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微捷碼32/28納米低功耗工藝層次化參考流程

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2013-07-25 10:10:521049

中芯國際采用Cadence數(shù)字流程 提升40納米芯片設計能力

中芯國際新款40納米 Reference Flow5.1結合了最先進的Cadence CCOpt和GigaOpt工藝以及Tempus 時序簽收解決方案, 新款RTL-to-GDSII數(shù)字流程支持Cadence的分層低功耗流程和最新版本的通用功率格式(CPF).
2013-09-05 10:45:031839

ARM與聯(lián)華電子達成最新的28HPC POP工藝合作,擴大28納米IP領先地位

  2016年2月5日,北京訊——ARM 宣布,從即日起全球晶圓專工領導者聯(lián)華電子(UMC)的28納米28HPCU工藝可采用ARM? Artisan? 物理IP平臺和ARM POP? IP。
2016-02-15 11:17:49896

Cadence 與 SMIC 聯(lián)合發(fā)布低功耗 28納米數(shù)字設計參考流程

“我們與 Cadence 密切合作開發(fā)參考流程,幫助我們的客戶加快其差異化的低功耗、高性能芯片的設計,”中芯國際設計服務中心資深副總裁湯天申博士表示,“Cadence創(chuàng)新的數(shù)字實現(xiàn)工具與中芯國際28納米工藝的緊密結合,能夠幫助設計團隊將28納米設計達到更低的功耗以及更快的量產(chǎn)化?!?/div>
2016-06-08 16:09:562242

除了低功耗與低成本,F(xiàn)D-SOI還有什么優(yōu)勢?

28納米以后邏輯工藝開始分岔:立體工藝FinFET由于獲得英特爾與臺積電的主推成為主流,14/16納米都已量產(chǎn),10納米工藝也有可能在2017年量產(chǎn);體硅工藝停止在28納米,想增加集成度而又對FinFET開發(fā)成本望而卻步的半導體公司另辟蹊徑。
2016-11-04 19:12:11846

臺積電tsmc低功耗技術大進展,極低功耗半導體是電子的關鍵

臺積電業(yè)務開發(fā)副總經(jīng)理金平中指出,臺積電的超低功耗平臺包括55納米低功耗技術、40納米低功耗技術、22納米低功耗/超低漏電技術等,都已經(jīng)被各種穿戴式產(chǎn)品和物聯(lián)網(wǎng)應用采用,同時,臺積電也把超低功耗
2017-12-11 15:03:291409

智原科技與聯(lián)華電子共同發(fā)表55納米低功耗工藝(55ULP)的PowerSlash基礎IP方案

于聯(lián)電55納米低功耗工藝(55ULP)的 PowerSlash 基礎IP方案。智原 PowerSlash 與聯(lián)電工藝技術相互結合設計,為超低功耗的無線應用需求技術進行優(yōu)化,滿足無線物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)品的電池長期壽命需求。 智原科技營銷暨投資副總于德洵表示:物聯(lián)網(wǎng)應用建構過程中,效能往往受制于低功耗技術。
2018-03-05 15:08:005142

聯(lián)芯28納米HKMG試產(chǎn)良率達98% 國內(nèi)最先進的28納米晶圓工藝

位于廈門火炬高新區(qū)的聯(lián)芯集成電路制造(廈門)有限公司日前傳來喜訊,已于今年2月成功試產(chǎn)采用28納米High-K/Metal Gate 工藝制程的客戶產(chǎn)品,試產(chǎn)良率高達 98%。這是該公司28納米
2018-03-31 15:28:5011192

賽靈思Kintex-7低功耗演示

賽靈思7系列FPGA產(chǎn)品通過采用新的工藝和新的架構方式,成功將產(chǎn)品的功耗顯著降低。7系列FPGA產(chǎn)品的實測功耗與上一代產(chǎn)品相比,降低了約一半。采用臺積電全新28HPL工藝,賽靈思7系列28nm FPGA產(chǎn)品同時實現(xiàn)了高性能和低功耗。
2018-06-05 13:45:004085

Credo于TSMC 2018南京OIP研討會首次公開展示7納米工藝結點112G SerDes

Credo 在2016年展示了其獨特的28納米工藝節(jié)點下的混合訊號112G PAM4 SerDes技術來實現(xiàn)低功耗100G光模塊,并且快速地躍進至16納米工藝結點來提供創(chuàng)新且互補的112G連接
2018-10-30 11:11:125204

華力28納米低功耗工藝平臺芯片進入量產(chǎn)階段

近日,華虹集團旗下中國領先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設計領導廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2018-12-12 15:15:012029

基于上海華力28納米低功耗工藝平臺處理芯片成功量產(chǎn)

12月11日,華虹集團旗下中國領先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設計領導廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2018-12-14 15:47:303159

上海華力28納米低功耗工藝進入量產(chǎn)

華虹集團旗下中國領先的12英寸晶圓代工企業(yè)上海華力與全球IC設計領導廠商---聯(lián)發(fā)科技股份有限公司(以下簡稱“聯(lián)發(fā)科技”)共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一---基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2019-01-01 15:13:003780

基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的芯片進入量產(chǎn)

華虹集團旗下上海華力與聯(lián)發(fā)科技股份有限公司共同宣布,在兩家公司的互相信任及持續(xù)努力下,近日雙方合作成果之一——基于上海華力28納米低功耗工藝平臺的一顆無線通訊數(shù)據(jù)處理芯片成功進入量產(chǎn)階段。
2019-01-07 14:15:453224

ASIC低功耗設計詳解及相關書籍推薦

低功耗設計是一個整體的概念,意思是它在每個設計層次上都可以進行功耗的優(yōu)化——算法層次的優(yōu)化、RTL級代碼的優(yōu)化、門級網(wǎng)表的優(yōu)化、版圖布局的優(yōu)化等等。
2019-02-02 17:20:005693

6大全新28nm 器件,功耗再降30%,擴大 28nm 領先地位

持續(xù)創(chuàng)新 28HPL 高性能低功耗工藝,成就跨越全新中低端器件,和 Artix-7 FPGA、Kintex-7 FPGA 及 Zynq-7000 SoC 產(chǎn)品系列的全新低功耗工業(yè)速度等級的器件敬請
2019-08-01 09:07:323066

智原科技28/40納米單芯片ASIC設計量三年倍增

28納米與40納米為目前半導體市場上的主流工藝,無論是IP、光罩與晶圓等技術均趨于穩(wěn)定成熟,成本大幅低于FinFET工藝。
2019-09-19 14:43:291446

什么是低功耗,對FPGA低功耗設計的介紹

功耗高度依賴于用戶的設計,沒有哪種單一的方法能夠實現(xiàn)這種功耗的降低。目前許多終端市場對可編程邏輯器件設計的低功耗要求越來越苛刻。在消費電子領域,OEM希望采用FPGA的設計能夠實現(xiàn)與ASIC相匹敵的低功耗。 盡管基于90nm工藝的FPGA的功耗已低
2020-10-28 15:02:132498

DSP不同層次低功耗設計研究思路綜述

級四個層次按照自頂向下的電路設計方法,在不同設計層次上對功耗進行優(yōu)化時,改善的程度是不同的,設計層次越高,優(yōu)化所能達到的效果越好。本論文對各個層次低功耗設計技術進行了研究和分析,并將系統(tǒng)級總線編碼技術作為
2021-04-13 16:49:3719

MCU--低功耗處理流程

現(xiàn)在電子產(chǎn)品一般都有要求低功耗,不同的MCU,進入低功耗的處理流程可能不一樣,但是大致的流程還是一樣?,F(xiàn)對MCU進入低功耗的處理流程大致如下:(1)關閉MCU之外的外設電源,例如:RS485、CAN
2021-10-25 11:36:0218

低功耗設計

都導通時所引起的功耗。低功耗設計方法對于系統(tǒng)是在低功耗下提高性能,還是高性能下降低功耗,這對采樣什么樣的低功耗技術很關鍵。下圖是基于低功耗反饋的前向設計法,如圖,可以看出五個層次下對系統(tǒng)的功耗進行優(yōu)化,自頂向下分別對應系統(tǒng)級、行為級、RTL級、邏輯級和物理級。下圖說明了各層次的具體優(yōu)化方法和優(yōu)化效果,可以看到層次
2021-11-06 15:51:0118

低功耗設計

功耗存在。靜態(tài)功耗:也稱待機功耗,靜態(tài)功耗主要由晶體管的漏電流所導致的功耗。動態(tài)功耗:包括開關功耗或者成為翻轉功耗、短路功耗或者稱為內(nèi)部功耗;動態(tài)功耗影響因素:門寄生電容、時鐘翻轉翻轉、時鐘頻率、供電電壓;降低功耗:應當在所有涉及層次上進行,即系統(tǒng)級、邏輯級和物理即,層次越高對功耗降低越有效;在系統(tǒng)
2021-11-06 17:21:0114

低功耗貫穿芯片設計全流程

低功耗一直是便攜式電子設備的關鍵要求,但近年來,在人工智能、5G、大數(shù)據(jù)中心、汽車等應用快速發(fā)展的推動下,對低功耗的需求已經(jīng)擴散到更多的終端產(chǎn)品中。
2023-02-14 09:10:59778

無壓燒結銀工藝和有壓燒結銀工藝流程區(qū)別

無壓燒結銀工藝和有壓燒結銀工藝流程區(qū)別如何降低納米燒結銀的燒結溫度、減少燒結裂紋、降低燒結空洞率、提高燒結體的致密性和熱導率成為目前研究的重要內(nèi)容。燒結銀的燒結工藝流程就顯得尤為重要
2022-04-08 10:11:34778

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