PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區(qū)別解讀
在手機蓋板領(lǐng)域，PVD鍍膜裝飾工藝的應(yīng)用越來越廣，無論在金屬、玻璃、陶瓷及復(fù)合材料后蓋上，都需要PVD鍍膜，來提升手機蓋板的顏值及逼格，那么如何通過鍍膜來提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢？有哪些主流的工藝？今天我們來了解一下。
一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位？
1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜
2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜，增加手感，內(nèi)表面鍍顏色膜
3. 復(fù)合板材鍍反藍光（冰焰藍）
3.氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜
二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區(qū)別
PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天，我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。
蒸發(fā)鍍膜，是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面，此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動能太低，填充密度太低。
電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機理：
| 影響種類 | 問題點 | 內(nèi)在機理 |
| 溫度 | 成膜溫度影響產(chǎn)品顏色 | 溫度高填充密度高，漂移少 |
| 真空室氧化能力的影響 | 大清洗前波長偏長，之后偏短 |
*水蒸氣可以認(rèn)為就是氧氣。 *鍍膜速度直接影響氧化能力， 即膜層中金屬或低價氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發(fā)出來的物質(zhì)是高價氧化物、 低價氧化物和金屬單體的混合物，更多的金屬 單體或低價氧化物在充大氣后會俘獲更多的 氧原子，使膜層致密。 |
| 空氣濕度大時膜層顏色不好控制 | ||
| 開爐時間長波長偏長 | ||
| 鍍膜慢波長偏長 | ||
| 膜料分解狀況的影響 | 貌似電子槍光斑大小有影響 |
*光斑位置影響光斑大小。 *燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。 *掃描足夠快時是面蒸發(fā)，慢時依舊點蒸發(fā)， 這當(dāng)然也相當(dāng)于“光斑大小”問題。 *光斑小，蒸發(fā)區(qū)域溫度高，材料分解嚴(yán)重， 金屬單體和低價氧化物比例更高。 |
| 貌似光斑位置也有影響 | ||
| 貌似燈絲變形也有影響 | ||
| 貌似掃描快慢也有影響 | ||
| ……… |
磁控濺射鍍膜，通過在靶材與真空室壁之間施加電場，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動能較蒸發(fā)高出兩個數(shù)量級，填充密度高達98%，折射率高且穩(wěn)定。
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原文標(biāo)題：3D玻璃、陶瓷及復(fù)合材料表面裝飾都需要它：PVD磁控濺射
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