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冠石半導(dǎo)體光掩模版項目在寧波順利封頂

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-01-29 10:04 ? 次閱讀
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近日,寧波冠石半導(dǎo)體光掩模版項目順利封頂,該項目坐落于寧波前灣新區(qū),自2023年5月16日簽約至今年的10月1日正式動工,僅用了短短的8個月。

據(jù)了解,該項目預(yù)計總投資額接近20億元,其中已初步投入16億元,占地約68.8畝,整個建設(shè)周期預(yù)定60個月,主要致力于45-28nm成熟制程半導(dǎo)體光掩膜板的研發(fā)和生產(chǎn)。

資料顯示,寧波冠石半導(dǎo)體正是專注于半導(dǎo)體光掩模版生產(chǎn)的產(chǎn)業(yè)頭部企業(yè),產(chǎn)品主要適用于45-28nm的半導(dǎo)體光掩模版的大規(guī)模制造。

光掩模版作為光刻工藝中所必需的圖形轉(zhuǎn)換工具或模板,其作用類似于相機中的“底片”,是顯示面板驅(qū)動IC(簡稱“DDIC”)生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵材料之一。冠石科技指出,本項目建成并達(dá)產(chǎn)后,將與公司現(xiàn)有的業(yè)務(wù)形成良好的協(xié)同效應(yīng),以滿足現(xiàn)有客戶的潛在需求。

早在去年5月份,冠石科技就與寧波前灣新區(qū)管理委員會簽署了合作協(xié)議,確定將項目落戶該區(qū)域。寧波前灣新區(qū)管委會承諾將全力協(xié)助冠石科技申報省市重點項目,以及積極爭取各項國家、省級、市級政策優(yōu)惠。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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