光刻對準(zhǔn)原理與精度控制
編者按
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授外，學(xué)生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報(bào)告，實(shí)現(xiàn)教學(xué)互動(dòng)。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
考慮到這些內(nèi)容也是目前業(yè)界關(guān)注的實(shí)用技術(shù)，征得教師和學(xué)生的同意，本公眾號(hào)將陸續(xù)展示一些學(xué)生的調(diào)研結(jié)果。這些報(bào)告還很初步，甚至有少許謬誤之處，請業(yè)界專家批評指正。
以下為報(bào)告PPT：
審核編輯：湯梓紅
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
集成電路
+關(guān)注
關(guān)注
5420文章
11956瀏覽量
367242 -
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1163瀏覽量
48065 -
光刻技術(shù)
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
150瀏覽量
16119
原文標(biāo)題：【Study】光刻對準(zhǔn)原理與精度控制
文章出處：【微信號(hào)：光刻人的世界，微信公眾號(hào)：光刻人的世界】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
一文解析對準(zhǔn)光刻蝕刻光刻的基本知識(shí)（SALELE）
通過逐步的說明，本系列說明并向您展示了確保在當(dāng)今最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)中確保布局保真度所需的自對準(zhǔn)模式創(chuàng)建的復(fù)雜性。第1部分介紹了SADP和SAQP。在本期的最后一部分中，我們將向您介紹自對準(zhǔn)光刻蝕刻光
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用
，或者M(jìn)DP軟件。
現(xiàn)有可免費(fèi)試用的光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件，可實(shí)現(xiàn)最高1nm精度的大型圖形轉(zhuǎn)換，同時(shí)只需要的少量的電腦內(nèi)存就可以運(yùn)行。如需要請聯(lián)系我，謝謝！
發(fā)表于 05-02 12:42
光刻技術(shù)原理及應(yīng)用
,對準(zhǔn)精度的提高也受到較多的限制。一般認(rèn)為，接觸式曝光只適于分立元件和中、小規(guī)模集成電路的生產(chǎn)。 非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統(tǒng)中，掩膜圖形經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)成像在感光層上，掩模與晶片上的感光膠
發(fā)表于 01-12 10:51
三種常見的光刻技術(shù)方法
光刻技術(shù)中,涂有光刻膠的硅片與掩膜版直接接觸.由于光刻膠和掩膜版之間緊密接觸,因此可以得到比較高的分辨率.接觸式暴光的主要問題是容易損傷掩膜版和光刻膠.當(dāng)掩膜版與硅片接觸和
發(fā)表于 01-12 10:56
基于ARM的毫米波天線自動(dòng)對準(zhǔn)平臺(tái)系統(tǒng)
在毫米波中繼通信設(shè)備中，為提高對準(zhǔn)精度，縮短對準(zhǔn)時(shí)間，滿足快速反應(yīng)的要求，并結(jié)合毫米波波瓣窄，方向性強(qiáng)的特點(diǎn)，創(chuàng)造性地提出了毫米波天線自動(dòng)對準(zhǔn)平臺(tái)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)方案。在天線對準(zhǔn)過程中，將復(fù)
發(fā)表于 06-11 06:24
基于視頻共焦顯微鏡光刻對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)研究
基于視頻共焦顯微鏡光刻對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)研究王魯賓，周金運(yùn)，宋超（廣東工業(yè)大學(xué)物理與光電工程學(xué)院，廣東 廣州 510006）摘要：針對目前研究的激光投影光刻機(jī)的對準(zhǔn)需要
發(fā)表于 12-17 14:47
?15次下載
高精度自動(dòng)貼片機(jī)視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)及其圖像處理
摘 要:闡述了高精度自動(dòng)貼片機(jī)視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)的構(gòu)成和原理。介紹了利用模式識(shí)別理論和圖像的不變矩實(shí)現(xiàn)定位標(biāo)志存在性判斷的原理及算法和定位標(biāo)志對準(zhǔn)的原理及相關(guān)的圖像處
發(fā)表于 11-13 23:32
?78次下載
高精度光刻機(jī)在大規(guī)模集成電路上的應(yīng)用
微細(xì)圖形加工技術(shù)是集成電路向高集成化發(fā)展的關(guān)鍵, 其中圖形曝光對準(zhǔn)是很主要的。由于接觸式光刻機(jī)的精度高、設(shè)備造價(jià)低, 所以在集成電路制造中被廣泛采用。但是, 隨著大規(guī)模集
發(fā)表于 10-28 17:19
?65次下載
一文解析刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的原理及區(qū)別
光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘
發(fā)表于 04-10 09:49
?13.4w次閱讀
應(yīng)該如何使用ARM實(shí)現(xiàn)毫米波天線自動(dòng)對準(zhǔn)平臺(tái)的設(shè)計(jì)
在毫米波中繼通信設(shè)備中，為提高對準(zhǔn)精度，縮短對準(zhǔn)時(shí)間，滿足快速反應(yīng)的要求，并結(jié)合毫米波波瓣窄，方向性強(qiáng)的特點(diǎn)，創(chuàng)造性地提出了毫米波天線自動(dòng)對準(zhǔn)平臺(tái)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)方案。在天線對準(zhǔn)過程中，將復(fù)
發(fā)表于 08-04 18:52
?3次下載
一文詳解光刻機(jī)的工作原理
光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。
幾種典型的光刻機(jī)對準(zhǔn)方式及精度
? 光刻對準(zhǔn)技術(shù)由最初的明場和暗場對準(zhǔn)發(fā)展到后來的干涉全息或外差干涉全息對準(zhǔn)、混合匹配、由粗略到精細(xì)對準(zhǔn)技術(shù)等。
GTC 2023主題直播：NVIDIA推出計(jì)算光刻庫——cuLitho
晶圓的定位精度達(dá)到四分之一納米，并且每秒對準(zhǔn)2萬次以消除任何振動(dòng)的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。
什么是光刻機(jī)的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案
工商網(wǎng)監(jiān)
評論