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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過(guò)程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。
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高K金屬柵極的結(jié)構(gòu)、材料、優(yōu)勢(shì)以及工藝流程
本文簡(jiǎn)單介紹了高K金屬柵極的結(jié)構(gòu)、材料、優(yōu)勢(shì)以及工藝流程。 ? High-K Metal Gate(HKMG)技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵技術(shù)之一,廣泛...
2024-11-25 標(biāo)簽:HKMG半導(dǎo)體制造金屬柵極 3297 0
石墨舟氮?dú)夤瘢喊雽?dǎo)體制造中的關(guān)鍵保護(hù)設(shè)備
石墨舟是一種由高純度石墨材料制成的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池片等的制造過(guò)程中,用于承載硅片或其他基板材料通過(guò)高溫處理。石墨舟因其優(yōu)異的導(dǎo)電性...
2024-11-04 標(biāo)簽:制造業(yè)半導(dǎo)體制造 582 0
深入探索晶圓缺陷:科學(xué)分類與針對(duì)性解決方案
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,晶圓作為半導(dǎo)體制造的基礎(chǔ)材料,其質(zhì)量對(duì)最終芯片的性能和可靠性至關(guān)重要。然而,在晶圓制造過(guò)程中,由于多種因素的影響,晶圓表面和內(nèi)...
2024-10-17 標(biāo)簽:芯片晶圓半導(dǎo)體制造 2755 0
在這篇文章中,我們將學(xué)習(xí)基本的半導(dǎo)體制造過(guò)程。為了將晶圓轉(zhuǎn)化為半導(dǎo)體芯片,它需要經(jīng)歷一系列復(fù)雜的制造過(guò)程,包括氧化、光刻、刻蝕、沉積、離子注入、金屬布線...
微型晶體管的制造過(guò)程 1. 硅晶圓的制備 微型晶體管的制造始于硅晶圓的制備。硅晶圓是半導(dǎo)體制造的基礎(chǔ)材料,通常采用高純度的單晶硅制成。硅晶圓的制備過(guò)程包...
2024-10-15 標(biāo)簽:晶圓晶體管半導(dǎo)體制造 875 0
在當(dāng)今科技日新月異的時(shí)代,半導(dǎo)體行業(yè)作為信息技術(shù)的基石,其重要性不言而喻。隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信等新興技術(shù)的快速發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體芯片的性能、穩(wěn)定性...
2024-07-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體精密半導(dǎo)體制造 2926 0
半導(dǎo)體設(shè)備運(yùn)用微型導(dǎo)軌中如何助力高速運(yùn)動(dòng)與低噪音?
微型導(dǎo)軌具有高精度、低摩擦和高速直線運(yùn)動(dòng)特性,在精密機(jī)械設(shè)備中運(yùn)用廣泛,尤其在小型化設(shè)備領(lǐng)域更有不可替代的地位。微型導(dǎo)軌在半導(dǎo)體設(shè)備中扮演者重要角色。
2024-05-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造半導(dǎo)體設(shè)備精密機(jī)械設(shè)備 597 0
電子束技術(shù)在半導(dǎo)體制造行業(yè)一直是重要的應(yīng)用技術(shù)。本文就電子束技術(shù)作一個(gè)簡(jiǎn)單的圖文介紹。
2024-04-30 標(biāo)簽:光刻電子束半導(dǎo)體制造 2622 0
半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié):芯片測(cè)試
CP(Chip Probing)測(cè)試也叫晶圓測(cè)試(wafer test),也就是在芯片未封裝之前對(duì)wafer進(jìn)行測(cè)試,這樣就可以把有問(wèn)題的芯片在封裝之前...
2024-04-20 標(biāo)簽:測(cè)試系統(tǒng)芯片測(cè)試測(cè)試機(jī) 2608 0
直線模組被廣泛應(yīng)用于:制造業(yè)自動(dòng)化、機(jī)床和數(shù)控機(jī)械、半導(dǎo)體制造、醫(yī)療設(shè)備、物流和倉(cāng)儲(chǔ)、航空航天、電子設(shè)備制造、太陽(yáng)能和風(fēng)能行業(yè)、實(shí)驗(yàn)室設(shè)?等領(lǐng)域,
2024-04-17 標(biāo)簽:醫(yī)療設(shè)備半導(dǎo)體制造直線模組 752 0
全球Top25半導(dǎo)體公司發(fā)布:臺(tái)積電領(lǐng)跑,英偉達(dá)異軍突起
在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)遭遇諸多挑戰(zhàn)的2023年,臺(tái)積電卻以穩(wěn)健的步伐取得了驕人的成績(jī)。盡管其營(yíng)收同比出現(xiàn)了9%的下滑,但相較于英特爾營(yíng)收同比下滑的14%,臺(tái)積...
2024-04-16 標(biāo)簽:高通英特爾半導(dǎo)體制造 1631 0
半導(dǎo)體制造過(guò)程的熱處理,指的是將矽晶圓放置在充滿氮?dú)猓∟2)或氫氣(Ar2)等惰性氣體環(huán)境中施予熱能的處理。
2024-04-15 標(biāo)簽:晶圓熱處理半導(dǎo)體制造 1964 0
半導(dǎo)體制造黃光微影制程(相片蝕刻制程)說(shuō)明
目前最先進(jìn)的黃光微影制程中,使用ArF準(zhǔn)分子雷射(λ=193nm)作為光源。nm為nano-meter,代表10的負(fù)九次方。
2024-04-10 標(biāo)簽:電路圖晶圓半導(dǎo)體制造 3030 0
光刻工藝流程示意圖:半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)
光刻材料一般特指光刻膠,又稱為光刻抗蝕劑,是光刻技術(shù)中的最關(guān)鍵的功能材料。這類材料具有光(包括可見光、紫外光、電子束等)反應(yīng)特性,經(jīng)過(guò)光化學(xué)反應(yīng)后,其溶...
2024-03-31 標(biāo)簽:集成電路光刻技術(shù)半導(dǎo)體制造 4534 0
芯片制造是當(dāng)今世界最為復(fù)雜的工藝過(guò)程。這是一個(gè)由眾多頂尖企業(yè)共同完成的一個(gè)復(fù)雜過(guò)程。本文努力將這一工藝過(guò)程做一個(gè)匯總,對(duì)這個(gè)復(fù)雜的過(guò)程有一個(gè)全面而概括的描述。
1950年發(fā)明,早期模擬電路廣泛使用BIPOLAR工藝,BIPOALR工藝可以做到非常低的漏電,非常低的噪聲,但是BIPOLAR最大問(wèn)題是實(shí)現(xiàn)數(shù)字電路比...
襯底(substrate)是由半導(dǎo)體單晶材料制造而成的晶圓片,襯底可以直接進(jìn)入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也可以進(jìn)行外延工藝加工生產(chǎn)外延片。
2024-03-08 標(biāo)簽:GaN單晶硅半導(dǎo)體制造 2145 0
現(xiàn)在對(duì) 2 個(gè)晶圓進(jìn)行處理,為粘合做好準(zhǔn)備。它們經(jīng)過(guò) N2 等離子體處理以激活表面。等離子處理改變了表面的特性,以增加表面能并使其更加親水。
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料半導(dǎo)體器件光刻機(jī) 5963 0
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,我們經(jīng)常聽到“薄膜制備技術(shù)”,“薄膜區(qū)”,“薄膜工藝”等詞匯,那么有厚膜嗎?答案是:有。
2024-02-25 標(biāo)簽:集成電路電阻器半導(dǎo)體制造 3819 0
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