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半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料:光刻膠

中科院半導(dǎo)體所 ? 來源:中科院半導(dǎo)體所 ? 作者:中科院半導(dǎo)體所 ? 2020-11-14 09:36 ? 次閱讀

首先,我們都知道要制作一顆芯片可以簡單分為三個(gè)步驟:IC芯片設(shè)計(jì)—芯片制造封裝測試。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的腦袋中,到將大腦中的線路圖像設(shè)計(jì)出來,最后送到半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻,中間經(jīng)過數(shù)百道工藝的層層打磨,一顆嶄新的芯片才正式誕生。

而芯片制造所需的關(guān)鍵設(shè)備就是光刻機(jī),但是我們今天不談光刻機(jī),我們要來聊一聊光刻機(jī)中最重要的材料——光刻膠。

光刻膠又稱為光致抗蝕劑,它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物,受紫外光曝光后,在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,主要區(qū)別在于光刻過程中理化性質(zhì)變化不同。

光刻過程基本可以分為8個(gè)步驟:1. 氧化及表面處理;2.涂膠;3. 預(yù)烘;4.曝光;5.顯影;6.后烘;7.腐蝕;8.去膠。

俗話說“巧婦難為無米之炊”,如果把光刻機(jī)比作巧婦,那么光刻膠就是那閃著金光的糧食。沒有食物,即使有技術(shù)最高超的廚師也無法烹飪出一道美味佳肴。

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的 35%,并且耗費(fèi) 時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的 40%-50%。光刻膠材料約占 IC 制造材料總 成本的 4%,市場巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

資料顯示,2019 年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計(jì)近 90 億美元,自 2010 年至今 CAGR 約 5.4%。預(yù)計(jì)該市場未來 3 年仍將以年均 5%的速度增長,至 2022 年全球光刻膠市場規(guī)模將超過 100 億美元。光刻膠的主要應(yīng)用場景有四個(gè):半導(dǎo)體、顯示面板(LCD)、PCB(印制線路板)和其他光刻膠市場占比都差不多,基本都為25%左右。

其中,PCB 光刻膠主要用于中低端產(chǎn)品,技術(shù)壁壘相對(duì)較低。在全球 PCB 產(chǎn)業(yè)向亞洲轉(zhuǎn)移的背景下,中國以巨大的內(nèi)需市場和較為低廉的生產(chǎn)成本承接了大量 PCB 產(chǎn)能投資。2006 年起,我國成為 PCB 的最大生產(chǎn)國,也是 PCB光刻膠的最大使用國。據(jù)第三方機(jī)構(gòu)測算,從 2016 年至 2020 年,中國 PCB 行業(yè)產(chǎn)值自 271 億美元增長到了 311.6 億美元,年復(fù)合增長率約為 3.5%。

LCD光刻膠領(lǐng)域,隨著全球面板產(chǎn)能陸續(xù)向中國大陸轉(zhuǎn)移,國內(nèi) LCD 光刻膠需求快速增長。光刻膠不僅技術(shù)壁壘高,客戶壁壘也高,這種雙高性質(zhì),使得行業(yè)集中度不斷提高,日美企業(yè)可以保持壟斷優(yōu)勢,而新進(jìn)入企業(yè)則需要大量的資金、技術(shù)和人才投入。國產(chǎn)光刻膠高端技術(shù)要短期內(nèi)突破比較難,還要很長的路要走。

責(zé)任編輯:xj

原文標(biāo)題:光刻機(jī)背后的“糧食”——光刻膠

文章出處:【微信公眾號(hào):中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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原文標(biāo)題:光刻機(jī)背后的“糧食”——光刻膠

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