在线观看www成人影院-在线观看www日本免费网站-在线观看www视频-在线观看操-欧美18在线-欧美1级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

過氧化氫(雙氧水)工藝資料(下)

華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 來源:華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 作者:華林科納半導(dǎo)體設(shè) ? 2022-08-16 17:19 ? 次閱讀

濃品工段工藝流程及產(chǎn)污節(jié)點圖見圖1

poYBAGL7YRWALFK_AAB3J_sQrKQ449.jpg

二、濃品工段工藝流程簡述

(1)進(jìn)料系統(tǒng)

27.5%的過氧化氫進(jìn)入原料液預(yù)熱器與底部產(chǎn)品(熱量回收)換熱,溫度從30℃加熱到37℃左右后由進(jìn)料泵送入降膜蒸發(fā)器。

(2)進(jìn)料蒸發(fā)

料液在降膜蒸發(fā)器內(nèi)進(jìn)行蒸發(fā),蒸汽經(jīng)過除霧器除去蒸汽中所夾帶的全部液滴。蒸發(fā)蒸汽與過氧化氫溶液同時從蒸發(fā)器排出,液相幾乎含有全部雜質(zhì)。液相通過蒸發(fā)循環(huán)泵將大部分循環(huán)液再返回到蒸發(fā)器的頂部,少部分作為技術(shù)級產(chǎn)品送到技術(shù)級產(chǎn)品冷卻器使其溫度降到36℃再送到技術(shù)級產(chǎn)品儲罐。汽相進(jìn)入精餾塔的下部。

(3)精餾塔

精餾塔為填料塔;過氧化氫與水之間的質(zhì)量傳遞即在該填料表面進(jìn)行。液相(回流液為去離子水)在此處與汽相(蒸汽)充分接觸。塔底得到化學(xué)級產(chǎn)品,進(jìn)化學(xué)品級產(chǎn)品罐,最終進(jìn)入產(chǎn)品罐。精餾塔尾氣經(jīng)冷凝,冷凝液進(jìn)冷凝液水封罐,尾氣再經(jīng)冷凝,該蒸汽冷凝液含有極微量的過氧化氫。

濃品工段工藝流程及產(chǎn)污節(jié)點圖見圖2

pYYBAGL7YRWAPjzSAABH8Uo7bRg167.jpg

審核編輯:湯梓紅
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4

    文章

    677

    瀏覽量

    29302
  • 雙氧水
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    4

    瀏覽量

    2895
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    主流氧化工藝方法詳解

    在集成電路制造工藝中,氧化工藝也是很關(guān)鍵的一環(huán)。通過在硅晶圓表面形成二氧化硅(SiO?)薄膜,不僅可以實現(xiàn)對硅表面的保護(hù)和鈍化,還能為后續(xù)的摻雜、絕緣、隔離等工藝提供基礎(chǔ)支撐。本文將對
    的頭像 發(fā)表于 06-12 10:23 ?429次閱讀
    主流<b class='flag-5'>氧化工藝</b>方法詳解

    半導(dǎo)體制造中的高溫氧化工藝介紹

    ISSG(In-Situ Steam Generation,原位水蒸汽生成)是半導(dǎo)體制造中的一種高溫氧化工藝,核心原理是利用氫氣(H?)與氧氣(O?)在反應(yīng)腔內(nèi)直接合成高活性水蒸氣,并解離生成原子氧(O*),實現(xiàn)對硅表面的精準(zhǔn)氧化
    的頭像 發(fā)表于 06-07 09:23 ?285次閱讀
    半導(dǎo)體制造中的高溫<b class='flag-5'>氧化工藝</b>介紹

    半導(dǎo)體芯片清洗用哪種硫酸好

    ),避免引入二次污染。 適用場景:用于RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗(SC1/SC2配方)、去除硅片表面金屬離子和顆粒。 典型應(yīng)用: SC1溶液(H?SO?/H?O?):去除有機(jī)物和金屬污染; SC2溶液(HCl/H?O?):去除重金屬殘留。 技術(shù)限制: 傳統(tǒng)SPM(硫酸+過氧化氫)清洗中,過氧
    的頭像 發(fā)表于 06-04 15:15 ?145次閱讀

    半導(dǎo)體清洗SC1工藝

    半導(dǎo)體清洗SC1是一種基于氨水(NH?OH)、過氧化氫(H?O?)和去離子水(H?O)的化學(xué)清洗工藝,主要用于去除硅片表面的有機(jī)物、顆粒污染物及部分金屬雜質(zhì)。以下是其技術(shù)原理、配方配比、工藝特點
    的頭像 發(fā)表于 04-28 17:22 ?734次閱讀

    spm清洗會把氮化硅去除嗎

    的潛在影響。 SPM清洗的化學(xué)特性 SPM成分:硫酸(H?SO?)與過氧化氫(H?O?)的混合液,通常比例為2:1至4:1(體積比),溫度控制在80-120℃35。 主要作用: 強(qiáng)氧化性:分解有機(jī)物(如光刻膠殘留)、氧化金屬污染
    的頭像 發(fā)表于 04-27 11:31 ?229次閱讀

    晶圓擴(kuò)散清洗方法

    法) RCA清洗是晶圓清洗的經(jīng)典工藝,分為兩個核心步驟(SC-1和SC-2),通過化學(xué)溶液去除有機(jī)物、金屬污染物和顆粒124: SC-1(APM溶液) 化學(xué)配比:氫氧化銨(NH?OH,28%)、過氧化氫(H?O?,30%)與去離
    的頭像 發(fā)表于 04-22 09:01 ?258次閱讀

    AEC-Q102之硫化氫試驗

    AEC-Q102標(biāo)準(zhǔn)作為汽車電子委員會制定的重要規(guī)范,為汽車級集成電路的可靠性測試提供了明確的指導(dǎo)。其中,硫化氫(H?S)試驗是AEC-Q102標(biāo)準(zhǔn)中極具代表性的測試項目之一,它專注于評估集成電路在
    的頭像 發(fā)表于 04-18 12:01 ?163次閱讀
    AEC-Q102之硫<b class='flag-5'>化氫</b>試驗

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    資料介紹 此文檔是最詳盡最完整介紹半導(dǎo)體前端工藝和后端制程的書籍,作者是美國人Michael Quirk??赐晗嘈拍銓φ麄€芯片制造流程會非常清晰地了解。從硅片制造,到晶圓廠芯片工藝的四大基本類
    發(fā)表于 04-15 13:52

    spm清洗和hf哪個先哪個后

    在半導(dǎo)體制造過程中,SPM(Sulfuric Peroxide Mixture,硫酸過氧化氫混合液)清洗和HF(Hydrofluoric Acid,氫氟酸)清洗都是重要的濕法清洗步驟。但是很多人有點
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:47 ?361次閱讀

    8寸晶圓的清洗工藝有哪些

    可能來源于前道工序或環(huán)境。通常采用超聲波清洗、機(jī)械刷洗等物理方法,結(jié)合化學(xué)溶液(如酸性過氧化氫溶液)進(jìn)行清洗。 刻蝕后清洗 目的與方法:在晶圓經(jīng)過刻蝕工藝后,表面會殘留刻蝕劑和其他雜質(zhì),需要通過清洗去除。此步驟通常
    的頭像 發(fā)表于 01-07 16:12 ?380次閱讀

    中科微感發(fā)布MEMS硫化氫傳感器CM-B111S,精準(zhǔn)高效保障

    范圍廣泛,覆蓋0.1 ppm至100 ppm,能夠滿足不同應(yīng)用場景的需求。其采用了全新的半導(dǎo)體納米多層敏感薄膜材料技術(shù)和優(yōu)化的物理氣象沉積工藝,對硫化氫氣體具有良好的響應(yīng)特性,即使在復(fù)雜多變的環(huán)境條件,也能提供準(zhǔn)確的測量結(jié)果。
    的頭像 發(fā)表于 01-02 14:21 ?503次閱讀

    頂層金屬AI工藝的制造流程

    頂層金屬 AI工藝是指形成頂層金屬 AI 互連線。因為 Cu很容易在空氣中氧化,形成疏松的氧化銅,而且不會形成保護(hù)層防止銅進(jìn)一步氧化,另外,Cu 是軟金屬,不能作綁定的金屬,所以必須利
    的頭像 發(fā)表于 11-25 15:50 ?1036次閱讀
    頂層金屬AI<b class='flag-5'>工藝</b>的制造流程

    化氫試驗(H2S)

    一應(yīng)用原理當(dāng)產(chǎn)品在大氣中使用時,大氣環(huán)境會導(dǎo)致產(chǎn)品金屬表面形成水膜,而大氣中存在的硫化氫、二氧化硫、二氧化氮、氯氣等有害氣體會溶入金屬表面的水膜中,產(chǎn)生腐蝕性離子加速腐蝕的發(fā)生。近年來,環(huán)境的不斷
    的頭像 發(fā)表于 11-18 17:56 ?868次閱讀
    硫<b class='flag-5'>化氫</b>試驗(H2S)

    去除晶圓表面顆粒的原因及方法

    本文簡單介去除晶圓表面顆粒的原因及方法。   在12寸(300毫米)晶圓廠中,清洗是一個至關(guān)重要的工序。晶圓廠會購買大量的高純度濕化學(xué)品如硫酸,鹽酸,雙氧水,氨水,氫氟酸等用于清洗。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 09:40 ?1028次閱讀

    氧化工藝的制造流程

    與亞微米工藝類似,柵氧化工藝是通過熱氧化形成高質(zhì)量的柵氧化層,它的熱穩(wěn)定性和界面態(tài)都非常好。
    的頭像 發(fā)表于 11-05 15:37 ?1256次閱讀
    柵<b class='flag-5'>氧化</b>層<b class='flag-5'>工藝</b>的制造流程
    主站蜘蛛池模板: 中文字幕一区二区三区在线不卡 | 久久精品亚洲一区二区三区浴池 | 一区二区三区亚洲 | 巨乳色网址 | 四虎在线电影 | 夜夜操狠狠干 | 色婷婷激婷婷深爱五月小说 | 欧美亚洲韩国国产综合五月天 | 欧美一级第一免费高清 | 午夜欧美性视频在线播放 | 亚洲免费视频在线观看 | 亚洲人的天堂男人爽爽爽 | 另类free性欧美护士 | 天天躁夜夜躁 | 美女黄页网站免费进入 | 网站色| 午夜在线观看免费观看大全 | 久久精品国波多野结衣 | 交在线观看网站视频 | 免费黄色在线视频 | 中国业余老太性视频 | 午夜小影院 | 欧美激情xxxx性bbbb | 最新日本免费一区二区三区中文 | 亚洲国产高清人在线 | 久久女同| 天天射天天摸 | 在线国产资源 | 亚洲三级在线免费观看 | 久久国产高清字幕中文 | 四虎影视大全免费入口 | 久久午夜神器 | 综合五月天婷婷丁香 | 草草影院ccyy国产日本欧美 | 1024手机免费看 | 欧美色碰碰碰免费观看长视频 | 久久夜色撩人精品国产 | 欧美ol丝袜高跟秘书在线播放 | 国产亚洲精品aa在线观看 | 天天天天做夜夜夜夜 | 免费在线观看视频网站 |