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CVD

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cvd技術(shù)

用于半導(dǎo)體外延片生長(zhǎng)的CVD石墨托盤(pán)結(jié)構(gòu)

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一、引言 在半導(dǎo)體制造業(yè)中,外延生長(zhǎng)技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。化學(xué)氣相沉積(CVD)作為一種主流的外延生長(zhǎng)方法,被廣泛應(yīng)用于制備高質(zhì)量的外延片。而在CV...

2025-01-08 標(biāo)簽:半導(dǎo)體外延片CVD 183 0

半導(dǎo)體FAB中常見(jiàn)的五種CVD工藝

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Hello,大家好,今天來(lái)分享下半導(dǎo)體FAB中常見(jiàn)的五種CVD工藝。 化學(xué)氣相沉積(CVD)主要是通過(guò)利用氣體混合的化學(xué)反應(yīng)在硅片表面沉積一層固體膜的工...

2025-01-03 標(biāo)簽:半導(dǎo)體FABCVD 1141 0

Aston Impact 高靈敏度質(zhì)譜分析儀 CVD 清洗終點(diǎn)優(yōu)化

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上海伯東日本 Atonarp Aston Impact 高靈敏度質(zhì)譜分析儀, 基于四級(jí)桿的質(zhì)量分離, Aston 質(zhì)譜分析儀設(shè)計(jì)緊湊, 適用于氣體分析和...

2024-10-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體分析儀CVD 180 0

什么是無(wú)定形碳膜?為什么選碳作為3D NAND的硬掩模?

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無(wú)定形碳膜(Amorphous Carbon Film),即非晶碳膜,指的是一種由碳原子構(gòu)成但沒(méi)有長(zhǎng)程有序結(jié)構(gòu)的薄膜材料。

2024-03-22 標(biāo)簽:NANDPVDCVD 2504 0

CVD成為工業(yè)制造應(yīng)用更優(yōu)選

金剛石具有低密度、高彈性模量、高強(qiáng)度、高熱導(dǎo)率、化學(xué)惰性和生物相容性等優(yōu)異特性,在聲學(xué)領(lǐng)域主要應(yīng)用于高保真喇叭、聲表面波器件、聲傳感器等。

2024-01-08 標(biāo)簽:金剛石CVD工業(yè)制造 627 0

銅材料的CVD工藝是怎么實(shí)現(xiàn)的

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介紹了銅材料的CVD工藝是怎么實(shí)現(xiàn)的以及什么情況下會(huì)用到銅CVD工藝。

2024-01-07 標(biāo)簽:晶圓工藝CVD 1552 0

CVD金剛石在機(jī)械密封領(lǐng)域中的應(yīng)用

隨著科技的不斷發(fā)展,金剛石在許多領(lǐng)域中都展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用潛力。其中,化學(xué)氣相沉積(CVD)金剛石由于其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),尤其在機(jī)械密封領(lǐng)域中有著廣...

2024-01-04 標(biāo)簽:金剛石機(jī)械密封CVD 1063 0

金剛石晶體的不同類(lèi)型及應(yīng)用梳理

金剛石是我們都非常熟悉的超硬材料,人造金剛石晶體有多種不同的類(lèi)型,大致可分為單形和聚形,每種類(lèi)型都具有不同的特性和應(yīng)用。本文梳理了金剛石晶體的不同類(lèi)型及應(yīng)用。

2024-01-02 標(biāo)簽:金剛石CVD 2666 0

三種碳化硅外延生長(zhǎng)爐的差異

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碳化硅襯底有諸多缺陷無(wú)法直接加工,需要在其上經(jīng)過(guò)外延工藝生長(zhǎng)出特定單晶薄膜才能制作芯片晶圓,這層薄膜便是外延層。幾乎所有的碳化硅器件均在外延材料上實(shí)現(xiàn),...

2023-12-15 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體碳化硅 3511 0

90%的模具人都搞不懂模具爆裂是什么?模具爆裂原因分析

模具材質(zhì)不好在后續(xù)加工中容易碎裂

2023-11-25 標(biāo)簽:PVD壓力機(jī)HRC 1590 0

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本文介紹了CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除。 CVD薄膜質(zhì)量影響因素 以下將以PECVD技術(shù)沉積薄膜作為案例,闡述影響薄膜品質(zhì)的幾個(gè)核心要素。 PEC...

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金剛石的優(yōu)異性能與廣闊前景 金剛石,因其優(yōu)異的機(jī)械、電學(xué)、熱學(xué)和光學(xué)性能,被譽(yù)為“材料之王”,在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊的發(fā)展前景: 機(jī)械性能:極高的硬度和耐...

2025-01-03 標(biāo)簽:金剛石CVD 217 0

拓荊科技:超高深寬比溝槽填充CVD產(chǎn)品首臺(tái)已通過(guò)客戶驗(yàn)證

來(lái)源:集成電路材料研究 近日,拓荊科技在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示,公司自主研發(fā)并推出的超高深寬比溝槽填充CVD產(chǎn)品首臺(tái)已通過(guò)客戶驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,并獲得...

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6月24日,全國(guó)科技大會(huì)、國(guó)家科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)勵(lì)大會(huì)、兩院院士大會(huì)在人民大會(huì)堂隆重舉行。廣東晟鵬材料技術(shù)有限公司(廣東晟鵬科技有限公司)創(chuàng)始人成會(huì)明院士團(tuán)隊(duì)的...

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公司方面認(rèn)為,特別是鎢的使用得益于垂直積累3d nand及所有市場(chǎng)的晶片投射量的增加。六氟化鎢WF6的供需平衡將持續(xù)到2023年,但wf6的供應(yīng)將被限制...

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2023-07-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓CVD 2066 0

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