今年2月，紫光展銳發(fā)布了首款采用SoC單芯片設(shè)計(jì)的5G方案“虎賁T7520”，采用了6nm EUV工藝制造，擁有多層極紫外光刻技術(shù)加持，相比初代7nm晶體管密度提高18%，芯片功耗則可降低8%。

虎賁T7520基于馬卡魯2．0平臺(tái)，這也是繼華為、高通、三星、聯(lián)發(fā)科之后首款采用6nm EUV的5G SoC。

據(jù)國內(nèi)媒體報(bào)道，近日，紫光展銳執(zhí)行副總裁周晨接受采訪時(shí)表示，T7520很快會(huì)達(dá)到CS（商業(yè)樣品）的狀態(tài)。他表示，紫光展銳在這個(gè)產(chǎn)品上投入很多資源。

“這個(gè)產(chǎn)品是我們整個(gè)5G，特別是面向消費(fèi)類產(chǎn)品很重要的根。我們基于T7520后續(xù)規(guī)劃的是系列化的5G SoC產(chǎn)品，也都在路上。”

據(jù)悉，搭載虎賁T7520的手機(jī)將于明年量產(chǎn)。

對(duì)于為何選擇6nm，紫光展銳CEO楚慶表示，EUV重新讓摩爾定律獲得了生命。業(yè)界第一個(gè)使用EUV的工藝節(jié)點(diǎn)是7nm，我們選擇6nm是因?yàn)镋UV的應(yīng)用更加成熟，供貨也充足。”

在早先的科普文章中，紫光展銳曾提到，只有引入EUV技術(shù)的6nm才是真正的6nm。

自1965年英特爾創(chuàng)始人之一的戈登·摩爾提出摩爾定律以來，半導(dǎo)體領(lǐng)域就一直在遵循著“當(dāng)價(jià)格不變時(shí)，集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18個(gè)～24個(gè)月便會(huì)增加一倍，性能也將提升一倍”的規(guī)律前行。技術(shù)人員一直在研究開發(fā)新的IC制造技術(shù)，以縮小線寬、增大芯片的容量。

EUV光刻機(jī)的出現(xiàn)，就是一個(gè)重大突破。它實(shí)現(xiàn)了高速，低功耗和高集成的芯片生產(chǎn)工藝，滿足了5G高性能、超帶寬、低時(shí)延和海量連接的需求。

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