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凈化機與光刻機:陌路交錯,攜手開創(chuàng)行業(yè)未來

澳企 ? 來源:jf_82551733 ? 作者:jf_82551733 ? 2024-09-26 09:06 ? 次閱讀

光刻機被稱為“半導(dǎo)體行業(yè)的璀璨明珠”,融合了光學(xué)、流體力學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、軟件和圖像等多個領(lǐng)域的尖端技術(shù),其構(gòu)造由十幾萬個部件組成。全球有超過5000家領(lǐng)先企業(yè)提供相關(guān)設(shè)備,包括來自德國的光學(xué)儀器以及美國的照明系統(tǒng)和計量設(shè)備,涉及數(shù)千項專利技術(shù)。

據(jù)工信微報發(fā)文,此次指導(dǎo)目錄是為促進首臺(套)重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用,加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。

對于我國的半導(dǎo)體行業(yè)來說,能夠?qū)崿F(xiàn)28nm工藝的國產(chǎn)化,已經(jīng)是非常重要的進步了。28nm芯片廣泛應(yīng)用于智能家電、汽車電子物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備等領(lǐng)域,因此其市場需求依然很大。如果我們的65nm光刻機能夠成功量產(chǎn)28nm芯片,不僅能降低對外依賴,還能提升國內(nèi)芯片的整體供應(yīng)能力。

根據(jù)工信部發(fā)布的信息,這次國產(chǎn)光刻機分為兩款:一款是氟化氪光刻機,另一款是氟化氬光刻機。我們這里討論的焦點,就是那款氟化氬光刻機。光刻機的工作原理是通過特定波長的光線,把設(shè)計好的芯片電路圖形印刻在硅片上。波長越短,能刻出的電路圖形就越細,最終也就能制造出工藝更精細的芯片。

具體來看,氟化氪光刻機晶圓直徑為300mm(12英寸);照明波長為248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

相比之下,阿斯麥(ASML)的氟化氪光刻機型號有TWINSCANNXT:870、TWINSCANXT:860N和TWINSCANXT:860M。這三個型號,波長均為248mm;分辨率≤110nm。

而指導(dǎo)目錄中更為先進的氟化氬光刻機,其照明波長為193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm。

這一數(shù)據(jù)與ASML旗下TWINSCANXT:1460K最為接近。該型號照明波長為193mm,分辨率≤65nm。此外,該系統(tǒng)可以在偏振照明下實現(xiàn)低至57nm的生產(chǎn)分辨率。

光刻機的精密制造過程對環(huán)境條件有著極為苛刻的要求,任何微小的塵埃或污染物都可能對芯片的質(zhì)量造成嚴(yán)重影響。因此,一個高度潔凈、穩(wěn)定的工作環(huán)境是光刻機正常運作和高效產(chǎn)出的前提。廣州澳企憑借其深厚的研發(fā)實力和行業(yè)經(jīng)驗,研發(fā)出了實驗室凈化機,為光刻機等高端電子設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)提供了堅實的保障。

半導(dǎo)體實驗室環(huán)境可以保證室內(nèi)恒溫恒濕以及其他相關(guān)條件的穩(wěn)定性,但是在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,其產(chǎn)生的危廢氣體是室內(nèi)通風(fēng)系統(tǒng)無法及時處理的盲區(qū)部分,因此大多數(shù)的實驗室都會采用循環(huán)通風(fēng)系統(tǒng)及小范圍凈化兩部分組成。實驗室凈化機不僅采用了先進的過濾技術(shù)和密封設(shè)計,能夠有效去除空氣中的塵埃、微粒、有害氣體等污染物,將實驗室的潔凈度提升至百級甚至更高標(biāo)準(zhǔn),還配備了智能控制系統(tǒng),能夠?qū)崟r監(jiān)測并調(diào)節(jié)室內(nèi)溫濕度、氣流速度等環(huán)境參數(shù),確保光刻機工作在最佳狀態(tài)。此外,其高效節(jié)能、低噪音的特點也贏得了業(yè)界的廣泛贊譽。

結(jié)合此次工信部發(fā)布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》中提到的氟化氪光刻機和氟化氬光刻機,廣州澳企的實驗室凈化機更是成為了這些高端設(shè)備不可或缺的配套設(shè)施。特別是針對氟化氬光刻機,其193mm的照明波長和≤65nm的分辨率要求極高的環(huán)境潔凈度,廣州澳企的凈化機能夠完美滿足這一需求,為光刻機提供了一個近乎無塵的工作環(huán)境,助力生產(chǎn)出更高質(zhì)量的芯片。

光刻機與實驗室凈化機作為半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備,各自承擔(dān)著不可替代的角色。光刻機以其高精度和穩(wěn)定性確保了芯片制造的質(zhì)量與效率;而實驗室凈化機則以其高效的過濾和智能的環(huán)境控制為光刻機提供了堅實的保障。兩者相輔相成,共同推動著中國半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展。

審核編輯 黃宇

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