IT之家3月6日消息 據中國證券報報道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機,但這是設備正常導入,用于產能擴充,并非外界所稱的EUV光刻機。
IT之家今天早些時候報道,3月4日早上8點不到,中芯國際集成電路制造(深圳)有限公司從從荷蘭進口的一臺大型光刻機順利通過出口加工區場站兩道閘口進入廠區,這臺機器主要用于企業復工復產后的生產線擴容。
據IT之家獲悉,EUV光刻機主要用于7nm及以下制程。中芯國際目前量產的最先進制程為第一代FinFET 14nm,已貢獻2019年第四季度1%營收。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
中芯國際
+關注
關注
27文章
1431瀏覽量
65904 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1163瀏覽量
47940 -
EUV
+關注
關注
8文章
609瀏覽量
86678
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?
電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續增長,尤
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像

如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名

組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高

用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
時,摩爾定律開始面臨挑戰。一些光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術。2002年,浸潤式光刻的構想被提出,即利用水作為介質,通過光在液體中的折射特

光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產線
俄羅斯推出首臺光刻機:350nm
來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據外媒報道,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak表示,該設備可確保生產350納米工藝
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
后門!ASML可遠程鎖光刻機!
來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執行遠程鎖定! 據《聯合早報》報道,荷蘭
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable)臺積電相應機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經連續三個季度成為阿斯麥(ASML)最大市場,而
臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
評論