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英特爾擬成立半導(dǎo)體研究中心

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-09-04 15:56 ? 次閱讀
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英特爾宣布了一項重大合作計劃,擬與日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所在日本共同建立一所先進(jìn)的半導(dǎo)體研究發(fā)展中心。該中心旨在通過聚焦半導(dǎo)體制造技術(shù),助力日本晶片制造設(shè)備及物料行業(yè)的復(fù)興與升級。

預(yù)計在未來三至五年內(nèi),這座研究中心將拔地而起,并由日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所負(fù)責(zé)運(yùn)營管理。中心將配備頂尖的極紫外光微影設(shè)施,為設(shè)備制造商和物料公司提供了一個高端的技術(shù)實驗平臺。企業(yè)可付費(fèi)使用這些先進(jìn)設(shè)施,進(jìn)行原型制作、性能測試及技術(shù)研發(fā),從而加速半導(dǎo)體產(chǎn)品的創(chuàng)新與迭代。

此次合作不僅彰顯了英特爾對半導(dǎo)體技術(shù)前沿的持續(xù)投入,也體現(xiàn)了其在全球范圍內(nèi)推動產(chǎn)業(yè)合作、共謀發(fā)展的戰(zhàn)略眼光。隨著新研究中心的落成,預(yù)計將為日本的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈注入新的活力,推動全球半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)一步繁榮。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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