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半導體制造領域光刻膠的作用和意義
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微氣泡對光刻膠層的影響
了光刻劑。但重大挑戰仍然存在，部分原因是去除率不足以首先在半導體制造業中使用微氣泡。因此，我們需要通過明確了解微氣泡去除光刻抗蝕劑層的功能機制，來提高微氣泡的去除能力。本研究的目的是闡明微氣泡對光刻膠層表面的影響。
2022-01-10 11:37:13
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通過臭氧微氣泡進行半導體晶圓的光刻膠去除實驗
半導體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的，一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是，這些廢液的處理是極其困難的，與環境污染有很大的關系，因此希望引進環保的清洗技術。因此，作為環保的清洗技術之一，以蒸餾水、臭氧為基礎，利用微氣泡的清洗法受到關注。
2022-04-19 11:22:57918
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A股半導體光刻膠企業營收靚麗！打造光刻膠全產業鏈 博康欲成國產光刻膠的中流砥柱
光刻膠為何要謀求國產替代？中國國產光刻膠企業的市場發展機會和挑戰如何？光刻膠企業發展要具備哪些核心競爭力？在南京半導體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發總監潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:235918
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半導體制造之光刻工藝講解
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241338
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揭秘半導體制造全流程（下篇）
我們已經從前兩篇的文章中了解了半導體制造的前幾大步驟，包括晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕和薄膜沉積。 ? 在今天的推文中，我們將繼續介紹最后三個步驟：互連、測試和封裝，以完成半導體芯片的制造
2021-08-02 13:49:0416085
16085半導體光刻膠企業營收靚麗！打造光刻膠全產業鏈 博康欲成國產光刻膠的中流砥柱
電子發燒友原創 章鷹 ? 近日，全球半導體市場規模增長帶動了上游半導體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國內關注焦點。正當日本光刻膠企業JSR、東京應化和美國Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:002718
2718光刻中承上啟下的半導體掩膜版
電子發燒友網報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產業中，除了光刻機等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經過曝光后將圖形信息轉移到
2023-06-22 01:27:001985
1985光刻膠
改進；廣泛應用于全球半導體行業。光刻膠產品型號及參數[tr=transparent]光刻膠名稱型號勻膠厚度規格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/負可轉換型光刻膠AZ
2018-07-12 11:57:08
光刻膠在集成電路制造中的應用
]。光刻膠涂覆在半導體、導體和絕緣體上，經曝光顯影后留下的部分對底層起保護作用，然后采用超凈高純試劑進行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉移到底層上的圖形轉移過程。一個IC的制造一般需要經過10多次圖形轉移
2018-08-23 11:56:31
光刻膠有什么分類？生產流程是什么？
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
光刻膠殘留要怎么解決？
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方沒有殘留；工藝參數：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
半導體光刻技術基本原理
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協同通信的方式有哪些？ 4大數據及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產的設備核心技術： 5衛
2021-07-26 08:31:09
半導體產業能支撐未來的發展
的火花,即450mm及EUV 光刻 機。在LinkedIn半導體制造小組中近期從一家成員公司偶然提出一個問題讓我產生了思考。當經濟處于復蘇的好時機時會改潿雜詿50mm硅片的看法嗎？WWK的總裁David Jimenez回答了它的問題。設備制造商會愿意更多的投資來發展450mm設備？傳感技術
2010-02-26 14:52:33
半導體材料市場構成分析
半導體材料市場構成：在半導體材料市場構成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
半導體的定義及其作用
半導體指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料，它在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電、照明、大功率電源轉換等領域都有應用，如二極管就是采用半導體制作的器件。無論從科技或是經濟發展的角度來看
2021-09-15 07:24:56
半導體制冷—— 2 1 世紀的綠色“冷源”
半導體制冷—— 2 1 世紀的綠色“冷源”唐春暉（上海理工大學光學與電子信息工程學院，上海 200093）摘要：基于節能和環保已是當今一切科技發展進步的基本要求，對半導體制冷技術原理以及應用情況做了
2010-04-02 10:14:56
半導體制冷效率問題！！
大家有沒有用過半導體制冷的，我現在選了一種制冷片，72W的，我要對一個2.5W的熱負載空間（100x100x100mm）降溫，用了兩片，在環溫60度時熱負載所處的空間只降到30度，我采用的時泡沫膠
2012-08-15 20:07:10
半導體制冷有什么優缺點？
半導體制冷的機理主要是電荷載體在不同的材料中處于不同的能量級，在外電場的作用下，電荷載體從高能級的材料向低能級的材料運動時，便會釋放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半導體制冷片的工作原理是什么？
半導體制冷片是利用半導體材料的Peltier效應而制作的電子元件，當直流電通過兩種不同半導體材料串聯成的電偶時，在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量，可以實現制冷的目的。它是一種產生負熱阻的制冷技術，其特點是無運動部件，可靠性也比較高。半導體制冷片的工作原理是什么？半導體制冷片有哪些優缺點？
2021-02-24 09:24:02
半導體制程
的制造方法，其實歸根究底，就是在矽半導體上制造電子元器件，電子元器件包括很多品種：整流橋，二極管，電容等各種IC類，更復雜的還有整流模塊等等。ASEMI半導體的每一個電子元器件的完成都是由精密復雜
2018-11-08 11:10:34
半導體制造
在制造半導體器件時，為什么先將導電性能介于導體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導體，使之導電性極差，然后再用擴散工藝在本征半導體中摻入雜質形成N型半導體或P型半導體改善其導電性？
2012-07-11 20:23:15
半導體制造企業未來分析
們的投入中，80%的開支會用于先進產能擴增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先進封裝及特殊制程。而先進工藝中所用到的EUV極紫外光刻機，一臺設備的單價就可以達到1.2億美元，可見半導體
2020-02-27 10:42:16
半導體制造的難點匯總
采取正確的設備維護行動。半導體制造五大難點——集成眾多子系統的大系統伴隨著芯片的集成度越來越高、半導體制造的先進程度也逐漸提升。半導體產業包含越來越多的機械、化工、軟件、材料等其它領域，是集成了很多
2020-09-02 18:02:47
半導體制造車間的環境與生產要求以及設施規劃
近幾年來，由于半導體芯片在電腦，通信等領域的廣泛應用，半導體制造業不僅在全球，在中國也得到了飛速發展。9月5日工信部部長指出要通過編制十四五規劃，將培育軟件產業生態、推動產業聚集，加快建設數字
2020-09-24 15:17:16
EUV熱潮不斷 中國如何推進半導體設備產業發展？
ofweek電子工程網訊 國際半導體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業界對半導體制造的關鍵設備之一極紫外光刻機（EUV）的關注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
Futurrex高端光刻膠
半導體制造領域的標志：NR9-PY 系列負性光刻膠，適用于lift-off工藝；具有高效粘附性，高反應速度并耐高溫性能好。 NR71-PY 系列 負性光刻膠，適用于lift-off工藝，耐高溫性能好
2010-04-21 10:57:46
Microchem SU-8光刻膠 2000系列
、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
[轉]CPU制造全過程，一堆沙子的藝術之旅
、晶圓、光刻、蝕刻、離子注入、金屬沉積、金屬層、互連、晶圓測試與切割、核心封裝、等級測試、包裝上市等基本步驟。硅熔煉成硅錠：通過多步凈化得到可用于半導體制造質量的硅，學名電子級硅(EGS)，平均每一百萬
2017-05-04 21:25:46
《炬豐科技-半導體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓
還改變了濕蝕刻輪廓GaAs 與沒有表面處理的晶片相比，反應限制蝕刻更具各向同性；簡介 光刻膠的附著力對濕蝕刻的結果以及隨后的電氣和光學器件的產量起著關鍵作用。有許多因素會影響光刻膠對半導體襯底的粘附
2021-07-06 09:39:22
《炬豐科技-半導體工藝》DI-O3水在晶圓表面制備中的應用
，但顯然值得更多的關注用于商業利用和實施。本文綜述了臭氧化去離子水（DI-O3 水）在硅片表面制備中的應用，包括去除有機雜質、金屬污染物和顆粒以及光刻膠剝離。 介紹自半導體技術起源以來，清潔襯底表面在
2021-07-06 09:36:27
《炬豐科技-半導體工藝》IC制造工藝
`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下
2021-07-08 13:13:06
一文帶你了解芯片制造的6個關鍵步驟
。正性光刻膠在半導體制造中使用得最多，因其可以達到更高的分辨率，從而讓它成為光刻階段更好的選擇。現在世界上有不少公司生產用于半導體制造的光刻膠。 光刻光刻在芯片制造過程中至關重要，因為它決定了芯片上的晶體管
2022-04-08 15:12:41
主流的射頻半導體制造工藝介紹
1、GaAs半導體材料可以分為元素半導體和化合物半導體兩大類，元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍，非常適合
2019-07-29 07:16:49
單片機控制半導體制冷
我想用單片機開發板做個熱療儀，開發板是某寶上買的那種，有兩個猜想：一個用半導體制冷片發熱，一個用電熱片。但我不會中間要不要接個DA轉換器還是繼電器什么的，查過一些資料，如果用半導體制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
噴膠機有什么典型應用 ？
噴膠機是現代光電子產業中光刻膠涂布的重要設備。可對不同尺寸和形狀的基片進行涂膠，最大涂膠尺寸達8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時可對大深寬比結構的側壁進行均勻涂膠；通過計算機系統控制器進行工藝參數的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
如何用半導體制冷片制作小冰箱？
想用半導體制冷片制作小冰箱，需要用到大功率電源，半導體制冷片，還有散熱系統，單片機控制系統，能調溫度，還能顯示溫度，具體的思路已經有了，想問問你們有沒好點的意見，能盡量提高點效率還有溫度調節的精度
2020-08-27 08:07:58
振奮！中微半導體國產5納米刻蝕機助力中國芯
形成電路，而“濕法”刻蝕（使用化學浴）主要用于清潔晶圓。 干法刻蝕是半導體制造中最常用的工藝之一。 開始刻蝕前，晶圓上會涂上一層光刻膠或硬掩膜（通常是氧化物或氮化物），然后在光刻時將電路圖形曝光在晶圓
2017-10-09 19:41:52
液晶顯示器是什么原理制造的
一．工藝流程簡述： 前段工位： ITO 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗與干燥（CLEANING）——涂光刻膠（PR COAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP
2016-06-30 09:03:48
自制半導體制冷小冰箱
到了二十世紀五十年代隨著半導體材料的迅猛發展，熱電制冷器才逐漸從實驗室走向工程實踐，在國防、工業、農業、醫療和日常生活等領域獲得應用，大到可以做核潛艇的空調，小到可以用來冷卻紅外線探測器的探頭，因此通常又把熱電制冷器稱為半導體制冷器。
2013-11-29 09:26:38
芯片制作工藝流程 二
涂敷光刻膠 光刻制造過程中，往往需采用20-30道光刻工序，現在技術主要采有紫外線(包括遠紫外線)為光源的光刻技術。光刻工序包括翻版圖形掩膜制造，硅基片表面光刻膠的涂敷、預烘、曝光、顯影、后烘、腐蝕
2019-08-16 11:11:34
芯片里面100多億晶體管是如何實現的
。 溶解光刻膠：光刻過程中曝光在紫外線下的光刻膠被溶解掉，清除后留下的圖案和掩模上的一致。 “刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形
2020-07-07 11:36:10
離線光刻膠微粒子計數器
、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片、等產品進行在線顆粒監測和分析。產品優勢：離線優勢：PMT-2離線光刻膠微粒子計數器外接離線取樣裝置，可實現實驗室、工廠
2022-12-14 10:44:24
在線光刻膠液體粒子計數器
PMT-2在線光刻膠液體粒子計數器，采用英國普洛帝核心技術創新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器，雙精準流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統，可以對清洗劑、半導體、超純水
2023-01-03 15:54:49
華虹半導體和宏力半導體制造公司完成合并
中國半導體制造行業的兩大企業，華虹半導體有限公司(簡稱“華虹”)和宏力半導體制造公司(簡稱“宏力”)于29日聯合宣布雙方已完成了合并交易。
2011-12-30 08:58:501867
1867如何光刻機會稱為半導體制造行業的明珠？
急需突破的領域，但它也是技術門檻最高的，國內最大的半導體制造公司中芯國際的營收只有第一大晶圓代工公司臺積電的1/20，與英特爾相比更是只有1/20，但是這些芯片制造公司都離不開一個設備——光刻機，它是整個半導體制造行業的明珠。
2018-07-22 10:32:3710947
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南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹脂專利揭秘
在國際半導體領域，我國雖已成為半導體生產大國，但整個半導體產業鏈仍比較落后。特別是由于國內光刻膠廠布局較晚，半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大，國產化不足5%。在這種條件下，國內半導體廠商積極開展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165
4165LCD光刻膠需求快速增長，政策及國產化風向帶動國產廠商發展
光刻膠按應用領域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導體光刻膠等。按照下游應用來看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380
53802020年光刻膠行業情況解析
全球光刻膠市場規模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。
2020-09-21 11:28:043290
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博聞廣見之半導體行業中的光刻膠
、電子束、準分子激光束、X射線、離子束等曝光源的照射或輻射，從而使光刻膠的溶解度發生變化。 按照應用領域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發劑、半導
2022-12-06 14:53:541238
1238半導體集成電路制造的核心材料：光刻膠
首先，我們都知道要制作一顆芯片可以簡單分為三個步驟：IC芯片設計芯片制造封裝測試。從最早誕生于電路設計師的腦袋中，到將大腦中的線路圖像設計出來，最后送到半導體車間經由光刻機反復光刻，中間經過
2020-11-14 09:36:575407
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光刻膠的價值與介紹及市場格局對國產光刻膠的發展趨勢
近期，專注于電子材料市場研究的TECHCET發布最新統計和預測數據：2021年，半導體制造所需的光刻膠市場規模將同比增長11％，達到19億美元。
2021-03-22 10:51:125081
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光刻膠國產化的道路上有哪6道坎？
材料是半導體大廈的地基，不過，目前中國的這一地基對國外依存度還很高。 2019年，日韓發生沖突，日本封鎖了三種關鍵的半導體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國，中國都可以制造
2021-05-11 13:46:382922
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2021年，半導體制造所需的光刻膠市場規模將同比增長11％
按照應用領域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發劑、半導體光刻膠光引發劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導體光刻膠。
2021-05-17 14:15:524011
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光刻膠又遇“卡脖子”，國產替代刻不容緩
。 信越化學之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與2月份日本福島東部海域發生7.3級地震有莫大關聯。地震導致信越化學KrF光刻膠產線受到很大程度的破壞，至今尚未完全恢復生產。 光刻膠是半導體制造中的關鍵產品，重要性毋庸置疑，現在這么多半導
2021-06-25 16:12:28784
784光刻膠板塊的大漲吸引了產業注意 ，國產光刻膠再遇發展良機？
5月27日，半導體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:152623
2623半導體技術新進展，南大光電高端ArF光刻膠獲得突破
在半導體制造方面，國內廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備，光刻膠也是重要的一環。而南大光電研發的高端ArF光刻機，已經獲得了國內某企業的認證，可用于55nm工藝制造。 南大光電發布公告稱，控股
2021-06-26 16:32:372200
2200默克推出用于芯片制造的新一代環保光刻膠去除劑
德國達姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球領先的科技公司默克日前宣布推出新一代環保精密清洗溶劑產品 ?--?AZ??910?去除劑。該系列產品用于半導體芯片制造圖形化工藝中清除光刻膠
2021-07-28 14:23:102646
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2022-03-24 16:02:56733
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一種半導體制造用光刻膠去除方法
本發明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:42872
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半導體制造將EUV引入DRAM的計劃介紹
EUV 光刻技術被視為先進半導體制造的最大瓶頸，但這些價值超過 1.5 億美元的工具是沒有光掩模的paperweights。一個恰當的比喻是，光掩模可以被認為是光刻工具對芯片層進行圖案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47942
942光刻膠的原理和正負光刻膠的主要組分是什么
光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等）；感光劑，感光劑對光能發生光化學反應；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831
15831半導體光刻膠重要性凸出，國產替代加速推進
光刻膠是IC制造的核心耗材，技術壁壘極高。根據TECHCET數據，預計2022年全球半導體光刻膠市場規模達到23億美元，同比增長7.5%，2025年超過25億美元。
2023-03-21 14:00:492095
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ALD是什么？半導體制造的基本流程
在半導體制造過程中，每個半導體元件的產品都需要經過數百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術難點多，操作復雜。
2023-07-11 11:25:552902
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半導體制造會被日本斷血嗎？
日本在半導體界一直以設備和材料笑傲群雄，2019年一則禁令一度扼住韓國半導體喉嚨，涉及材料包括高純氟化氫、氟聚酰亞胺、感光劑光刻膠，直到幾個月前，受傷的雙方才握手言和。
2023-07-27 09:54:55830
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EUV光刻膠開發面臨哪些挑戰？
EUV光刻膠材料是光敏物質，當受到EUV光子照射時會發生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰方面發揮著關鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩定性。
2023-09-11 11:58:42349
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半導體制造之光刻原理、工藝流程
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674
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光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571
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不僅需要***，更需要光刻膠
為了生產高純度、高質量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如，2019年，某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48550
550萬潤股份在半導體制造材料領域穩步推進，涉足光刻膠單體、PI等業務
近期，萬潤股份在接受機構調研時透露，其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業的半導體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58329
329光刻膠價格上漲，韓國半導體公司壓力增大
光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36409
409光刻膠分類與市場結構
光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346
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2023年中國光刻膠行業市場前景及投資研究報告
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規模持續提升，中國有望承接半導體
2024-01-19 08:31:24340
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工商網監
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