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在半導體設計領域,部分企業(yè)研發(fā)能力已達7納米

xPRC_icunion ? 來源:YXQ ? 2019-05-23 14:10 ? 次閱讀
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半導體是國內(nèi)目前大力發(fā)展的產(chǎn)業(yè),也是國內(nèi)公司對美國依賴最多的行業(yè)之一。在設計、制造及封裝三個環(huán)節(jié)中,國內(nèi)公司在封測行業(yè)發(fā)展的還不錯,江蘇長電科技是全球第三大封測公司,TOP10廠商中有三家國內(nèi)公司。

國內(nèi)比較薄弱的是半導體設計及制造,尤其是半導體工藝,目前臺積電、三星Intel已經(jīng)量產(chǎn)了10nm及7nm工藝,國內(nèi)目前最先進的量產(chǎn)工藝還是28nm,14/12nm工藝尚未正式量產(chǎn),差距至少有兩三代,而高性能芯片更依賴先進工藝。

日前上海市政府舉行了新聞發(fā)布會,副市長吳清和上海市經(jīng)信委總工程師張英分別介紹了上海加快建設具有全球影響力的科技創(chuàng)新中心五年以來的主要進展以及未來上海加快建設具有全球影響力的科技創(chuàng)新中心的計劃。

吳清表示,2018年上海集成電路產(chǎn)業(yè)銷售規(guī)模達1450億元,占全國的1/5,目前在全力打造集成電路創(chuàng)新高地。

根據(jù)吳市長的消息,在半導體設計領域,部分企業(yè)研發(fā)能力已達7納米,紫光展銳手機基帶芯片市場份額位居世界第三。

半導體制造領域,中芯國際、華虹集團年銷售額在國內(nèi)位居前兩位,28納米先進工藝已量產(chǎn),14納米工藝研發(fā)基本完成。

在裝備材料領域,中微、上微處于國內(nèi)領先水平,刻蝕機、光刻機等戰(zhàn)略產(chǎn)品已達到或接近國際先進水平。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:上海政府:芯片設計能力已達7nm,光刻機國際先進水平

文章出處:【微信號:icunion,微信公眾號:半導體行業(yè)聯(lián)盟】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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