文章來源:學習那些事
原文作者:前路漫漫
本文介紹了晶圓級封裝技術的概念、優劣勢和發展現狀及趨勢。
WLP技術概述與發展
圓片級封裝(WLP),也稱為晶圓級封裝,是一種直接在晶圓上完成大部分或全部封裝測試程序,再進行切割制成單顆組件的先進封裝技術 。WLP自2000年左右問世以來,已逐漸成為半導體封裝領域的主流技術,深刻改變了傳統封裝的流程與模式。
在傳統封裝工藝中,通常先將晶圓分割成單個裸片,再對裸片進行QFP、BGA、CSP等形式的封裝;而WLP實現了前道IC加工與后道IC組裝在晶圓層面的整合。其基本工藝是在晶圓完成IC加工后,通過特定工藝直接在晶圓上構建IC互連接口,完成測試、老化等流程后再進行分割,直接產出IC成品。WLP的技術發展與晶圓級凸點技術緊密相關。自20世紀60年代起,IBM公司便在倒裝芯片工藝中應用晶圓級凸點技術,WLP正是這一技術自然演進的成果。標準意義上的WLP封裝尺寸與芯片一致,也被稱為晶圓級芯片尺寸封裝(WLCSP),屬于真正意義上的芯片尺寸封裝。隨著技術需求的提升,為突破WLCSP在I/O數量上的限制,扇出型晶圓級封裝(FOWLP)應運而生。FOWLP通過在芯片切割后重新排布、模壓重組晶圓,實現了面積擴展與復雜的異構集成,提升了封裝的集成度,降低了成本,增強了性能。與之對應,WLCSP也被稱為扇入型(Fan - in)晶圓級封裝(FIWLP)。
根據電極轉移相關的方式,圓片級封裝可粗略分為焊區上凸點(BOP)WLP、電極再分布WLP、包封式WLP和柔性載帶WLP四種,其中電極再分布WLP是目前晶圓級封裝技術的最主要形式。隨著芯片復雜性的增加,添加金屬重布線層,或稱為電極再分布層(RDL)變得十分必要,它能夠將焊球從芯片原本焊盤上轉移到合適的凸點位置,以滿足不斷提高的性能需求。
WLP的優勢與局限
一、優勢
WLP的優勢顯著。從尺寸上看,它實現了封裝面積與芯片面積近乎1:1,相比四邊引腳扁平封裝、板上芯片(COB)封裝等,大幅縮小了在系統電路板上的占用空間,滿足了現代電子產品尤其是便攜式設備對小型化的極致追求。以一個10mm尺寸的芯片為例,四邊引腳扁平封裝的面積是900mm2,芯片與PWB直接引線鍵合的板上芯片(COB)封裝的面積是225mm2,而WLP的封裝面積和芯片面積相同,僅為100mm2,對于需要減小尺寸或重量的產品而言,采用WLP已經將尺寸或重量降到了最小。
在成本方面,WLP與IC加工類似,隨著晶圓尺寸增大和IC尺寸減小,封裝成本降低。它在晶圓劃片前完成封裝和測試,減少了傳統封裝中因晶圓增大需線性增加封裝設備(如引線鍵合機、模塑機、測試儀和取放裝置等)的成本投入;同時,采用標準卷帶式傳送設備和標準SMT技術進行組裝裝配,進一步優化了成本結構。并且,在圓片級一次性實現所有IC的測試和老化,也大大降低了測試和老化成本,這對于大規模生產來說,成本優勢尤為明顯。
在性能上,WLP采用薄膜工藝實現互連,縮短了引線長度,降低了寄生電阻、電容、電感,顯著提升了電性能。WLP中的芯片尺寸通常較小,約10mm左右,I/O數從少到中等,一般約100左右,大部分WLP采用面陣列互連,這種互連方式具有諸多優點:一方面,焊料凸點比引線鍵合的引線尺寸小得多,電感和電阻都很小,從而擁有很好的電性能;另一方面,所有I/O焊盤都在芯片的有源面上方,互連區不超過芯片面積范圍,且面陣列互連的I/O節距可以達到最大,可以直接與成本最低的PWB進行互連,大大提高了封裝的實用性和經濟性。
二、局限
不過,WLP也存在一定局限性。當IC的I/O數量較多時,為保證互連,焊球尺寸和節距需相應減小,這對PWB的制造工藝提出了極高要求,適配的高密度PWB成本昂貴,限制了其在高I/O芯片中的應用。例如,目前實際應用中的最小 PWB 節距已突破 0.5mm,達到 110μm 級別,若要降低到100μm,就需要在一塊很大的電路板上采用12μm的光刻技術進行加工,這無疑是十分困難且成本高昂的。
此外,WLP需對晶圓上所有IC進行封裝,在早期晶圓加工成品率較低時,會顯著增加成本;盡管隨著工藝成熟及 AI 檢測技術(如 X 射線預篩選、缺陷自動識別)的普及,失效 IC 在封裝前即可被高效剔除,資源浪費問題已大幅緩解,但仍是需要持續優化的環節。因為即使現在晶圓加工技術已經有了很大進步,仍難以保證晶圓上所有IC都是完好的,對失效IC進行封裝會造成一定的資源浪費。
WLP的應用現狀與未來趨勢
目前,WLP已廣泛應用于可擦除可編程只讀存儲器(EPROM)、模擬芯片、射頻(RF)、集成無源器件(IPD)以及微機電系統(MEMS)等領域。國際半導體技術路線圖(ITRS)將其定義為基于晶圓(或晶圓形式)實現封裝和測試,且封裝后的單個封裝體可直接用于電路組裝工藝的技術。其主要封裝形式包括I/O端扇入型、I/O端扇出型、集成無源器件圓片級封裝及各類傳感器的圓片級封裝等。以扇出型圓片級封裝——嵌入式圓片級球柵陣列封裝(embedded Wafer Level Ball Grid Array,eWLB)為例,其典型的封裝結構所涉及的主要封裝材料包括制造再布線層(Redistribution Layer,RDL)中介質層的光敏材料、布線金屬層材料和實現微互連的微細連接材料及包封保護材料等。
隨著半導體產業向更高集成度、更小尺寸、更低功耗方向發展,WLP 與 2.5D/3D 封裝、Chiplet 技術深度融合,憑借其在異構集成方面的潛力,將成為未來先進封裝的重要發展方向。
同時,隨著技術的不斷進步,WLP在解決現有局限性方面也有望取得突破,從而拓展其在更多領域的應用。
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原文標題:晶圓級封裝簡介
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