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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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本周在火奴魯魯舉行的VLSI(超大規模集成電路)研討會上,三星首次分享了基于EUV技術的7nm工藝細節。
英特爾與GlobalFoundries分別介紹介電質材料不同的新一代制程技術細節
在2017年度IEEE國際電子組件會議(IEDM)上,Intel與GlobalFoundries分別介紹了讓人眼前一亮的新一代制程技術細節。
相比于2009年今年全球半導體業的態勢好了許多,但是仍有少部分人提出質疑,2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 在今年1月由SEMI主辦的工業策略年會...
晶圓代工之戰,7nm制程預料由臺積電勝出,4nm之戰仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱,三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備...
近日見到一文7nm大戰在即買不到EUV光刻機的大陸廠商怎么辦?。 受瓦圣納條約的限止,今天中國即便有錢想買EUV光刻機也不可能,此話是事實,不是危言聳聽...
盡管EUV現在還存在各種障礙,但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看,發展EUV技術是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀九十年代起,中國...
韓媒BusinessKorea昨日報道,三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做,那就會提升其在7nm等先進工藝上的領先...
中芯國際CEO趙海軍:EUV將在7nm形成主流 專注生產大技術
中芯國際CEO趙海軍表示,摩爾定律現在還在繼續發展,EUV將在7nm形成主流,EUV變化非常大,很多環節都要重新開始,變化來的太快。28納米工藝如果到7...
為對抗三星,臺積電計劃導入極紫外光(EUV)微影設備,決定在7納米強化版提供客戶設計、并在5納米全數導入。這項決定引發群聚效應,激勵相關設備供應鏈和材料...
在三星決定7nm率先導入EUV后,讓EUV輸出率獲得快速提升,臺積電決定在7nm強化版提供客戶設計定案,5nm才決定全數導入。
看來這和國大國小沒關系。堪比比特幣工廠!臺積電一臺EUV光刻機一天耗電可達3萬度
尖端光刻機一直都荷蘭壟斷,機器都有他們自己的維護人員,所以說我們距離他們差的確實很遠。我相信創新的力量,中國“我能”
盡管所花的時間與成本幾乎比所有人預期得要多,半導體產業終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet,EUV)微影技術的大量生產──在...
與正在蓬勃成長的中國芯片制造業一樣,中國的半導體設備業正在迎來新的曙光。據北方華創微電子的消息,它在2017年1月的訂單量已經超過去年第一季度的總量。半...
在日前于美國舉行的西部光電展(Photonics West)上,業界多家廠商探討了極紫外光(EUV)微影所需的250W光源、具有發展前景的紅外線與近紅外...
推動科技進步的半導體技術真的會停滯不前嗎?這也不太可能,7nm工藝節點將開始應用EUV光刻工藝,研發EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...
巴隆周刊(Barrons)報導,艾司摩爾(ASML)上周公布上季財報亮眼,并宣布已接到新一代極紫外光(EUV)微影機臺六部訂單,有分析師推測,臺積電可能...
進入10nm工藝節點之后,EUV光刻機越來越重要,全球能產EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺EUV光刻機,總價值超過20億歐元,折...
“7納米是很重要的節點,是生產工藝第一次轉向EUV的轉折點。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術在7納米,而EUV是摩爾定律能夠進一步延...
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