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電子發燒友網>制造/封裝>今日看點丨英特爾確認 ASML 第二臺 High NA EUV 光刻機完成安裝;榮耀 X60 系列手機官宣支持衛星通信技術

今日看點丨英特爾確認 ASML 第二臺 High NA EUV 光刻機完成安裝;榮耀 X60 系列手機官宣支持衛星通信技術

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關于EUV光刻機的分析介紹

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中國需要光刻機,尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說,就是 EUV (極紫外光源)光刻機
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2022-06-17 16:33:276873

ASMLHigh-NA光刻機居然只賣出5,大多芯片廠商不為所動

2nm制程的量產。 目前市面上最先進的是EUV光刻機,而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機完成ASML為此正在研發一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠
2022-06-22 14:44:161377

EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付

3nm制程,據了解,更加先進的制程就需要更先進的光刻機完成了。 光刻機廠商ASML為此正在研發新一代High NA EUV光刻機,這種EUV光刻機NA數值孔徑比現在0.33口徑的EUV光刻機還要高,達到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126973

三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息

三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155944

euv光刻機可以干什么 光刻工藝原理

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASMLEUV光刻機
2022-07-06 11:03:077379

中國euv光刻機三大突破 光刻機的三個系統

如今世界最先進的EUV光刻機,只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3851353

euv光刻機出現時間 ASML研發新一代EUV光刻機

EUV光刻機是在2018年開始出現,并在2019年開始大量交付,而積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444728

euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎

ASML的極紫外光刻機EUV),這個是當前世界頂級的光刻機設備。 在芯片加工的時候,光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段,通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制等多項先
2022-07-10 11:17:4245118

euv光刻機是哪個國家的

是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作系統三大核心技術。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:277481

euv光刻機是干什么的

可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作系統三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066720

duv光刻機euv光刻機區別是什么

目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術EUV使用的是深紫外光刻技術EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1082220

euv光刻機原理是什么

光刻機的原理是接近或接觸光刻,通過無限接近,將圖案復制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上,通過移動工作或透鏡掃描實現任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術,具有效率高、無損傷等優點。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1016169

ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!

對于3nm后的節點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:042211

ASML光刻機擴產計劃公布:EUV 90/年 DUV 600/年

沿,正是由于設備的先進性同樣受到美國管制,不允許最先進的光刻機賣給我國半導體廠商,但是ASML為了支持中國業務的增長,頂住了很大的壓力,已經明確表示會繼續深耕中國市場,ASML的產能就備受關注。 同時在5月份的時候,ASML首席執行兼總裁 Peter Wennink
2022-11-12 17:58:121943

ASML之外的光刻機廠商們近況如何?

電子發燒友網報道(文/周凱揚)盡管ASML作為目前占據主導地位的光刻機廠商,憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵,主導著半數以上的市場份額,但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機
2022-11-24 07:10:033759

密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機

投入使用高NA EUV光刻機已經勢在必行了。 據了解,一NA EUV光刻機成本就可能達到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統究竟能帶來哪些優勢,又存在哪些挑戰呢? 規模和密度的平衡,我們為什么需要高NA光刻機? 從今年發布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:021185

日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄:采購 ASML ***,加強技術合作

報道稱,ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼,采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到,EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺,面臨著積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出,如果 Rapidus 和 ASML 展開合作,有望強化供應鏈。
2023-06-27 16:08:05619

ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術長期協議,延續至2040年以后

熱點新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元 ASML 首席執行 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06896

三星希望進口更多ASML EUV***,5年內新增50

EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分,占據總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜,因此ASML每年只能制造約60,而全球5家芯片制造商都依賴ASMLEUV光刻機,包括英特爾、美光、三星、SK海力士、積電。目前,AMSL約有70%的EUV光刻機積電購買。
2023-11-22 16:46:56648

英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機

如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39765

榮耀Magic6系列搭載鴻燕衛星通信技術

從官方一同公布的海報來看,榮耀鴻燕衛星通信擁有更小體積、更快連接、更低功耗,其將支持衛星通話和衛星短信。
2023-12-29 11:36:09946

三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

根據資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機的研發與商用,并獲得EUV光刻機的優先供應,在2012年,英特爾積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月,英特爾入股ASML獲得15%股權,并出資10億美元支持研發。
2024-02-23 17:27:59892

英特爾:預計2027年末10A節點投產,投資千億美元擴大晶圓制造

 根據先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術的首批主要節點之后的第二例,預計可呈現出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22449

英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數值孔徑光刻機的廠商

英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01382

ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASMLX 平臺上的相關動態
2024-03-14 08:42:34452

阿斯麥(ASML)公司首臺高數值孔徑EUV光刻機實現突破性成果

)光刻機,并已經成功印刷出首批圖案。這一重要成就,不僅標志著ASML公司技術創新的新高度,也為全球半導體制造行業的發展帶來了新的契機。目前,全球僅有兩高數值孔徑EUV
2024-04-18 11:50:47687

英特爾完成高數值孔徑EUV光刻機,將用于14A制程

半導體設備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數值孔徑EUV系統的關鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無疑展示了其在行業中的領先地位。
2024-04-19 10:07:37476

英特爾突破技術壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝

英特爾的研發團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產線。
2024-04-22 15:52:56792

英特爾率先推出業界高數值孔徑 EUV 光刻系統

來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑(高NA)極紫外(EUV光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展,使英特爾代工廠能夠繼續超越英特爾 18A
2024-04-26 11:25:56398

ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案

ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
2024-04-29 10:44:34706

英特爾完成首臺高數值孔徑EUV光刻機安裝,助力代工業務發展

 知情人士透露,由于ASML高數值孔徑EUV設備產能有限,每年僅能產出5至6,因此英特爾將獨享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預計需等到明年下半年才能獲得此設備。
2024-05-08 10:44:04682

積電未確定是否采購阿斯麥高數值孔徑極紫外光刻機

盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之,但芯片制造商需要權衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設備的可靠性問題。
2024-05-15 09:34:27328

積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關鍵

據今年2月份報道,荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。
2024-05-15 14:42:38522

積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產

據臺灣業內人士透露,積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NAEUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機
2024-05-17 17:21:47776

Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機

在全球四大先進制程代工巨頭(包括積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
2024-05-27 14:37:22521

ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小

,約在2030年將提供新的Hyper-NA EUV技術。目前仍處于開發初期階段的Hyper-NA將遵循High-NA系統,ASML今年初在英特爾奧勒岡廠首度安裝High-NA系統。 報導,van
2024-06-18 09:57:53355

押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機積電三星決戰2025!

了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004923

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