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淺談封裝材料失效分析

中科院半導體所 ? 來源:學習那些事 ? 2025-07-09 09:40 ? 次閱讀
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文章來源:學習那些事

原文作者:前路漫漫

本文簡述了PCB、電子元器件、金屬、高分子材料復合材料和涂層鍍層的失效分析。

在電子封裝領域,各類材料因特性與應用場景不同,失效模式和分析檢測方法也各有差異。

PCB/PCBA 失效分析

印刷電路板(PCB)作為電子信息產品中承載元器件、傳輸電路信號的核心載體,其質量優劣與可靠性高低,直接關乎整機設備的性能表現。PCB 常見的失效模式豐富多樣,涵蓋爆板、分層、短路、起泡、焊接缺陷以及腐蝕遷移等多種類型。

在 PCB 失效檢測技術體系中,無損檢測占據重要地位。X 射線透視、三維 CT 掃描、掃描聲學顯微鏡(C-SAM)及紅外熱成像等技術,無需破壞樣品,便能精準展現 PCB 內部結構細節,有效識別隱藏缺陷。表面元素剖析則依賴掃描電鏡 - 能譜儀(SEM/EDS)、顯微紅外光譜儀(FTIR)、俄歇電子能譜儀(AES)、X 射線光電子能譜儀(XPS)、飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)等設備,深入解析材料表面的元素構成與化學狀態。熱性能研究通過差示掃描量熱法(DSC)、熱機械分析(TMA)、熱重分析(TGA)、動態熱機械分析(DMA),配合穩態熱流法與激光散射法測定熱導率,探究材料在不同溫度下的性能變化規律。電性能測試涵蓋擊穿電壓、耐電壓、介電常數及電遷移測試等項目,全面評估 PCB 的電氣性能表現。而染色滲透檢測作為破壞性檢測手段,能夠進一步揭示材料內部的細微缺陷。

電子元器件失效分析

電子元器件的可靠性研究致力于通過多元技術手段,提升其在實際應用中的穩定性能。在服役過程中,元器件易出現開路、短路、漏電、功能失效、電參數波動及性能不穩定等故障。

在失效檢測流程里,電學性能檢測是關鍵的初始環節。通過連接性測試、電參數精確測量和功能完整性測試,可快速判斷元器件的電氣功能是否正常。無損檢測借助機械開封、化學開封、激光開封等技術,結合化學腐蝕、等離子腐蝕、機械研磨等去鈍化層方法,以及聚焦離子束(FIB)、芯片探針(CP)等微區分析技術,實現對元器件內部結構的精細觀察。制樣技術為后續分析提供標準樣本;光學顯微技術與掃描電子顯微鏡二次電子成像技術,從微觀層面呈現元器件的表面形貌特征。表面元素分析運用掃描電鏡 - 能譜儀(SEM/EDS)、俄歇電子能譜儀(AES)、X 射線光電子能譜儀(XPS)、二次離子質譜儀(SIMS)等先進工具,準確測定元器件表面的元素成分。此外,X 射線透視、三維成像及反射式掃描聲學顯微技術(C-SAM)等無損檢測方式,能夠有效探測元器件內部的缺陷隱患。

金屬材料失效分析

金屬封裝材料的失效誘因繁雜,涉及多個方面,常見的失效模式包括設計不合理、材料本身存在缺陷、鑄造工藝出現問題、焊接質量不達標以及熱處理操作不當等情況 。這些失效問題會對金屬封裝材料的性能與可靠性產生嚴重影響。

為了準確找出金屬材料失效的根本原因,需要綜合運用多種檢測手段。在微觀組織分析方面,借助金相分析、X 射線相結構分析、表面殘余應力分析以及晶粒度檢測等方法,深入研究金屬材料的微觀結構特征,探尋結構變化與失效之間的關聯 。成分分析依賴直讀光譜儀、X 射線光電子能譜儀(XPS)、俄歇電子能譜儀(AES)等專業設備,對材料的化學成分進行精確測定。X 射線衍射儀(XRD)則在物相分析中發揮關鍵作用,用于確定材料中具體的物相組成。通過 X 射線應力測定儀開展殘余應力分析,能夠檢測材料內部的應力分布狀態。此外,利用萬能試驗機、沖擊試驗機、硬度試驗機等設備進行機械性能測試,可全面評估材料的各項力學性能指標,為失效分析提供有力的數據支撐。

高分子材料失效分析

高分子材料作為封裝技術的重要組成部分,在保障封裝性能方面發揮著核心作用。但在實際的電子封裝應用場景中,高分子材料面臨著較為嚴峻的失效問題,其失效表現形式多樣,涵蓋斷裂、開裂、分層、腐蝕、起泡、涂層脫落、變色、磨損等多種類型 。這些失效現象不僅會破壞封裝結構的完整性,還可能干擾電子設備的正常運轉,影響設備的性能與使用壽命。

針對高分子材料的失效檢測,目前已形成了一套全面且豐富的檢測體系。在成分分析領域,傅里葉紅外光譜儀(FTIR)、顯微共焦拉曼(Raman)光譜儀、掃描電鏡及能譜分析(SEM/EDS)、X 射線熒光光譜分析(XRF)等多種先進儀器協同作用,能夠深入剖析材料的化學成分與分子結構 。熱分析借助差示掃描量熱法(DSC)、熱機械分析(TMA)、熱重分析(TGA)等技術,結合穩態熱流法、激光散射法測量導熱系數,系統地研究材料在不同溫度環境下的性能變化規律。裂解分析采用裂解氣相色譜 - 質譜法、凝膠滲透色譜分析(GPC)、熔融指數測試(MFR)等方法,探究材料的熱裂解行為以及分子鏈結構特點。斷口分析利用掃描電子顯微鏡(SEM)、X 射線能譜儀(EDS),對材料斷裂后的表面形貌和元素分布情況進行分析,從而推斷失效的具體原因。此外,借助硬度計、拉伸試驗機、萬能試驗機等設備開展物理性能測試,能夠全面評估高分子材料的力學性能,為失效分析和材料優化提供重要依據。

復合材料失效分析

復合材料由兩種及以上不同性質材料復合而成,憑借高比強度、優異韌性和良好環境適應性等顯著優勢,在封裝生產中得到廣泛應用。但在實際使用過程中,也會出現斷裂、變色、腐蝕、機械性能下降等失效現象。

為有效檢測復合材料失效問題,多種技術手段綜合運用。無損檢測技術作為重要的初步篩查方法,涵蓋射線檢測技術(如 X 射線、γ 射線、中子射線檢測)、工業 CT、康普頓背散射成像(CST)技術、超聲檢測技術(穿透法、脈沖反射法、串列法)等,可在不破壞樣品的情況下,發現材料內部缺陷與損傷 。成分分析主要借助 X 射線熒光光譜分析(XRF)等方法,確定材料元素組成 。熱分析采用熱重分析法(TG)、差示掃描量熱法(DSC)、靜態熱機械分析法(TMA)等技術,研究材料熱穩定性與熱機械性能 。對于需要深入觀察內部結構的情況,通過金相切片、聚焦離子束(FIB)制樣、離子研磨(CP)制樣等切片分析的破壞性實驗,獲取微觀層面詳細信息。

涂層 / 鍍層失效分析

涂層 / 鍍層在使用過程中,分層、開裂、腐蝕、起泡、脫落、變色等失效情況較為常見,這些問題會削弱其對基底材料的保護作用,影響產品外觀與性能。

在檢測手段方面,涂層 / 鍍層的無損檢測、成分分析、熱分析方法與高分子材料檢測存在諸多相似之處。此外,斷口分析利用體式顯微鏡(OM)、掃描電鏡分析(SEM),細致觀察涂層 / 鍍層斷裂處微觀形貌,深入分析失效機理 ;通過拉伸強度、彎曲強度等力學性能測試,評估涂層 / 鍍層與基底的結合強度及自身力學性能,為失效原因判斷與工藝改進提供有力依據。

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原文標題:封裝材料失效分析

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