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CoWoS工藝流程說明

中科院半導體所 ? 來源:Tom聊芯片智造 ? 2024-10-18 14:41 ? 次閱讀

文章來源:Tom聊芯片智造

原文作者:Tom

CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate),指的是將多個裸片(die)集成在一個TSV轉換板(interposer)上,然后將這個interposer連接到一個基板上。CoWoS是一種先進的3D-IC封裝技術,用于高性能和高密度集成的系統級封裝。

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CoWoS一般流程如上圖:

1. Passivation:首先,對硅基板進行鈍化處理,在表明生成氧化硅薄膜,以保護其表面免受環境影響。

2. TSV轉換板形成:在鈍化的硅基板上先刻蝕硅通孔,后電鍍銅,完全填充硅孔,用于實現垂直方向的電氣連接。

3. UBM工藝:在TSV轉換板上沉積一層金屬,作為后續植球的基底。

4. 臨時鍵合:使用臨時鍵合膠劑將TSV轉換板(interposer)鍵合到載體carrier上。

5. Backgrinding:對硅基板的背面進行機械研磨,去除大部分材料,減薄晶圓。這一步驟使整個晶圓更薄,更適合疊加。

6. Si Etching, Passivation, and Cu Revealing:刻蝕去除多余的硅,鍍氧化硅薄膜,并露出TSV的銅部分。

7. C4 Wafer Bumping:在芯片上形成凸點焊球,便于芯片間的電氣連接。

8. 第二次臨時鍵合:使用臨時鍵合膠將TSV轉換板鍵合到第二個載體(carrier #2)上,進行進一步的處理。

9. 去鍵合載體#1:解鍵合將晶圓從第一個載體上分離。

10. Chip-on-Wafer, Underfill:將芯片通過倒裝焊接到TSV轉換板上,并進行底填充。圖中只列出了一種芯片,一般在CoWoS有多種芯片,這里只是示意圖。

11. 去鍵合載體#2和切割:通過解鍵合技術將TSV轉換板從第二個載體上分離,并將其切割成一粒一粒的狀態。

12. 封裝:將11中的成品組裝到封裝基板上,并進行最終的測試和底填充。

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原文標題:CoWoS的一般工藝流程

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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