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標簽 > 光刻技術
隨著半導體技術的發展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數量級(從毫米級到亞微米級),已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術;使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。
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芯片制造四大基本工藝包括:芯片設計、FPGA驗證、晶圓光刻顯影、蝕刻、芯片封裝等,晶片制作過程最為復雜,需經過濕洗、光刻、 離子注入、干蝕刻、等離子沖洗...
對此,ASML發布公告澄清。公告提到,中芯國際已根據香港上市規則披露了與ASML的批量購買協議(VPA)。這與DUV光刻技術的現有協議相關,該協議已于2...
可能很多網友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,...
正式獲得美國設備廠商的供應許可后,中芯國際的運營前景將進一步明朗
去年中芯國際被美國列入了實體清單,購買美國廠商的半導體設備及技術受到限制。今天業界消息稱中芯國際已經獲得了美國的許可,14nm及28nm等工藝可以恢復供應。
去年中芯國際被美國列入了實體清單,購買美國廠商的半導體設備及技術受到限制。今天業界消息稱中芯國際已經獲得了美國的許可,14nm及28nm等工藝可以恢復供應。
總體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需...
光刻技術的進步使得器件的特征尺寸不斷減小,芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領下,光學光刻技術經歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進投影、步進掃描...
特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數量為40件,超過了國外企業的10件。這是韓國提交的...
降低曝光光源的波長是光刻技術和設備的一個重要發展趨勢。半個世紀以來隨著光刻技術的發展,特征尺寸隨之減小。在196O年代,半導體芯片制造商主要使用可見光作為光源。
集成電路的飛速發展有賴于相關的制造工藝光刻技術的發展,光刻技術是迄今所能達到的最高精度的加工技術。 集成電路產業是現代信息社會的基石。集成電路的發明使電...
近日,中國科學院官網上發布的一則研究進展顯示,該團隊研發的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經5nm ASML的壟斷,對此相關人...
早報:三星有望獲得蘋果M1芯片部分代工訂單 因臺積電5nm工藝產能緊張
但外媒最新的報道顯示,5nm工藝已大規模量產的臺積電,目前的產能無法滿足再為蘋果大規模代工M1芯片,蘋果可能會將部分M1芯片的代工訂單,交由臺積電的競爭...
芯聞精選:松下將改組為控股公司制,下設車載電池等8家業務公司
松下控股下設車載電池、電子零部件、汽車零部件等 8 家業務公司。外媒表示,這樣能夠明確責任和權限,加快公司決策。松下還公布了新的人事任命,常務執行董事楠...
光刻技術為中心的行業壁壘,EUV光刻機并非是是中國半導體行業的唯一癥結
在一顆芯片誕生的過程中,光刻是最關鍵又最復雜的一步。 說最關鍵,是因為光刻的實質將掩膜版上的芯片電路圖轉移至硅片,化虛為實。說最復雜,是因為光刻工藝需要...
體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要...
美國實施出口管制的六大技術,都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關,尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產品,EUV光刻機在半導體制程的重要意...
在過去的十年中,包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發,以確保技術處于領先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術...
韓國EUV光刻技術方面取得極大進展 專利申請是國外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據韓國媒體 BusinessKorea 上周報道,韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪...
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