資料介紹
集成無源元件技術(shù)可以集成多種電子功能,具有小型化和提高系統(tǒng)性能的優(yōu)勢,以取代體積龐大的分立無源元件。文章主要介紹了集成無源元件技術(shù)的發(fā)展情況,以及采用IPD薄膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)電容。電阻和電感的加工,并探討了IPD對PCB技術(shù)發(fā)展的影響。
1、引言
隨著電子技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體從微米制程進(jìn)入納米制成后,主動(dòng)式電子元件的集成度隨之大幅提升,相對搭配主動(dòng)元件的無源元件需求量更是大幅增長。電子產(chǎn)品的市場發(fā)展趨勢為輕薄短小,所以半導(dǎo)體制程能力的提升,使相同體積內(nèi)的主動(dòng)元件數(shù)大增,除了配套的無源元件數(shù)量大幅增加,也需要有較多的空間來放置這些無源元件,因此必然增加整體封裝器件的體積大小,這與市場的發(fā)展趨勢大相徑庭。從成本角度來看,總成本與無源元件數(shù)量成正比關(guān)系,因此在大量無源元件使用的前提下,如何去降低無源元件的成本及空間,甚至提高無源元件的性能,是當(dāng)前最重要的課題之一。 IPD(Integrated Passive Devices集成無源元件)技術(shù),可以集成多種電子功能,如傳感器。射頻收發(fā)器。微機(jī)電系統(tǒng) MEMS.功率放大器。電源管理單元和數(shù)字處理器等,提供緊湊的集成無源器件IPD產(chǎn)品,具有小型化和提高系統(tǒng)性能的優(yōu)勢。因此,無論是減小整個(gè)產(chǎn)品的尺寸與重量,還是在現(xiàn)有的產(chǎn)品體積內(nèi)增加功能,集成無源元件技術(shù)都能發(fā)揮很大的作用。在過去的幾年中,IPD技術(shù)已經(jīng)成為系統(tǒng)級封裝(SiP)的一個(gè)重要實(shí)現(xiàn)方式,IPD技術(shù)將為“超越穆爾定律”的集成多功能化鋪平道路;同時(shí),PCB的加工可以引入IPD技術(shù),通過IPD技術(shù)的集成優(yōu)勢,可以彌合封裝技術(shù)和PCB技術(shù)之間不斷擴(kuò)大的差距。 IPD集成無源元件技術(shù),從最初的商用技術(shù)已經(jīng)發(fā)展到目前以取代分立無源元件,在ESD/EMI.RF.高亮度LED.數(shù)字混合電路等行業(yè)帶動(dòng)下穩(wěn)步增長。 Yole關(guān)于薄膜集成無源和有源器件的研究報(bào)告預(yù)計(jì),到2013年總市場份額超過10億美元,IPD技術(shù)將被廣泛應(yīng)用于航空航天、軍工、醫(yī)療、工控和通訊等各個(gè)領(lǐng)域的電子行業(yè)。
2、薄膜IPD技術(shù)介紹
IPD技術(shù),根據(jù)制程技術(shù)可分為厚膜制程和薄膜制程,其中厚膜制程技術(shù)中有使用陶瓷為基板的低溫共燒陶瓷LTCC(Low Temperature Co-firedCeramics)技術(shù)和基于HDI高密度互連的PCB印制電路板埋入式無源元件(Embedded Passives)技術(shù);而薄膜IPD技術(shù),采用常用的半導(dǎo)體技術(shù)制作線路及電容、電阻和電感。 LTCC技術(shù)利用陶瓷材料作為基板,將電容、電阻等被動(dòng)元件埋入陶瓷基板中,通過燒結(jié)形成集成的陶瓷元件,可大幅度縮小元件的空間,但隨著層數(shù)的增加,制作難度及成本越高,因此LTCC元件大多是為了某一特定功能的電路;HDI埋入式元器件的PCB技術(shù)通常用于數(shù)字系統(tǒng),在這種系統(tǒng)里只適用于分布裝焊的電容與中低等精度的電阻,隨著元件體積的縮小,SMT設(shè)備不易處理過小元件。雖然埋入式印刷電路板技術(shù)最為成熟,但產(chǎn)品特性較差,公差無法準(zhǔn)確把握,因?yàn)樵潜宦癫卦诙鄬影逯畠?nèi),出現(xiàn)問題后難以進(jìn)行替換或修補(bǔ)調(diào)整。相比LTCC技術(shù)和PCB埋置元器件技術(shù),集成電路的薄膜IPD技術(shù),具有高精度、高重復(fù)性、尺寸小、高可靠度及低成本等優(yōu)點(diǎn),未來勢必成為IPD主流,本文將主要就薄膜IPD技術(shù)進(jìn)行介紹。
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