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標簽 > 光刻機
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工藝制程走入10nm以下后,臺積電的優勢開始顯現出來。在7nm節點,臺積電優先確保產能,以DUV(深紫外光刻)打頭陣,結果進度領先三星的7nm EUV,...
ASML研發下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限
一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據國外媒體報道,在推出兩代極紫外光刻機之后,阿斯麥公司又已在研發下一代極紫外光刻機,計劃2022年年初開...
電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵...
在芯片設計、制造的諸多環節中,光刻機等核心設備發揮了至關重要的作用。殊不知,在眾多核心設備中,EDA工具才是真正的重中之重。
近期據外媒消息美國政府正考慮將中芯國際列入實體清單中,導致它的股價大跌。 此條爆炸性的新聞如成現實,未來意味著美國半導體設備制造商,如應用材料、科林、科...
最后在晶圓檢驗設備方面,美商KLA Tencor市占最高超過5成,Applied Materials與Hitachi High-Technology是主...
全球缺芯已經成為了普遍現象,各大芯片制造企業和供應商都面臨“卡脖子”
所以當務之急是加緊提升芯片產能,逐步緩解市場所需。而這個時候,國產科技巨頭中芯國際開始發力了。作為大陸規模最大的芯片制造商,中芯國際承擔起了提升產能的責...
溫彼得此番言論是出于營收考慮?還是真的擔心全球半導體產業供應鏈中斷?我們根據幾項數據事實來深入分析一下。
7納米、5納米先進工藝能突破嗎?高端光刻機裝備可以“中國造”嗎?卡脖子技術體現在哪些方面?未來幾年“中國芯”最有可能在哪些方向突破?
據報道,中科院入局起作用,經過團隊科研人員的日夜奮戰,中國芯再次“突圍”,終于研發出來了可以直接省略光刻機的8英寸石墨烯單晶圓。據悉,這是作為碳基芯片的...
光刻機既是決定制程工藝的關鍵節點,也是國內芯片設備最為薄弱的環節
根據所用光源改進和工藝創新,光刻機經歷了 5 代產品發展,每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。在技術節點的更新上,光刻機經歷了兩次重...
4月7日消息,在 5nm 工藝即將大規模量產的情況下,3nm 工藝就成了臺積電和三星這兩大芯片代工商關注的焦點。三星電子旗下的三星晶圓代工,此前設定的目...
6月17日,A股芯片股全線大漲,多只股票漲?;蚍獍?,科創50指數漲幅也一度擴大至5%。芯片股成了當天資本市場的主角。 同時,從去年開始,社會各路資本流入...
電子發燒友網報道(文/周凱揚)到了3nm這個工藝節點之后,單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝,將晶...
9月28日晚間,晶瑞股份發布公告稱,將開展集成電路制造用高端光刻膠研發項目。為此,晶瑞股份擬通過Singtest Technology PTE. LTD...
上海新陽表示,公司采購的ASML干法光刻機設備順利交付,對加快193nmArF干法光刻膠產品開發進度有積極影響,有利于進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭...
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