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      標(biāo)簽　>　光刻機

      光刻機

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      國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備局面解析

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      宇微光學(xué)：突破納米級別核心技術(shù)，自主研發(fā)光刻軟件精準(zhǔn)成像

      從英國訪學(xué)歸國后不久的劉世元，在學(xué)院派遣下，作為最早的幾個技術(shù)骨干之一，加盟上海微電子裝備有限公司，成為“100nm光刻機”研制任務(wù)總體組成員、控制學(xué)科...

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      EUV的壟斷終將結(jié)束 EUV***逐步走向“落末”

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