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難以制造p型半導(dǎo)體 - 氧化鎵制造功率元件,比SiC更出色?

2012年04月18日 08:47 本站整理 作者:秩名 用戶評(píng)論(0

  另外,關(guān)于難以制造p型半導(dǎo)體這一點(diǎn),使用β-Ga2O3來制作功率元件時(shí),可以將其用作N型半導(dǎo)體,因此也不是什么問題。而且,通過摻雜Sn及Si等施主雜質(zhì),可在電子濃度為1016~1019cm-3的大范圍內(nèi)對(duì)N型傳導(dǎo)特性進(jìn)行控制(圖2)。

N型傳導(dǎo)特性的控制范圍大  

  圖2:N型傳導(dǎo)特性的控制范圍大

  使用β-Ga2O3時(shí),可在大范圍內(nèi)控制N型傳導(dǎo)性。實(shí)際上,通過摻雜施主雜質(zhì),可在1016~1019cm-3范圍內(nèi)調(diào)整電子密度。

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