在半導體封裝技術日新月異的今天,方形扁平無引腳封裝(Quad Flat No-leads Package,簡稱QFN)憑借其體積小、重量輕、散熱性能好、可靠性高等優點,在通信設備、計算機硬件、消費電子、汽車電子以及工業控制系統等領域得到了廣泛應用。然而,QFN封裝的可靠性在很大程度上取決于其引線框架的設計、制造和工藝控制。本文將深入探討影響QFN引線框架可靠性的關鍵因素,以期為提高QFN封裝的整體質量提供參考。
一、引線框架的結構設計
QFN引線框架作為塑封集成電路的重要材料,承載著芯片,連接外部線路板以傳輸電信號,并起到固定芯片的作用。因此,引線框架的結構設計對塑封器件的可靠性至關重要。
抗分層設計:
引線框架和塑封料之間的粘結強度是影響塑封器件可靠性的關鍵因素之一。為了增強粘結強度,避免分層現象,引線框架在設計階段會引入一些特殊結構設計。例如,在DIP傳統封裝形式中會引入開孔和拐角形式設計,在QFP引線框架中會在PAD背部加入dimple設計。對于QFN封裝形式的引線框架,可以利用半腐蝕技術在背面形成嵌套結構,或者在多引腳大尺寸的QFN引線框架設計中引入異形引腳設計、鎖料孔、條裝鎖料槽以及X形半蝕刻塑料槽等,以提高抗分層可靠性。
熱膨脹系數匹配:
引線框架與塑封料之間的熱膨脹系數(CTE)差異是導致封裝體開裂的主要原因之一。為了減少熱應力,引線框架材料的選擇應盡可能與塑封料的CTE相匹配。此外,還可以通過設計合理的引線框架結構,如采用多層復合材料或添加CTE調節層,以進一步優化CTE匹配性。
二、表面處理工藝
引線框架的表面處理工藝對其可靠性也有顯著影響。不同的表面處理工藝可以改善引線框架的導電性、導熱性和抗氧化性,從而提高塑封器件的可靠性。
電鍍工藝:
電鍍工藝是引線框架制造過程中的重要環節。通過電鍍,可以在引線框架表面形成一層致密、均勻的金屬鍍層,提高導電性和抗氧化性。然而,電鍍過程中容易出現銀背漏、側漏等問題,影響封裝器件的可靠性。為了解決這些問題,可以采用卷式先鍍后蝕工藝。該工藝通過覆蓋一層感光干膜,依次進行曝光、顯影和電鍍三道工序,在銅帶表面完成電鍍圖形。接著,進行二次覆感光干膜,并經過曝光、顯影和蝕刻三道工序,完成引線框架的成型。最后,通過切斷工序,獲得無銀背漏和側漏的成品。這種工藝不僅大幅提升了生產效率,還能徹底解決銀背漏和側漏問題。
粗化技術:
引線框架的表面粗化技術也是提高其可靠性的重要手段。常見的粗化技術包括電鍍銅粗化技術、銅面棕色氧化工藝和有機酸超粗化技術。電鍍銅粗化技術使用五水合硫酸銅作為電鍍液,在引線框架銅合金表面電鍍生成一層粗糙致密的銅顆粒層,使引線框架表面粗糙化。銅面棕色氧化工藝則是在電鍍完成后,通過化學方法在金屬銅表面形成金屬有機化合物,咬蝕表面形成均勻的表面粗糙度。而有機酸超粗化技術則以醋酸銅和氯化銨為主要成分配置的腐蝕液,通過晶界腐蝕原理腐蝕銅材表面并形成凹凸形狀的粗化特征。這些粗化技術可以提高引線框架與塑封料之間的結合力,從而提高封裝器件的可靠性。
三、制造工藝
引線框架的制造工藝對其可靠性同樣具有重要影響。目前,引線框架的制造工藝主要分為冷沖壓和化學腐蝕兩種,隨后通過電鍍工藝完成制造。此外,隨著卷式先鍍后蝕工藝的出現,使得引線框架的工藝更加多樣化,能滿足客戶快速出樣和大規模量產化的需求。
冷沖壓工藝:
冷沖壓工藝具有生產效率高、成本低等優點,適用于大規模量產。然而,冷沖壓工藝容易導致引線框架產生內應力,影響封裝器件的可靠性。因此,在冷沖壓過程中需要嚴格控制工藝參數,如沖壓速度、沖壓力度等,以減少內應力的產生。
化學腐蝕工藝:
化學腐蝕工藝具有精度高、表面質量好等優點,適用于高精度引線框架的制造。然而,化學腐蝕工藝也存在一定的局限性,如腐蝕液穩定性不易控制、容易帶入雜質等。因此,在化學腐蝕過程中需要嚴格控制腐蝕液的配方和工藝參數,以確保引線框架的質量和可靠性。
卷式先鍍后蝕工藝:
卷式先鍍后蝕工藝是一種新型的引線框架制造工藝。該工藝通過覆蓋一層感光干膜,依次進行曝光、顯影和電鍍三道工序,在銅帶表面完成電鍍圖形。接著進行二次覆感光干膜和蝕刻工序,完成引線框架的成型。最后通過切斷工序獲得成品。卷式先鍍后蝕工藝不僅大幅提升了生產效率,還能徹底解決銀背漏和側漏問題,提高封裝器件的可靠性。
四、材料選擇
引線框架的材料選擇對其可靠性也具有重要影響。合適的材料可以提高引線框架的導電性、導熱性和抗氧化性,從而提高塑封器件的可靠性。
銅合金材料:
銅合金材料具有良好的導電性、導熱性和可塑性,是引線框架制造中常用的材料。然而,不同牌號的銅合金材料在性能上存在一定差異。因此,在選擇銅合金材料時需要根據具體的應用場景和要求進行選擇。例如,對于高頻應用場景,可以選擇具有高導電性和低介電常數的銅合金材料;對于高溫應用場景,可以選擇具有高耐熱性和抗氧化性的銅合金材料。
鍍層材料:
鍍層材料的選擇對引線框架的可靠性同樣具有重要影響。常見的鍍層材料包括銀、鎳、金等。銀鍍層具有良好的導電性和抗氧化性,但容易產生銀遷移現象;鎳鍍層具有良好的抗氧化性和耐腐蝕性,但導電性較差;金鍍層則具有良好的導電性、抗氧化性和耐腐蝕性,但成本較高。因此,在選擇鍍層材料時需要根據具體的應用場景和要求進行選擇。例如,對于高頻應用場景,可以選擇具有高導電性的銀鍍層;對于高溫應用場景,可以選擇具有高耐熱性和抗氧化性的金鍍層。
五、封裝工藝控制
封裝工藝控制也是影響QFN引線框架可靠性的關鍵因素之一。在封裝過程中,需要嚴格控制各項工藝參數,如烘烤溫度、烘烤時間、焊接溫度等,以確保封裝器件的質量和可靠性。
烘烤工藝控制:
烘烤工藝是塑封器件制造過程中的重要環節。通過烘烤可以去除塑封料中的揮發分和殘留應力,提高塑封器件的可靠性。然而,烘烤溫度過高或時間過長都可能導致引線框架發生氧化或變形等問題。因此,在烘烤過程中需要嚴格控制烘烤溫度和烘烤時間等工藝參數。
焊接工藝控制:
焊接工藝是QFN封裝器件制造過程中的關鍵環節。焊接質量的好壞直接影響封裝器件的可靠性。為了確保焊接質量,需要嚴格控制焊接溫度、焊接時間以及焊膏的用量等工藝參數。此外,還需要對焊接后的焊點進行質量檢查,以確保焊點的完整性和可靠性。
六、結論
綜上所述,影響QFN引線框架可靠性的關鍵因素包括引線框架的結構設計、表面處理工藝、制造工藝、材料選擇以及封裝工藝控制等方面。為了提高QFN封裝的整體質量,需要從這些方面入手,不斷優化和改進相關技術和工藝。同時,還需要加強質量檢測和控制,確保每個環節都符合相關標準和要求。只有這樣,才能生產出高可靠性、高質量的QFN封裝器件,滿足市場需求并推動半導體產業的持續發展。
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