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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：307個 瀏覽：30381次 帖子：4個

      光刻膠技術

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