1. 三星加速先進制程投資 明年Q1建成月產(chǎn)能7000片晶圓2nm產(chǎn)線
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據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,三星電子正在加快建立用于量產(chǎn)2nm工藝的生產(chǎn)設(shè)施。該公司已將各種設(shè)備引入其位于華城工廠的代工線“S3”,以建立2nm生產(chǎn)線,目標是到明年第一季度安裝一條月產(chǎn)能為7000片晶圓的生產(chǎn)線。
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從明年第二季度開始,三星還計劃在平澤二廠的“S5”安裝一條1.4nm生產(chǎn)線,產(chǎn)能約為每月2000~3000片晶圓。“S3”剩余的3nm生產(chǎn)線計劃在明年年底前全面轉(zhuǎn)換為2nm生產(chǎn)線。此舉是三星推進其技術(shù)路線圖的更廣泛戰(zhàn)略的一部分,該路線圖旨在明年大規(guī)模生產(chǎn)2nm,到2027年大規(guī)模生產(chǎn)1.4nm,以趕上競爭對手臺積電。
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2. 英特爾酷睿 7 250H 處理器曝光:單核比 14500HX 高 2.63%,多核高 3.88%
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科技媒體 pcgamesn 發(fā)布博文,報道稱在 GeekBench 跑分庫中發(fā)現(xiàn)了英特爾酷睿 7 250H 處理器的蹤跡,6.3.0 版本單核成績?yōu)?2415 分,多核成績?yōu)?13201 分。根據(jù)頁面顯示,英特爾酷睿 7 250H 處理器為 14 核心處理器,共有 6 個 P 核和 8 個 E 核,基礎(chǔ)時鐘頻率為 2.5 GHz,睿頻為 5.187 GHz,并配備 24 MB 的 L3 緩存。
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消息源表示這顆處理器和英特爾其它酷睿 Ultra 200 系列 CPU 不同,應(yīng)該是基于英特爾第 13 代和第 14 代酷睿 CPU 中使用的 Raptor Lake 架構(gòu)。在代號中沒有采用英特爾新 CPU 架構(gòu),而是顯示 Raptor Lake。
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3. 英特爾確認 ASML 第二臺 High NA EUV 光刻機完成安裝
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ASML 新任 CEO 傅恪禮(Christophe Fouquet)出席 SPIE 大會并發(fā)表演講,重點介紹了 High NA EUV 光刻機。他提到,High NA EUV 光刻機不太可能像最初的 EUV 光刻機那樣出現(xiàn)延遲。緊隨其后上臺的是英特爾院士兼光刻總監(jiān) Mark Phillips,他表示英特爾已經(jīng)在波特蘭工廠完成了兩臺 High NA 光刻系統(tǒng)的安裝,而且他還公布了一些資料,表明 High NA EUV 相對于標準 EUV 光刻機所帶來的改進可能要比之前想象中還要多。
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他表示,由于已經(jīng)有了經(jīng)驗,第二套 High NA EUV 光刻系統(tǒng)的安裝速度比第一個還要更快。據(jù)稱,High NA 所需的所有基礎(chǔ)設(shè)施已經(jīng)到位并開始運行。用于 High NA 的光刻掩模檢測工作已經(jīng)按計劃開始進行。因此,英特爾無需做太多輔助支持工作即可將其投入生產(chǎn)。
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4. 6.98-9.88 萬元,吉利星愿純電小車正式發(fā)布
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吉利全新 A0 級純電小車 —— 吉利星愿正式發(fā)布上市,官方指導(dǎo)價 6.98~9.88 萬元(含 12 月 31 日前 3000 元補貼),提供了香草米、羅勒青、冰莓粉、奶蓋白、慕斯銀、松露灰、海鹽藍七種車色,可選裝雙色車身、單目攝像頭和原廠 ETC 等。
吉利星愿基于 GEA 架構(gòu),長寬高分別為 4135/1805/1570mm,軸距為 2650mm,駕駛方面,新車采用了前麥弗遜獨立懸架和后多連桿獨立懸架并 11 合 1 智能電驅(qū)等,極速可突破 120km/h;可選 30.12kWh 或 40.16kWh 的寧德時代電池,支持液冷散熱、最大 1.66C 充電倍率,SOC 30-80% 僅需 24.2 分鐘,還支持 3.3kW 的對外放電功能。
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5. 10 月 16 日發(fā)布,榮耀 X60 系列手機官宣支持“行業(yè)旗艦級”衛(wèi)星通信技術(shù)
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榮耀終端有限公司中國區(qū) CMO 姜海榮在微博發(fā)文宣布,即將登場的榮耀 X60 系列將“再一次打破不可能”,在品質(zhì)、續(xù)航、屏幕、通信等方面全方位升級,考慮到 X 系列有不少在森林、沙漠、山脈等地區(qū)作業(yè)和生活的消費者,因此將“行業(yè)旗艦級”的衛(wèi)星通信技術(shù)融入 X60 系列。
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此前榮耀已經(jīng)官宣,X60 系列手機將于 10 月 16 日 19:30 發(fā)布。在榮耀手機官方最新發(fā)布的微博預(yù)熱活動海報里出現(xiàn)一款新機,外觀延續(xù)榮耀 X50 的設(shè)計,結(jié)合活動內(nèi)容來看,疑似 X60 系列新機。外觀方面,該機后置“星環(huán)”相機模組,配色為青色,同時后蓋還有些許紋理。
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6. 微軟宣布獲得英偉達最新GB200 AI服務(wù)器
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微軟Azure在社交平臺上宣布,公司已經(jīng)拿到了搭載英偉達GB200超級芯片的AI服務(wù)器,成為全球云服務(wù)供應(yīng)商中首個用上Blackwell體系的公司。
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英偉達今年3月發(fā)布了全新的Blackwell 計算平臺及GB200超級芯片。與前一代H100 GPU 相比,GB200超級芯片在大語言模型推理工作負載方面的性能提升了30倍。
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今日看點丨英特爾確認 ASML 第二臺 High NA EUV 光刻機完成安裝;榮耀 X60 系列手機官宣支持衛(wèi)星通信技術(shù)
- 英特爾(170927)
- 衛(wèi)星通信(38659)
- 光刻機(46992)
- 榮耀手機(15465)
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華為 Mate 50 系列及全場景新品秋季發(fā)布會將于明日下午舉行,根據(jù)官方此前預(yù)熱,Mate 50 系列將搭載“向上捅破天”的通訊技術(shù),后被華為內(nèi)部人士證實為支持衛(wèi)星通信。昨天,華為官方用一段
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2021-07-29 09:36:46
芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機單價為何能超1億歐元?
進入10nm工藝節(jié)點之后,EUV光刻機越來越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺EUV光刻機,總價值超過20億歐元,折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元,可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:59
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這筆錢花的值!單價1.2億刀,中芯國際拿下EUV光刻機
芯國際(SMIC)已經(jīng)向ASML公司訂購了一臺EUV光刻機,單價1.2億美元,預(yù)計在2019年初交付。
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2018-05-20 10:32:37
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ASML將于明年出貨30臺EUV光刻機
臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝,預(yù)計明年大規(guī)模量產(chǎn),三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝,這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了,而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:29
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臺積電將包攬ASML這批EUV光刻機中的18臺
由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV,同時ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機的年出貨量從18臺提升到今年的預(yù)計30臺,顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:03
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關(guān)于EUV光刻機的分析介紹
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:18
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ASML研發(fā)第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%
據(jù)韓媒報道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機,與現(xiàn)有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:39
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ASML研發(fā)新一代EUV光刻機 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:48
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曝ASML新一代EUV光刻機預(yù)計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:19
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EUV光刻機全球出貨量達57臺
與此同時, 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺)。
2020-08-14 11:20:55
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EUV光刻機的數(shù)量有望成為三星半導(dǎo)體成長的關(guān)鍵
據(jù)悉,ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的廠商,年產(chǎn)量為40余臺,臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機的價格昂貴,每臺要價約1.3億美元,由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備,臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:52
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EUV光刻機還能賣給中國嗎?
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:49
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三星副會長跑ASML總部去催貨光刻機
作為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的重要設(shè)備,光刻機不可或缺,尤其是7nm以下先進工藝生產(chǎn)離不開的EUV光刻機,目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),而臺積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠,都有迫切需求,因此這個市場
2020-10-27 11:30:14
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ASML EUV光刻機被美國限制 中國企業(yè)出多少錢都買不回
ASML在光刻機領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在,而他們對于與中國企業(yè)合作也是非常歡迎,無奈一些關(guān)鍵細節(jié)上被美國卡死。 中國需要光刻機,尤其是支持先進制程的高端光刻機,特別是 EUV (極紫外光源)光刻機
2020-11-10 10:08:04
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光刻機巨頭ASML為什么能成功?
龍頭。 而在上世紀80年代,ASML只是飛利浦和ASM合資的一家小公司。但伴隨著半導(dǎo)體行業(yè)風云變化,短短二十年時間,ASML就將昔日光刻機大國美國和日本拉下神壇。如今,全球7nm及以下工藝的EUV光刻機,只有它能提供。那么,ASML在光刻機領(lǐng)域快
2020-11-13 09:28:51
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臺積電為保持業(yè)界領(lǐng)先地位大規(guī)模購買EUV光刻機
訂購了至少13臺ASML的Twinscan NXE EUV光刻機,將會在2021年全年交付,不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。 同時,明年臺積電實際需求的數(shù)量可能是高達16到17臺EUV光刻機
2020-11-17 16:03:38
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ASML完成制造1nm芯片EUV光刻機
本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機的比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細節(jié)。 至少就目前而言,ASML對于3m、2nm
2020-11-30 15:47:40
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ASML表示將向國內(nèi)市場出售更多的DUV光刻機
而由其所研發(fā)生產(chǎn)的EUV光刻機更是在高端市場之中處于一家獨大的位置。臺積電作為ASML的股東很輕松就能夠獲得ASML的EUV光刻機,所以這邊導(dǎo)致臺積電一直以來在技術(shù)上領(lǐng)先于三星。當然能夠在5納米等工藝方面保持領(lǐng)先的地位,也是因為這個原因。
2020-12-01 12:03:15
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臺積電現(xiàn)采購 35 臺 EUV 光刻機,占 ASML 過半產(chǎn)量
據(jù)中國臺灣經(jīng)濟日報報道,EUV 光刻機制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪三星,雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在臺積電之前,取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:57
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全球最先進的1nm EUV光刻機業(yè)已完成設(shè)計
想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場,真的可謂哀嚎一片,一時間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天,我們不僅看到5nm工藝如期而至,臺積電宣布2nm獲得重大進展,就連光刻機的老大ASML也傳來捷報,全球最先進的1nm EUV光刻機業(yè)已完成設(shè)計。
2020-12-02 16:55:41
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為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設(shè)備?
自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后,需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒豪言:這種頂尖的EUV極紫外光刻機,目前全球
2020-12-03 13:46:22
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臺積電已經(jīng)向ASML下定了至少13臺EUV光刻機
需要明白的是,EUV光刻機不是有錢就能買,因為ASML每年的產(chǎn)能非常有限,2019年全年才出貨了26臺,今年上半年出貨了13臺,截至三季度結(jié)束累計才出貨23臺。
2020-12-11 13:56:20
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ASML官宣:光刻機技術(shù)迎來新突破
向前進步,不然芯片的制程工藝也不會提升得這么快。據(jù)了解,近日ASML正式官宣,***技術(shù)再上一層樓,新一代的NA EUV***已經(jīng)完成了設(shè)計過程,預(yù)計2022年就會投入使用!
據(jù)ASML方面表示
2020-12-16 16:32:13
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vivo正式官宣X60系列發(fā)布會信息海報和一段外觀視頻
今天,vivo官方微博正式宣布,vivo X60系列手機新品發(fā)布會將于2020年12月29日晚19:30正式舉辦。屆時,搭載第二代防抖微云臺技術(shù)的vivo X60系列手機將正式與大家見面。根據(jù)曝光
2020-12-22 09:23:28
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vivo預(yù)熱X60系列:采用第二代微云臺
1080 芯片和 OriginOS 操作系統(tǒng)。 vivo X60 系列相機鏡頭由 vivo、蔡司聯(lián)合研發(fā),主打蔡司光學鏡頭,微云臺黑光夜視 2.0,采用 vivo 第二代微云臺。vivo方面今日為該系列
2020-12-22 10:53:58
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vivo X60系列曝光 搭載第二代微云臺技術(shù)
今天,一段關(guān)于X60系列夜景拍攝效果的預(yù)熱視頻在vivo官方微博放出。視頻通過地墊上的狗和黑暗環(huán)境中的人物兩個場景,強調(diào)了搭載了第二代微云臺技術(shù)的X60系列強大的夜景拍攝能力,即便是在非常黑暗的環(huán)境下,X60系列依然可以正確曝光,并保留視頻暗部細節(jié),這一出色能力可以讓“夜色更精彩”。
2020-12-23 14:36:46
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臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機
1nm及以下。
目前ASML已經(jīng)完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設(shè)計,至于設(shè)備的商業(yè)化。要等到至少2022年,而等到臺積電和三星拿到設(shè)備,之前要在2023年。
與此同時
2020-12-30 09:23:48
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vivo X60 系列手機的影像系統(tǒng)詳細介紹:蔡司光學鏡頭,第二代微云臺
在 vivo X60 系列發(fā)布會上,vivo 詳細介紹了該系列手機的影像系統(tǒng)。 據(jù)介紹,vivo X60 系列采用蔡司光學鏡頭,最大那一顆的是第二代微云臺主攝,48MP,25mm 等效焦距;第二排
2020-12-30 09:25:16
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ASML完成第100臺EUV光刻機的出貨
最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺EUV***的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV***產(chǎn)能將達到45~50臺的規(guī)模。
畢竟,2019年ASML僅
2021-01-04 10:29:40
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vivo X60系列手機正式上架官網(wǎng)開售
2020年12月29日,vivo專業(yè)影像旗艦手機X60系列正式發(fā)布。作為一臺影像旗艦手機,為了避免在拍照時因為抖動而造成的模糊,vivo X60全系標配第二代微云臺,防抖效果更加出色,在任意場景想拍就拍;同時,X60系列最大進光量提升16.8%,夜色更精彩。
2021-01-06 14:47:27
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ASML累計賣出100臺EUV光刻機
越來越多。
據(jù)預(yù)測,2021年臺積電需要新EUV***54臺,三星則計劃2021年后每年引入20臺EUV。而在2021年,ASML的EUV曝光機產(chǎn)能預(yù)計為45-50臺。
也就是說,EUV
2021-01-07 15:27:45
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vivo X60系列“超大杯”官宣:1月21日發(fā)布
今天,vivo官方微博發(fā)布一張海報,宣布vivo X60 Pro+新品發(fā)布會將于1月21日晚19:30正式舉辦,這意味著傳說中的X60系列“超大杯”正式官宣。
2021-01-15 15:06:44
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為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:18
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ASML預(yù)計今年將出貨交付40臺EUV光刻機 單價14億元!
在四季度財報會議上,荷蘭ASML(阿斯麥)表示,預(yù)計今年將出貨交付40臺EUV光刻機,比去年多9臺。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度
2021-01-21 15:30:22
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ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億
%,凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先,一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機,這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:16
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ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
的出貨不及預(yù)期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規(guī)模
2021-01-22 17:55:24
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5nm光刻機搶破頭:臺積電下達18臺光刻機需求
大的需求令可以說是史上的天量,三星英特爾急了。 因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家,在剛剛過去的2020年當中,ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機,也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話,就占盡了全球
2021-01-27 09:56:08
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SK海力士與ASML簽合同:SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
。 據(jù)報道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個超級大單,未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元,約合43.4億美元購買EUV光刻機。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機,不過從之
2021-02-25 09:30:23
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中國有望獨立生產(chǎn)EUV光刻機,打破ASML壟斷
一提起ASML這家公司,就少不了對光刻機問題的討論,因為截至目前,ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了,ASML每年都能賣出去很多臺,而在更先進的EUV光刻機方面,ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:42
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中科院5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別?
5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別? EUV光刻機產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:30
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ASML分享未來四代EUV光刻機的最新進展
日前,ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:40
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ASML第二代EUV光刻機跳票三年,售價恐貴出天際
第二代EUV光刻機原本預(yù)計最快可以2023年問世,但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問世了。 要知道,ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機
2021-06-26 16:55:28
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美國出手阻撓!禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
),中方希望將這款價值1.5億美元的機器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備,生產(chǎn)用于智慧手機、
2021-07-21 16:52:25
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美國出手阻撓,禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
光刻機設(shè)備(極紫外光刻機),中方希望將這款價值1.5億美元的機器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備,生
2021-07-25 17:35:15
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iPhone13搭載定制版X60基帶 或支持低軌衛(wèi)星通信
軌衛(wèi)星(LEO)通信,在沒有其他手機信號的情況下,使用衛(wèi)星信號來完成通話和傳訊。 定制版X60,提前支持低軌衛(wèi)星通信 今年高通已經(jīng)宣布其X65基帶將支持到Globalstar全球星的n53頻段,據(jù)了解,iPhone13可能會搭載定制的X60基帶,提前支持到低軌衛(wèi)星通信。不過
2021-09-02 11:33:17
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EUV光刻機何以造出5nm芯片
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)作為近乎壟斷的光刻機巨頭,ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:10
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ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造,每臺預(yù)計售價4億美元
近日,據(jù)外媒路透社報道稱,全球最先進的光刻機生產(chǎn)廠商ASML正致力于進行新一代光刻機的制造,預(yù)計第一臺會在明年完工,將在2025能夠正式投入使用,每臺新光刻機售價預(yù)計在4億美元左右。 新光刻機采用
2022-05-22 14:40:59
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臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關(guān)研究
引進ASML最先進的High-NA EUV光刻機,并且推動臺積電的創(chuàng)新能力。不過另一位高管補充道:臺積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機投入到生產(chǎn)工作中去,將首先與合作伙伴進行相關(guān)的研究。 據(jù)了解,High-NA EUV光刻機的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑,相比于現(xiàn)在的光刻技術(shù),
2022-06-17 16:33:27
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ASML的High-NA光刻機居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動
2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進的是EUV光刻機,而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:16
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新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
3nm制程,據(jù)了解,更加先進的制程就需要更先進的光刻機來完成了。 光刻機廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機,這種EUV光刻機的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機還要高,達到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:12
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三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:15
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euv光刻機出現(xiàn)時間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
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euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
ASML的極紫外光刻機(EUV),這個是當前世界頂級的光刻機設(shè)備。 在芯片加工的時候,光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段,通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先
2022-07-10 11:17:42
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euv光刻機是哪個國家的
是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:27
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euv光刻機是干什么的
可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
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duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
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euv光刻機原理是什么
光刻機的原理是接近或接觸光刻,通過無限接近,將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上,通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù),具有效率高、無損傷等優(yōu)點。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:10
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ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!
對于3nm后的節(jié)點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:04
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ASML光刻機擴產(chǎn)計劃公布:EUV 90臺/年 DUV 600臺/年
沿,正是由于設(shè)備的先進性同樣受到美國管制,不允許最先進的光刻機賣給我國半導(dǎo)體廠商,但是ASML為了支持中國業(yè)務(wù)的增長,頂住了很大的壓力,已經(jīng)明確表示會繼續(xù)深耕中國市場,ASML的產(chǎn)能就備受關(guān)注。 同時在5月份的時候,ASML首席執(zhí)行官兼總裁 Peter Wennink
2022-11-12 17:58:12
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除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機廠商,憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額,但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機
2022-11-24 07:10:03
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密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機
投入使用高NA EUV光刻機已經(jīng)勢在必行了。 據(jù)了解,一臺高NA EUV的光刻機成本就可能達到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢,又存在哪些挑戰(zhàn)呢? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰?b class="flag-6" style="color: red">NA光刻機? 從今年發(fā)布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄:采購 ASML ***,加強技術(shù)合作
報道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼,采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到,EUV 光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺,面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出,如果 Rapidus 和 ASML 展開合作,有望強化供應(yīng)鏈。
2023-06-27 16:08:05
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![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/8B/86/wKgaomSamTOAFQ2DAAAP9L0rK0w165.jpg)
ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術(shù)長期協(xié)議,延續(xù)至2040年以后
熱點新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06
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![](https://file1.elecfans.com//web2/M00/A3/47/wKgaomT4PmuAQ-o0AADv2wG2yYQ619.jpg)
三星希望進口更多ASML EUV***,5年內(nèi)新增50臺
EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復(fù)雜,因此ASML每年只能制造約60臺,而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機,包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前,AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56
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英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機
如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39
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榮耀Magic6系列官宣搭載鴻燕衛(wèi)星通信技術(shù)
從官方一同公布的海報來看,榮耀鴻燕衛(wèi)星通信擁有更小體積、更快連接、更低功耗,其將支持衛(wèi)星通話和衛(wèi)星短信。
2023-12-29 11:36:09
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三星清空ASML股份,11年盈利超16倍
根據(jù)資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機的優(yōu)先供應(yīng),在2012年,英特爾、臺積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月,英特爾入股ASML獲得15%股權(quán),并出資10億美元支持研發(fā)。
2024-02-23 17:27:59
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英特爾:預(yù)計2027年末10A節(jié)點投產(chǎn),投資千億美元擴大晶圓制造
根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點之后的第二例,預(yù)計可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22
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英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01
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ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關(guān)動態(tài)
2024-03-14 08:42:34
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阿斯麥(ASML)公司首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機實現(xiàn)突破性成果
)光刻機,并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一重要成就,不僅標志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度,也為全球半導(dǎo)體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機。目前,全球僅有兩臺高數(shù)值孔徑EUV
2024-04-18 11:50:47
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英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機,將用于14A制程
半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發(fā)布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無疑展示了其在行業(yè)中的領(lǐng)先地位。
2024-04-19 10:07:37
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英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
2024-04-22 15:52:56
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英特爾率先推出業(yè)界高數(shù)值孔徑 EUV 光刻系統(tǒng)
來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業(yè)界首個高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。 新設(shè)備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展,使英特爾代工廠能夠繼續(xù)超越英特爾 18A
2024-04-26 11:25:56
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ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進了一大步。
2024-04-29 10:44:34
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英特爾完成首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機安裝,助力代工業(yè)務(wù)發(fā)展
知情人士透露,由于ASML高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備產(chǎn)能有限,每年僅能產(chǎn)出5至6臺,因此英特爾將獨享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預(yù)計需等到明年下半年才能獲得此設(shè)備。
2024-05-08 10:44:04
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臺積電未確定是否采購阿斯麥高數(shù)值孔徑極紫外光刻機
盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設(shè)計尺寸縮減達三分之二,但芯片制造商需要權(quán)衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設(shè)備的可靠性問題。
2024-05-15 09:34:27
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臺積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵
據(jù)今年2月份報道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。
2024-05-15 14:42:38
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臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
2024-05-17 17:21:47
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Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
2024-05-27 14:37:22
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ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小
,約在2030年將提供新的Hyper-NA EUV技術(shù)。目前仍處于開發(fā)初期階段的Hyper-NA將遵循High-NA系統(tǒng),ASML今年初在英特爾奧勒岡廠首度安裝High-NA系統(tǒng)。 報導(dǎo),van
2024-06-18 09:57:53
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押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰(zhàn)2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:00
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