euv光刻機原理是什么
芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？
EUV光刻機的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術，具有效率高、無損傷等優點。
EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。
高端投影光刻機可分為兩種類型：步進投影光刻和掃描投影光刻。分辨率一般在在10納米到幾微米之間。高端光刻機被譽為世界上最精密的儀器。
本文綜合自百度百科、時間財富網
審核編輯：何安
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