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羅姆進軍650V氮化鎵,發(fā)布EcoGaN Power Stage IC!集成GaN HEMT和柵極驅(qū)動器

花茶晶晶 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:黃晶晶 ? 2023-07-27 11:06 ? 次閱讀

氮化鎵功率器件多用于充電器領域,出貨量很大。并陸續(xù)擴展到車載OBC、數(shù)據(jù)中心電源、分布式電源等應用。最近羅姆發(fā)布EcoGaN? Power Stage IC “BM3G0xxMUV-LB”。該產(chǎn)品可以替代現(xiàn)有的Si MOSFET,器件體積減少99%,功率損耗降低55%,可應用于服務器和AC適配器等。在羅姆半導體的媒體交流上,羅姆技術(shù)高管分享了羅姆氮化鎵新產(chǎn)品的特點和對氮化鎵市場的預期。

羅姆半導體(上海)有限公司技術(shù)中心High Power Solution部門負責人周勁介紹,與硅相比,氮化鎵的禁帶寬度、擊穿場強、電子飽和速度高出三倍左右,具有更優(yōu)異的物理性能,特別是在高頻率工作、高速開關(guān)的狀態(tài)下,比硅甚至碳化硅都有更好的表現(xiàn)。HEMT指高電子遷移率晶體管,具有平面結(jié)構(gòu),用來控制器件開關(guān),GaN HEMT的開關(guān)速度非常高。

周勁解析,氮化鎵的使用通常會面臨兩個問題,一是驅(qū)動電壓(Vth)比較低,通常是1.5到1.8V左右,有噪音的時候會誤開啟,即便不一定壞,但會導致?lián)p耗比較高。

二是柵極耐壓比較低,通常氮化鎵器件的標定是5V驅(qū)動電壓,4.5V以下可以導通但不徹底,到了6V以上則面臨柵極損壞的風險。最佳驅(qū)動電壓范圍窄,柵極處理起來很難。氮化鎵器件通常工作在很高的頻率,噪音和脈沖情況都比較復雜,通常必須與專門的驅(qū)動電路或者驅(qū)動器配合使用,但是這樣外置元器件數(shù)量多,通路的寄生參數(shù)的影響在工作的200K以上或者是1兆更高,這種寄生參數(shù)影響就越來越明顯。

羅姆新推出的Power Stage IC,將柵極驅(qū)動器和GaN HEMT一體化封裝,可輕松替代Si MOSFET。這兩者將FET性能最大化,GnA決定效率值,組合在一起實現(xiàn)高速開關(guān),更加充分地發(fā)揮氮化鎵器件的性能。

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相比Si MOSFET,開關(guān)損耗大幅度降低,外圍電路更簡單,僅需一個外置器件,另外,相比Si MOSFET+散熱片,器件體積顯著減小。 有助于應用產(chǎn)品的小型化。

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新產(chǎn)品為VQFN封裝,8×8mm,厚度是1毫米的IC,一體化的封裝,驅(qū)動電壓可實現(xiàn)跟現(xiàn)在的DC-DC控制器一樣的水準,啟動時間也大幅縮短,傳輸延遲11納秒到15納秒,這個是基于氮化鎵本身的高速特性。

從產(chǎn)品的框圖來看,柵極驅(qū)動器內(nèi)置電壓范圍接口,通過這個接口使原來的很窄的驅(qū)動電壓要求可以達到5V到30V,羅姆發(fā)揮在模擬方面的技術(shù)優(yōu)勢,加入Power GaN的系列,豐富了產(chǎn)品陣容。

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同時,芯片內(nèi)置EMI控制,優(yōu)化驅(qū)動的波形,在不影響速度的情況下,能夠控制EMI,還有相應的電源、溫度保護等等電路。在把這款氮化鎵器件替代到現(xiàn)有方案中時,不需要大幅調(diào)整驅(qū)動電壓,不用擔心噪聲影響,從而簡化設計工程師的工作。

該產(chǎn)品支持各種一次側(cè)電源電路。可以應用在各種AC-DC的電路中,包括反激式、半橋、交錯式和圖騰等,驅(qū)動范圍寬、啟動時間短,傳輸延遲時間短,整個環(huán)路等的設計更簡單。

新產(chǎn)品目前有兩款,包括BM3G007MUV-LB和BM3G015MUV-LB,導通電阻分別是70毫歐和150毫歐。此外,還備有三款評估板,一款是BM3G007MUV-EVK-002,用來評估芯片的整體方案性能,另外兩款BM3G007MUV-EVK-003和BM3G015MUV-EVK-003,可移植到客戶現(xiàn)有方案進行測試。

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羅姆自2006年開始研發(fā)氮化鎵相關(guān)產(chǎn)品,在2021年確立150V GaN器件技術(shù),普通氮化鎵產(chǎn)品是6V耐壓,羅姆產(chǎn)品可以做到8V。

2023年4月開始量產(chǎn)650V耐壓產(chǎn)品,此次又發(fā)布650V Power Stage IC。今后還將不斷改進驅(qū)動技術(shù)和控制技術(shù),與EcoGaN系列GaN器件相結(jié)合,便于客戶選擇。

另外,Power Stage IC的下一代產(chǎn)品,準偕振AC-DC+GaN的器件預計在2024年一季度量產(chǎn),功率因數(shù)改善+GaN的器件也是2024年第一季度量產(chǎn),半橋+GaN的器件預計在2024年第二季度量產(chǎn)。

如今隨著快充的廣泛應用,氮化鎵的成本也隨之下降。預計在工業(yè)系統(tǒng)應用、新能源氣汽車等應用的推動下,2025年后氮化鎵將迎來下一波增長。而羅姆也將不斷擴充氮化鎵產(chǎn)品線,滿足市場所需。

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