最近有消息稱，在英偉達等公司增加AI芯片生產量的推動下，臺積電的先進制程產能利用率大幅提升。但盡管如此，7nm芯片量產依舊停滯不前。

相比之下，臺積電的7納米工藝產能利用率不如5納米工藝。5納米工藝的產能利用率從原來的50%多增加到70%至80%左右，而7納米工藝的產能利用率也從30%至40%的水平逐步提高至50%左右。

這種情況的原因在于制造7納米芯片所需的關鍵設備EUV***難以生產。EUV***是制造7納米芯片的關鍵工具，具有更高的光刻精度，能夠突破傳統***的制造極限。中芯國際早在2018年就向全球唯一生產EUV***的廠商ASML訂購了一臺，但至今尚未交付。

由于DUV***無法滿足先進制程芯片的制造需求，中芯國際無法實現7納米工藝的量產。這是一個極具挑戰性的問題，因為全球對EUV***的需求已排滿了兩年的訂單，后續投產周期也需要相當長的時間，預計直到2023年左右才能供貨。這意味著中芯國際在EUV***方面的生產計劃受到了很大影響。

編輯：黃飛