10月23日消息，據外媒The register援引知識產權公司 Mathys & Squire 的數據稱，近年來全球半導體專利申請量持續(xù)激增，2023年-2024年度全球半導體專利申請量同比增長22%，達到80892項，同比增長22%。其中，中國的半導體申請量從 32,840 件激增至 46,591 件，增幅高達 42%，超過其他所有國家和地區(qū)。

有媒體報道稱，這一顯著增長的背后，主要由于是美國對中國半導體出口管制，促使中國加大了對本土半導體研究與開發(fā)的投資。

中國官方也已經明確表示——科技行業(yè)必須自主創(chuàng)新，以避免陷入半導體依賴陷阱。半導體已被推到技術優(yōu)先事項清單的首位，其成果正在專利申請數量中體現出來。

但這一增長并不僅僅受到地緣政治因素的影響，還有AI技術的快速發(fā)展，推動了全球芯片制造商，包括中國的公司，爭相申請下一代AI硬件技術的專利。

與此同時，在《通脹削減法案》的推動下，2023-2024年美國半導體行業(yè)專利申請量也同比增長了9%，達到了21269項。

報告還指出，隨著美國《芯片與科學法案》向芯片制造業(yè)投入資金（臺積電的亞利桑那州工廠就是例子），美國渴望在加大研發(fā)力度的同時，保持其半導體技術的領先和供應鏈的穩(wěn)固。

在半導體制造設備方面，雖然目前在關鍵的光刻機領域，ASML一家獨大，并且其還是全球唯一的EUV（極紫外）光刻機供應商，但是新的國產DUV光刻機（“套刻≤8nm）的曝光，以及國內涌現出的諸多新不同技術路線的EUV光刻相關專利，也反應了國內EUV技術研究的進步。
比如，國家知識產權局2023年6月公布的由中國科學院上海高等研究院申請的《極紫外光源裝置》的發(fā)明專利，該發(fā)明提供了一種極紫外光源裝置，以產生平均功率千瓦量級、全相干、穩(wěn)定的EUV光。（與ASML的LPP光源是完全不同）。

【近期會議】

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11月28-29日，“第二屆半導體先進封測產業(yè)技術創(chuàng)新大會”將再次與各位相見于廈門，秉承“延續(xù)去年，創(chuàng)新今年”的思想，仍將由云天半導體與廈門大學聯合主辦，雅時國際商訊承辦，邀您齊聚廈門·海滄融信華邑酒店共探行業(yè)發(fā)展！誠邀您報名參會：https://w.lwc.cn/s/n6FFne

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審核編輯 黃宇