比利時Luceda公司是根植于比利時根特大學和IMEC的新興硅光設計EDA軟件提供商，近年來在中國市場表現非常活躍，組織了多次硅光領域的培訓課程。這次的“名家芯思維”硅光發展與應用論壇期間，Luceda公司亞洲區代表曹如平博士攜手他們的合作伙伴，西門子旗下的老牌EDA設計軟件公司Mentor再次為中國客戶提供了關于硅光EDA設計工具的最新知識。21日上午，光纖在線編輯應邀采訪了曹如平博士和陳昇祐總監。

作為硅光領域最重要的EDA工具提供商之一，曹博士和陳總監對這個領域近年來的進展了如指掌。曹博士告訴編輯，最近兩年多來，許多客戶的設計團隊對EDA軟件的重視越來越高。最開始接觸硅光設計的時候，客戶多是只關心硬件方面的問題。而在不斷的實踐中，他們發現其實更多的問題是在設計軟件的使用上，比如對設計版圖的檢查和元件庫的使用等等。不同于微電子領域的設計工程師普遍有EDA的知識和經驗，硅光工程師的背景多是光學背景。正是在設計中的許多實際問題，他們認識到在EDA工具使用上的欠缺，因此更加重視這個領域的工作。

Luceda和Mentor的產品能夠為硅光工程師提供什么樣的具體幫助呢？曹博士告訴編輯，EDA工具自動化大規模的版圖驗證功能為硅光工程師提供了極大的便利。現在的硅光芯片設計普遍包括多個抽象的層次，EDA工具提供了對這些層次從上到下以及從下到上的全面視角。同時，他們的EDA工具還支持光與電設計更好的整合。陳總監說，受惠于硅光器件以及CMOS兼容工藝發展的成熟，硅光的商業潛能已經十分明確，硅基光電子集成線路設計必須滿足商業化的時程壓力、性能指標以及量產良率。Mentor是電子EDA設計的領先廠商，其中的 Tanner工具與 Luceda 整合成為硅基光電子集成線路的全流程設計平臺，他們已經和世界上領先的各大硅基光電子晶圓代工廠合作開發許多個工藝設計套件 （PDK），提供和電子芯片設計同樣流暢的流程并處理光子與電子的基本差異，硅基光電子芯片設計師可以進行系統設計、原理圖設計、物理版圖設計、以及大規模光波導布線自動化，Tanner 平臺並整合業界標準Calibre 物理版圖驗證方法以及光刻仿真，實現符合可製造性的大規模設計。他們將微電子設計領域許多工具帶到光芯片領域，協助建立起光電一體的設計生態系統。總之，EDA設計工具的使用大大提升了客戶流片的成功率，這正是Luceda和Mentor的產品對客戶的最大價值。期盼和國內硅基光電子工藝線以及芯片設計師合作，實現硅基光電子集成芯片國產化。

光電混合集成是近年來硅光領域的重要技術趨勢。陳總監告訴編輯，他們正觀察到越來越多這樣的例子，比如在一些芯片公司GPU產品的設計中就開始使用更多的光互聯方案，同樣的例子還出現在陳總監也在負責的物聯網領域。正因為如此，Mentor已經在他們產品中引入更多光學設計的工具，比如Mentor公司的Tanner產品可以支持MEMS的光學設計。他們的Caliber驗證工具對于光電混合設計的版圖可以提供很好的檢查。

Luceda和Mentor的緊密合作為硅光設計工程師提供了便利的工具，為硅光大規模自動化提供了可能，也是硅光光電混合集成這一趨勢最好的注解。