我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日,亦莊企業(yè)北京國望光學科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資,國望光學引入中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機構(gòu)以無形資產(chǎn)作價10億元入股,對應持股比例為33.33%。這意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實質(zhì)性步伐,將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術(shù)難題。
光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,制造和維護均需要高度的光學和電子工業(yè)基礎。光刻機工作原理跟照相機類似,不過它的底片是涂滿光刻膠的硅片,各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上,光刻膠的曝光部分與硅片進行反應,將其永久刻在硅片上,這就是芯片生產(chǎn)最重要的步驟。由于制造光刻機具有極高的技術(shù)和資金門檻,目前全球光刻機市場基本被荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能三家企業(yè)壟斷。
國望光學2018年6月落戶北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是北京亦莊國際投資發(fā)展有限公司的全資子公司,注冊資本20億元,主營業(yè)務為光刻機核心部件生產(chǎn)。
“國產(chǎn)光刻機制作工藝和全球頂尖工藝還有一定差距,國望光學的成立就是要推動國產(chǎn)中高端光刻機整機研發(fā)和量產(chǎn)。”亦莊國投相關(guān)負責人說,此次通過北交所增資就是要尋找技術(shù)實力一流的戰(zhàn)略投資方。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-17 00:13
?2856次閱讀
光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
發(fā)表于 02-06 09:38
?41次閱讀
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
?210次閱讀
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
?452次閱讀
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
發(fā)表于 01-07 10:02
?416次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
?980次閱讀
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?2572次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?849次閱讀
的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進行測試。”俄羅斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。 據(jù)報道,俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理
發(fā)表于 05-28 09:13
?721次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
發(fā)表于 05-17 17:21
?1099次閱讀
光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?2107次閱讀
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?6812次閱讀
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
發(fā)表于 03-14 08:42
?602次閱讀
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
發(fā)表于 03-08 14:02
?1246次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4947次閱讀
評論