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微系統(tǒng)中的IPD是什么樣的?IPD技術(shù)分類和市場(chǎng)分析資料概述

2018-09-06 | docx | 0.85 MB | 次下載 | 免費(fèi)

資料介紹

  隨著有源器件集成度不斷提高,越來越多的功能被集成到單片上,這對(duì)集成無源元件形成很大的壓力,無線產(chǎn)品射頻部分尤其明顯。在PCB板上,無源電子元件占91%的數(shù)量、41%的面積和29%的焊點(diǎn),占安裝成本的55%,占體積的70%。在過去的幾年中,SMD電感和電容的密度得到了明顯改進(jìn)。目前市場(chǎng)上購買的大都是01005(250μm×125μm本征區(qū)域) SMD電感和電容元件,使用更小尺寸的SMD無源元件無疑是降低系統(tǒng)整體尺寸的好方法,但是必須以保證成本效益為前提。此時(shí)的問題是,01005 SMD的組裝成本仍然居高不下(4倍于0201部件),而01005部件所使用的元件價(jià)格也相當(dāng)高(4倍于0201部件)。


  2.IPD技術(shù)分類

  目前可用的集成無源器件技術(shù)有3大類,分別是薄膜技術(shù)、低溫共燒陶瓷技術(shù)(LTCC)、基于高密度互連(HDI)的延伸技術(shù)和其他印制電路板(PCB)技術(shù)。

  薄膜IPD技術(shù),基于光刻、CVD沉積、磁控濺射等工藝,膜厚一般在1um以下,可以將無源器件尺寸縮小一個(gè)數(shù)量級(jí)。

  薄膜IPD技術(shù)一般有兩種類型,一種是利用傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝在硅襯底上同時(shí)制作無源和有源元件。采用這種方法工藝均勻性和一致性最好,制成的無源元件的精度最高,但是存在有源器件和無源器件之間的串?dāng)_。還有一種就是采用SIP或者CHipLet焊接技術(shù)將制作好的IC芯片和無源元件集成到一個(gè)封裝架構(gòu)內(nèi),實(shí)現(xiàn)三維形式的系統(tǒng)級(jí)封裝。實(shí)際上這種技術(shù)主要是為了減小有源元件和無源元件協(xié)同設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)難度。

  LTCC是典型的厚膜IPD技術(shù),廣泛運(yùn)用在民用通信、軍用電子中。然而陶瓷基板燒結(jié)時(shí)收縮嚴(yán)重,難以形成高精度埋置元件;厚膜印刷典型線寬在幾十um,而且公差情況不佳,集成度有待提高;需要900°C左右的燒結(jié)溫度,有源器件如IC芯片無法埋置在基板內(nèi),難以實(shí)現(xiàn)有源元件和無源元件的混合集成。

  HDI和PCB技術(shù)通常用于數(shù)字系統(tǒng)。

  綜上所述,在適于射頻集成的多中技術(shù)中,薄膜無源集成技術(shù)通常能夠提過優(yōu)良的元件精度和功能密度,以及集成度高、體積小和重量輕的產(chǎn)品,成為無源集成技術(shù)發(fā)展的主流方向。

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