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伯東企業(yè)(上海)有限公司

上海伯東是德國(guó)Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品,美國(guó) KRI 離子源,美國(guó)HVA 真空閥門,美國(guó) inTEST熱流儀代理商

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上海伯東超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter

型號(hào): UHV Sputter

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 產(chǎn)地 中國(guó)臺(tái)灣

--- 產(chǎn)品詳情 ---

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12托, 超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要, 因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)過(guò)程中, 表面應(yīng)保持無(wú)污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用, 而不會(huì)受到氣相散射的干擾并可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高質(zhì)量的薄膜.

上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

上海伯東超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化基板尺寸, 最大直徑可達(dá)12寸晶圓
薄膜均勻度小于±3%
磁控濺鍍?cè)?(最多8個(gè)源), 具有多種可選的靶材尺寸
具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍?cè)?br>射頻, 直流或脈沖直流, 分別用于非導(dǎo)電與導(dǎo)電靶材
精準(zhǔn)流量控制器 (最多4條氣體管線)
基板可加熱到 1000°C
基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的
每個(gè)濺鍍?cè)春突寰惭b遮板

超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷, 來(lái)保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定.
超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter


磁控濺鍍?cè)O(shè)備基本參數(shù)

系統(tǒng)類型Real 超高真空超高真空高真空緊湊型高真空
極限真空5X10-10 Torr5X10-9 Torr3X10-7 Torr5X10-7 Torr
腔室密封全部 CF(烘烤)一些密封圈(烘烤)全部密封圈全部密封圈
電子槍3-4, 2-3 英寸3-4, 2-4 英寸3-4, 2-4 英寸3-4, 2-3 英寸
電源DC / DC pulse / RFDC / DC pulse / RFDC / DC pulse / RFDC / DC pulse / RF
Load-lock標(biāo)準(zhǔn)(HV)標(biāo)準(zhǔn)(HV)標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選標(biāo)準(zhǔn)(HV)/可選
基板4-6 英寸
加熱至 800°C或水冷
4-8 英寸
加熱至 800°C或水冷
4-8 英寸
加熱至 800°C
4-6 英寸
加熱至 800°C
真空泵低溫泵低溫泵 / 分子泵分子泵分子泵
監(jiān)控真空規(guī)和Baratron真空規(guī)和Baratron真空規(guī)和Baratron真空規(guī)和Baratron
工藝控制部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥部分 / 3位 /手動(dòng)閘閥
氣體氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)氬氣, 氮?dú)? 氧氣(load-lock可選)氬氣, 氮?dú)? 氧氣氬氣, 氮?dú)? 氧氣
射頻偏壓清潔300W RF(清潔和蝕刻)300W RF(清潔和蝕刻)可選可選
離子源100 KRi 離子源100 KRi 離子源可選可選
薄膜鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等鈦氮化鈮NbTiN, 鈮 Nb, 鈀Pd等二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等二氧化硅 SiO2, 氮化硅 Si3N4, 氧化鋁Al2O3 等
磁控濺鍍?cè)O(shè)備 Sputter

腔體
客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
腔體為使用金屬密封圈并可烘烤至 150 oC
具有顯示功能的全量程真空計(jì)和用于壓力控制的 Baratron 真空計(jì)
腔體的極限真空度約10-10 Torr

選件
可以與傳送腔, 機(jī)械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合離子源, 熱蒸發(fā)源, 電子束...
基板可用射頻或直流偏壓
膜厚監(jiān)測(cè)儀
射頻等離子清潔用于基材
OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體類, 納米科技
產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
氧化物, 氮化物和金屬材料的研究
太陽(yáng)能電池
光學(xué)研究, 材料研究

若您需要進(jìn)一步的了解上海伯東磁控濺射鍍膜機(jī), 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士 分機(jī)107


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