引言
在半導體制造與微納加工行業,光刻膠剝離液的使用量龐大。傳統剝離液存在環境污染、資源消耗等問題,可再生光刻膠剝離液憑借環保與可持續優勢成為研究熱點。同時,白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用,為保障工藝質量提供了關鍵技術支撐。
可再生光刻膠剝離液及其制備方法
常見可再生光刻膠剝離液類型
生物基剝離液
生物基剝離液以生物質為原料,如植物提取物、發酵產物等。其主要成分包含有機酸、醇類等天然物質,這些物質能夠與光刻膠發生物理或化學反應,實現光刻膠的有效剝離。例如,利用檸檬酸等有機酸的絡合能力,破壞光刻膠分子結構;以生物乙醇作為溶劑,增強對光刻膠的溶解性能。生物基剝離液具有來源廣泛、可生物降解的特點,極大降低了對環境的污染 。
可回收型剝離液
可回收型剝離液通過特殊的分離技術,在使用后能夠將其中的有效成分回收再利用。常見的回收方法包括蒸餾、萃取等。以含有特定有機溶劑的剝離液為例,使用后可通過蒸餾的方式,依據各成分沸點差異,將有機溶劑分離提純,重新用于剝離液的配制。這種剝離液減少了原材料的消耗,降低了生產成本,同時也減少了廢棄物的產生。
可再生光刻膠剝離液制備要點
制備生物基剝離液時,需對生物質原料進行預處理,如提取、發酵優化等,以提高有效成分的含量和活性。在成分復配階段,要精確控制有機酸、溶劑、助劑等的比例,確保剝離液對不同類型光刻膠的剝離效果。對于可回收型剝離液,制備過程中需考慮后續回收工藝的適配性,選擇合適的溶劑和添加劑,保證回收過程簡單高效且不影響剝離液性能。此外,無論哪種類型,都要對剝離液的穩定性、腐蝕性等性能進行嚴格測試和優化,通過調整配方和工藝參數,使剝離液滿足工業生產需求。
白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用
測量原理
白光干涉儀基于光的干涉特性,將白光光源發出的光經分光鏡分為測量光和參考光。測量光照射到待測光刻圖形表面反射回來,與參考光相遇產生干涉條紋。由于光刻圖形不同位置的高度差異,導致反射光的光程差不同,進而形成不同的干涉條紋圖案。通過分析干涉條紋的形狀、間距和強度等信息,結合光程差與表面高度的對應關系,可精確計算出光刻圖形的高度、深度、線寬等參數。
測量優勢
白光干涉儀具備高精度、非接觸式測量的特點,其測量精度可達納米級別,能夠精準捕捉光刻圖形細微的尺寸變化。非接觸測量避免了對脆弱光刻圖形的物理損傷,保證了樣品的完整性。同時,測量速度快,可實現實時在線檢測,并能通過專業軟件對測量數據進行可視化處理,直觀呈現光刻圖形的形貌特征,便于工藝優化和質量控制。
實際應用
在使用可再生光刻膠剝離液的工藝中,白光干涉儀發揮著重要作用。剝離前,可測量光刻膠的厚度、光刻圖形的初始形貌,評估光刻工藝的質量;剝離過程中,實時監測光刻膠的去除情況,判斷剝離進程是否正常;剝離完成后,精確測量殘留光刻膠的厚度、基片表面的粗糙度以及光刻圖形的最終尺寸,為優化可再生剝離液配方和剝離工藝提供準確的數據支持,確保產品符合設計要求 。
一款可以“實時”動態/靜態 微納級3D輪廓測量的白光干涉儀
1)一改傳統白光干涉操作復雜的問題,實現一鍵智能聚焦掃描,亞納米精度下實現卓越的重復性表現。
2)系統集成CST連續掃描技術,Z向測量范圍高達100mm,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復雜形貌測量提供全面解決方案。
3)可搭載多普勒激光測振系統,實現實現“動態”3D輪廓測量。
實際案例
(以上為新啟航實測樣品數據結果)
1,優于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm
(以上為新啟航實測樣品數據結果)
2,毫米級視野,實現5nm-有機油膜厚度掃描
(以上為新啟航實測樣品數據結果)
3,卓越的“高深寬比”測量能力,實現深蝕刻槽深槽寬測量。
審核編輯 黃宇
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Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

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