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標(biāo)簽 > 光刻工藝
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光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié),對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn),對光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求...
在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準(zhǔn)...
本文簡單介紹了芯片制造的7個前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)...
“ 光刻作為半導(dǎo)體中的關(guān)鍵工藝,其中包括3大步驟的工藝:涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常,整個光刻工藝都需要返工處理,因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關(guān)鍵”
在萬物互聯(lián),AI革命興起的今天,半導(dǎo)體芯片已成為推動現(xiàn)代社會進(jìn)步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù),作為先進(jìn)制造中最為精細(xì)和關(guān)鍵的工藝,不管是...
在本文中,我們將重點介紹半導(dǎo)體封裝的另一種主要方法——晶圓級封裝(WLP)。本文將探討晶圓級封裝的五項基本工藝,包括:光刻(Photolithograp...
2024-01-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝芯片封裝晶圓級封裝 2364 0
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖...
2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機半導(dǎo)體制造 4673 0
埃瑞微半導(dǎo)體前道套刻設(shè)備總部項目簽約無錫高新區(qū)
據(jù)了解,無錫埃瑞微半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司以集成電路的全會工程正在專心研發(fā)制造量測量設(shè)備,為光刻工藝的大量生產(chǎn)誤差為代表的夾注測量設(shè)備和其他缺陷正在致力提...
2023-12-04 標(biāo)簽:集成電路光刻工藝半導(dǎo)體設(shè)備 742 0
如今,光刻技術(shù)已成為一項容錯率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用...
該工序使用涂膠裝置(涂膠機)。為了去除光刻膠中含有的溶劑,在70 ~ 90°C的溫度下進(jìn)行前烘(Pre -Bake)。在曝光裝置上“繪制”掩膜圖形。接下...
2022-12-09 標(biāo)簽:光刻工藝 9164 0
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