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半導體封裝工藝流程的主要步驟

中科院半導體所 ? 來源:學習那些事 ? 2025-05-08 15:15 ? 次閱讀
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文章來源:學習那些事

原文作者:前路漫漫

本文介紹了半導體封裝工藝流程的主要步驟。

概述

半導體的典型封裝工藝流程包括芯片減薄、芯片切割、芯片貼裝、芯片互連、成型固化、去飛邊毛刺、切筋成型、上焊錫、打碼、外觀檢查、成品測試和包裝出庫,涵蓋了前段(FOL)、中段(EOL)、電鍍(plating)、后段(EOL)以及終測(final test)等多個關鍵環節。

芯片減薄

首先是芯片減薄,芯片減薄環節這對應著實際操作中的背面減薄(back grinding)。具體而言,就是把從晶圓廠產出的晶圓進行背面研磨處理,將晶圓的厚度精準減薄至封裝所要求的范圍。在實施磨片操作時,為了保護晶圓正面的電路區域(active area),需要在正面貼上膠帶,然后同步進行背面的研磨工作。當研磨完成后,小心地去掉膠帶,并對晶圓的厚度進行精確測量。

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背面減薄

芯片切割

接下來是芯片切割步驟,也就是晶圓切割(wafer saw),該步驟又細分為三個子步驟:晶圓安裝(wafer mount)、晶圓切割及清洗(wafer wash)。第一步是將晶圓牢固地粘貼在藍膜(mylar)之上,確保即使在后續的切割過程中,晶圓也不會出現散落的情況。第二步,通過鋸片(saw blade)將整片晶圓細致地切割成一個個獨立的方塊(dice),以便為后續的芯片貼裝(die attach)等工序做好準備。第三步的晶圓清洗,主要是為了清除在切割過程中產生的各類粉塵,避免這些粉塵進入到后續的工序中,影響產品質量。

芯片貼裝

完成芯片切割后,緊接著進行第一次外觀檢查,即第二道光檢(2nd optical inspection)。這一步驟主要是在顯微鏡下對切割后的晶圓進行全面的外觀檢查,仔細查看是否存在廢品。當檢查完畢且確認無廢品后,便進入到芯片貼裝環節(die attach)。芯片貼裝又可細分為點銀漿(write epoxy)、芯片粘接及銀漿固化(epoxy cure)這三個具體步驟。銀漿需要在極為低溫的-50℃環境下妥善保存,在使用之前,要先進行回溫處理,以徹底除去其中的氣泡,之后才可以進行點銀漿的操作。在銀漿固化時,需要將溫度保持在175℃,并持續1小時,同時為了避免銀漿被氧化,該過程需要在氨氣環境中進行。

芯片互連

芯片互連是將芯片焊區與電子封裝外殼的O引線或基板上的金屬布線焊區相連接,實現芯片功能的制造技術。其服務對象包括芯片與芯片間、芯片與封裝襯底間以及器件與基板間的物理連接。

芯片互連的常見方法包括引線鍵合(leadbonding,LB;又稱打線鍵合)技術、載帶自動鍵合(TAB)技術和倒裝芯片鍵合(flip chipbonding,FCB)技術三種。其中,倒裝芯片鍵合技術又稱C4--可控塌陷芯片互連技術。

成型固化

完成芯片互連后,進入到成型固化步驟,這其中包含了注塑(molding)和模后固化(post mold cure)兩個部分。注塑所使用的塑封料呈現為黑色塊狀,與銀漿類似,在使用前需要進行低溫存儲,使用時則要先進行回溫處理。塑封料具有特殊的特性,在高溫環境下,它會先處于熔融狀態,然后逐漸硬化,通常經過60~120秒之后就會成型。在進行注塑操作時,先將引線框(L/F)放置于模具之中,確保每個芯片都準確位于相應的腔體中,合模后,把塊狀塑封料放入模具孔內。在高溫的作用下,塑封料會迅速熔化并流入腔體,從底部開始逐漸覆蓋芯片。模后固化是指在注塑之后,將產品置于(175±5)℃的溫度環境下,經過大約8小時的時間,對塑封料進行充分固化,這樣做的目的是為了更好地保護IC的內部結構,并有效消除內部應力。

去飛邊毛刺

在注塑工序完成后,產品表面往往會殘留多余的塑封材料,此時便需進入去飛邊毛刺環節,對應實際生產中的去溢料(de-flash)工藝。該步驟通過組合式處理方法,先利用弱酸溶液對器件進行浸泡,使溢料部分發生適度化學溶蝕,削弱其與主體結構的結合力;再借助高壓水沖洗,以強勁的水流沖擊力將溶蝕后的溢料徹底清除,從而讓管體周圍及引線間的多余物質完全剝離,使產品外觀達到潔凈規整的標準,為后續加工奠定良好基礎。

上焊錫

緊接著的上焊錫工序,專業術語稱為電鍍(plating),這是提升器件性能與可靠性的關鍵步驟。電鍍工藝運用電化學或化學沉積原理,在引線框表面構建起一層均勻致密的金屬鍍層。這層防護層如同堅固的鎧甲,能夠有效抵御潮濕空氣、高溫等外界環境因素對器件的侵蝕;同時顯著改善元器件與印刷電路板(PCB)之間的焊接適配性,降低接觸電阻,增強導電性能。

當前,電鍍技術主要分為無鉛電鍍與鉛錫合金電鍍兩大類型。無鉛電鍍采用純度超99.95%的高純度錫作為鍍層材料,憑借環保優勢與優異的電氣性能,成為符合ROHS環保指令要求的主流工藝,廣泛應用于各類電子產品制造。而鉛錫合金電鍍,因其合金成分中含15%的鉛與85%的錫,因不符合環保規范,在綠色制造趨勢下已逐漸退出市場。

完成電鍍后,還需進行電鍍退火(post annealing bake)處理。將經過無鉛電鍍的產品置于(150±5)℃的高溫環境中烘烤特定時長,這一過程能夠有效釋放電鍍層內部應力,抑制晶須生長風險。晶須作為金屬鍍層表面自發形成的針狀晶體,若任其生長,可能引發短路等嚴重電氣故障,通過退火工藝可從根本上消除此類潛在隱患,確保產品長期穩定運行 。

打碼

之后是打碼步驟,即激光打字(laser mask),該步驟是指利用激光技術,將產品名稱、生產日期、批次等重要信息清晰地刻到產品的背面或正面。

切筋成型

再之后是切筋成型步驟,即切筋/成型(trim & form)。切筋是指將一整條片的引線框精確切割成單獨的單元,而成型則是指對切筋之后的IC產品進行引腳成型處理,使其達到工藝要求的特定形狀,最后將成型后的產品放置到管或者盤中。然后是第三次外觀檢查,即第四道光檢(final visual inspection),這是在低倍放大鏡下,對產品的外觀進行全面檢查,主要針對后段工藝可能產生的注塑缺陷、電鍍缺陷以及切筋/成型缺陷等問題進行仔細排查。

成品測試與包裝出庫

完成外觀檢查后,進入成品測試環節,對產品的各項性能指標進行全面且嚴格的測試,確保產品符合質量標準。

最后是包裝出庫步驟,將通過測試的產品進行精心包裝,然后按照相關流程出庫,準備交付客戶使用。

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原文標題:半導體封裝工藝流程簡介

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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