據(jù)韓媒BusinessKorea報(bào)道，一家小型韓國公司開發(fā)了一種石墨烯EUV薄膜，有望顯著提高荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司ASML的極紫外（EUV）光刻設(shè)備的良率。

11月14日，半導(dǎo)體和顯示材料開發(fā)商石墨烯實(shí)驗(yàn)室宣布，公司已經(jīng)開發(fā)出用石墨烯制造小于5納米的EUV薄膜的技術(shù)，并準(zhǔn)備批量生產(chǎn)新的EUV薄膜。

光罩薄膜(Pellicle)是用于保護(hù)EUV工藝中使用的掩模的一種關(guān)鍵制品，它對(duì)于5納米或以下的超微制造工藝至關(guān)重要，這也是一種需要定期更換的消耗品。據(jù)介紹，該EUV薄膜可保護(hù)光掩模表面免受空氣中分子或污染物的影響，由于EUV設(shè)備的光源波長較短，因此EUV薄膜需要變薄以增加透光率。

硅以前已被用于制造EUV薄膜，石墨烯實(shí)驗(yàn)室CEO Kwon Yong-deok表示，石墨烯比硅更薄、更透明，石墨烯制的EUV薄膜將作為使用EUV光刻設(shè)備良率的助推器。

報(bào)道指出，全球EUV薄膜市場預(yù)計(jì)將在2024年達(dá)到1萬億韓元。“三星電子，臺(tái)積電和英特爾是石墨烯實(shí)驗(yàn)室的潛在客戶。”Kwon表示。

審核編輯 ：李倩