可制造性得到大幅度提升,這需要設計、工藝和EDA三方的有效協作才能夠達成。

攜手西門子EDA, 為紫光展銳在DFM改善奠定良好技術基礎

EDA作為芯片產業的基石,在良率提升層面的重要性不言而喻。EDA工具對于良率的把控幾乎覆蓋芯片設計和制造的整個流程,除了芯片前端設計和靜態時序驗證等功能外,還涉及到后端驗證、可測試性設計、光學臨近修正等。西門子EDA提供的良率解決方案涵蓋硅前、硅中和后硅三個階段,可實現“端到端”的良率保障。

具體來講,在硅前和硅中階段,西門子EDA的Calibre物理驗證平臺涵蓋了Signoff級驗證的Design、Mask以及芯片制造過程中所有驗證步驟,在提升良率方面的表現得到了業界廣泛的認可。以Calibre SONR為例,這是一款基于特征向量的機器學習平臺,通過將Calibre機器學習模型與核心Calibre架構集成,來實現全芯片的熱點預測和分析、模式減少,以及覆蓋率檢查等,可大大提高晶圓廠缺陷檢測和診斷的生產力和準確性。其中,由于Calibre SONR工具自帶一個機器學習數據庫,可以以低內存和運行時間要求高效地處理大型數據集,因此OPC(光學鄰近效應檢測)受益最多,此前OPC需要海量的數據建模,并需要上萬顆CPU作為硬件基礎進行計算,而通過人工智能和機器學習,OPC的計算量實現大幅降低。

在后硅階段,我們看到全球前十大半導體廠商中至少有7家正在采用診斷驅動良率分析技術(DDYA)來提升良率,并大大縮短PFA循環時間。而西門子EDA的Tessent工具平臺可幫助客戶實現最佳的可測試性設計 (DFT)解決方案,通過Tessent Diagnosis提供的版圖感知和標準單元感知技術,以及Tessent YieldInsight提供的無監督機器學習技術相結合,找到最可能的缺陷分布并移除低概率懷疑點,提升分辨率和準確性,從而提高芯片良率并實現更優的功耗、性能和面積(PPA)。值得一提的是,近期西門子EDA還推出了Tessent RTL Pro解決方案,進一步擴展了 Tessent 產品組合的設計編輯功能,讓客戶能夠在設計流程早期自動完成測試點、封裝器單元和X-bounding 邏輯的分析和插入,從而縮短設計周期,改進設計的可測試性,更好地實現芯片面市“左移”(Shift-left) 工作。

周晨透露:“紫光展銳研發團隊和西門子EDA在很多領域都有合作,在良率提升方面更是合作緊密。西門子EDA工具SONR的機器學習能力非常強大,在缺陷模型在物理版圖中的匹配起到至關重要的作用。”

周晨表示,紫光展銳在去年一顆量產芯片中使用了西門子EDA的SONR技術。得益于SONR強大和創新的機器學習能力,在版圖上執行了幾百處的改動。根據回片測試結果顯示,良率確實有實質性的改善,為紫光展銳以后的先進工藝DFM(可制造型設計)改善奠定了良好的技術基礎。而紫光展銳也和西門子EDA研發部門進行了有效的互動,對SONR的產品技術改進提出了自己的意見,并被采納,在DFM提高領域取得了開創性的成果。

對此,周晨表示:“紫光展銳和西門子EDA的協作完全是業界的強強聯合,通過取長補短,開創了互利共贏的合作模式。”

良率高、產品好,紫光展銳穩健發展

在高良率和技術創新壁壘加持下,紫光展銳的成長迅猛,根據Counterpoint最新發布的2023年第二季度全球智能手機AP/SoC芯片出貨量的市場份額數據顯示,紫光展銳成為今年季度環比增長最快的芯片企業。

周晨從兩個維度對紫光展銳的成長進行了分析:“一方面,在5G4G產品雙管齊下的策略下,紫光展銳堅持技術創新,在過去一段時間實現了很多技術成果轉化,在5G領域形成了梯隊化的產品矩陣,并在4G智能機平臺T612/T616/T619中突破了1.08億像素,構成了產品的獨特亮點,這對市場用戶來說是極具吸引力的;另一方面,紫光展銳與西門子EDA等合作伙伴攜手,實現了面向多板塊的技術應用性的提高,在5G NTN、5G新通話、5G RedCap等領域取得了持續性的突破,并推出了首款車規級5G智能座艙芯片平臺A7870和面向行業解決方案的P7885,以及首顆5G NTN衛星通信通用SoC芯片V8821。”

周晨強調:“未來,我們將繼續與西門子EDA等合作伙伴共建生態,在消費電子物聯網領域持續深耕的基礎上,進一步布局汽車電子、智能顯示等業務,描繪出紫光展銳強勁的第二增長曲線。”

寫在最后

芯片企業想要盈利,良率保障是關鍵,正如紫光展銳為何能成為國內半導體行業的領頭羊,同樣也經歷了良率提升的考驗,而在迎接挑戰、加速創新的路上,EDA工具功不可沒。與西門子EDA的強強聯合更是合作共贏的制勝關鍵。

審核編輯:湯梓紅
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:良率提升,EDA功不可沒 — 西門子EDA對話紫光展銳

文章出處:【微信號:Mentor明導,微信公眾號:西門子EDA】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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