(1)在漏極為正極的漏極和源極之間施加電壓。(漏極-源極電壓:VDS)
(2)在柵極為正極的柵極和源極之間施加電壓。(柵極-源極電壓:VGS)
(3)其結果是,電子被吸引到柵極絕緣膜下面的p型層上,部分p型層轉變為n型區(p型層中的n型區稱為“反轉層(溝道)”)。
(4)當這個反轉層完成時,MOSFET漏極到源極將形成n層路徑。
(n+?n-? 反轉層(n)? n+)
(5)因此MOSFET在低電阻下工作,漏極電流由外加VDS和負載流決定。
圖3-6(a)平面柵極MOSFET的結構和工作原理
圖3-6(b)溝槽柵極MOSFET的結構和工作原理
審核編輯:湯梓紅
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發表于 06-13 10:07
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