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電子發(fā)燒友網(wǎng)>LEDs>硅襯底GaN LED技術(shù)的應(yīng)用機遇與挑戰(zhàn)

硅襯底GaN LED技術(shù)的應(yīng)用機遇與挑戰(zhàn)

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TI助力GaN技術(shù)的推廣應(yīng)用

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2012-11-28 09:22:542067

LED行業(yè)新時代 硅襯底LED如何解決技術(shù)難題?

南昌大學(xué)江風(fēng)益團隊成功研發(fā)硅襯底LED技術(shù),使中國成為世界上繼日美之后第三個掌握藍光LED自主知識產(chǎn)權(quán)技術(shù)的國家。這項高新技術(shù)和成功產(chǎn)業(yè)化,獲得了2015年度國家技術(shù)發(fā)明獎一等獎,硅襯底時代隨即到來。
2016-05-11 16:38:431971

金剛石基氮化鎵(GaN技術(shù)的未來展望

Felix Ejeckam于2003年發(fā)明了金剛石上的GaN,以有效地從GaN晶體管中最熱的位置提取熱量。其基本理念是利用較冷的GaN放大器使系統(tǒng)更節(jié)能,減少浪費。金剛石上的GaN晶片是通過GaN
2018-07-26 17:50:4814551

襯底GaNLED技術(shù),Micro LED將是晶能光電的重大應(yīng)用

顯示技術(shù)。作為全球硅襯底GaNLED技術(shù)的領(lǐng)跑者,晶能光電最近也將目光投向了Micro LED
2018-08-27 17:37:127087

淺談LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展的機遇挑戰(zhàn)

過去的一年,包括AR、VR這些智能穿戴的應(yīng)用,對高分辨率的微型顯示帶來了一些需求,催生了新型顯示技術(shù)的發(fā)展。隨著LED芯片微縮化的發(fā)展,MiniLED、MicroLED成為行業(yè)熱點,并給LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶來了新的機遇挑戰(zhàn)
2019-01-23 10:06:166883

中國LED芯片產(chǎn)業(yè)的崛起與GaN和SiC等器件需求的飆升

led芯片產(chǎn)業(yè)有所了解的朋友應(yīng)該知道,GaN和SiC這些化合物半導(dǎo)體曾經(jīng)被推廣到led芯片當(dāng)作襯底,而Cree作為當(dāng)中的領(lǐng)頭羊,在這些領(lǐng)域都有很深入的研究和積累。雖然led市場吸引力不再,但這些技術(shù)在功率電子和射頻領(lǐng)域看到了很大的成長空間。
2019-05-07 16:04:316990

襯底LED未來有望引領(lǐng)市場發(fā)展

LED襯底材料是半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,其決定了半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展路線。目前,能作為LED襯底的材料包括Al2O3、SiC、Si、GaN、GaAs、Zno等,但商用最廣泛的是Al2O3、SiC
2019-07-30 15:14:033717

GaN功率電子器件的技術(shù)路線

目前世界范圍內(nèi)圍繞著GaN功率電子器件的研發(fā)工作主要分為兩大技術(shù)路線,一是在自支撐Ga N襯底上制作垂直導(dǎo)通型器件的技術(shù)路線,另一是在Si襯底上制作平面導(dǎo)通型器件的技術(shù)路線。
2019-08-01 15:00:037276

我國與其他國家LED芯片技術(shù)的差異分析

目前,LED芯片技術(shù)的發(fā)展關(guān)鍵在于襯底材料和晶圓生長技術(shù)。除了傳統(tǒng)的藍寶石、硅(Si)、碳化硅(SiC)襯底材料以外,氧化鋅(ZnO)和氮化鎵(GaN)等也是當(dāng)前LED芯片研究的焦點。
2019-10-04 17:35:001111

晶能光電創(chuàng)始人當(dāng)選2019年新科學(xué)院院士 曾發(fā)明過硅襯底LED技術(shù)

11月22日,2019年新當(dāng)選科學(xué)院院士名單正式公布。硅襯底LED技術(shù)發(fā)明人、晶能光電創(chuàng)始人、南昌大學(xué)副校長江風(fēng)益教授赫列其中,這是國家對其科學(xué)成就的最高榮譽,也是繼硅襯底LED技術(shù)獲得2015年國家技術(shù)發(fā)明獎一等獎以來,我國LED照明領(lǐng)域的又一件大喜事。
2019-11-23 10:57:432741

上海芯元基新型GaN復(fù)合襯底的制備技術(shù)

科技半導(dǎo)體公司提出的GaN基復(fù)合襯底技術(shù),結(jié)合企業(yè)自身的LED芯片技術(shù),在大大提高LED出光效率的同時,還能大幅降低高端LED芯片的生產(chǎn)成本,改進現(xiàn)有LED的產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu),同時該技術(shù)還可擴展應(yīng)用到GaN功率器件和MicroLED領(lǐng)域。
2020-04-17 16:37:573363

武大發(fā)現(xiàn)PSSA襯底可提高LED芯片的效率

據(jù)報道,武漢大學(xué)的研究團隊近期公布了采用PSSA(patterned sapphire with silica array)襯底來降低氮化鎵接合邊界失配問題的方法,提出PSSA襯底可提高銦氮化鎵、氮化鎵(InGaN/GaN)倒裝芯片可見光LED的效率。
2020-12-09 17:00:23793

GaN產(chǎn)業(yè)格局初成,國內(nèi)廠商加速布局

我國GaN產(chǎn)品逐步從小批量研發(fā)、向規(guī)模化、商業(yè)化生產(chǎn)發(fā)展。GaN單晶襯底實現(xiàn)2-3英寸小批量產(chǎn)業(yè)化,4英寸已經(jīng)實現(xiàn)樣品生產(chǎn)。GaN異質(zhì)外延襯底已經(jīng)實現(xiàn)6英寸產(chǎn)業(yè)化,8英寸正在進行產(chǎn)品研發(fā)。 GaN材料應(yīng)用范圍仍LED向射頻、功率器件不斷擴展。
2020-12-23 15:15:092321

超分辨技術(shù)在RTC領(lǐng)域應(yīng)用面臨的機遇挑戰(zhàn)

本文將著眼于AI技術(shù)從研究到部署的落地問題,分享超分辨技術(shù)在RTC領(lǐng)域落地應(yīng)用所面臨的機遇挑戰(zhàn)
2021-01-07 09:45:002791

探究Si襯底的功率型GaNLED制造技術(shù)

介紹了Si襯底功率型GaNLED芯片和封裝制造技術(shù),分析了Si襯底功率型GaNLED芯片制造和封裝工藝及關(guān)鍵技術(shù),提供了
2021-04-21 09:55:203871

新開發(fā)了一種GaN襯底減薄技術(shù)——激光減薄技術(shù)

而此次他們通過實驗證明,該技術(shù)同樣適用于GaN-on-GaN HEMT器件制造,即在器件制造之后采用激光工藝進行減薄,該技術(shù)可顯著降低 GaN 襯底的消耗。
2022-05-12 10:45:553527

晶能光電硅襯底氮化鎵技術(shù)助力MicroLED產(chǎn)業(yè)化

Micro LED被譽為新時代顯示技術(shù),但目前仍面臨關(guān)鍵技術(shù)、良率、和成本的挑戰(zhàn)。 微米級的Micro LED已經(jīng)脫離了常規(guī)LED工藝,邁入類IC制程。相對其它競爭方案,大尺寸硅襯底氮化鎵(GaN
2022-08-17 12:25:421138

6吋氮化鎵單晶背后關(guān)鍵核心技術(shù)解析

制造大直徑GaN襯底的要點(鈉熔劑法) 豐田合成表示,6英寸功率半導(dǎo)體氮化鎵襯底的研發(fā)得益于早期LED氮化鎵襯底技術(shù)的積累。
2022-11-18 12:33:261758

世界最高電阻率的半絕緣GaN自支撐襯底

近年來,半絕緣SiC襯底上外延生長的GaN高遷移率晶體管(GaN-on-SiC HEMTs)已廣泛應(yīng)用于微波射頻領(lǐng)域的功率放大器電路中。
2022-12-02 11:43:46473

國際首支1200V的硅襯底GaN基縱向功率器件

 相比于橫向功率電子器件,GaN縱向功率器件能提供更高的功率密度/晶圓利用率、更好的動態(tài)特性、更佳的熱管理,而大尺寸、低成本的硅襯底GaN縱向功率電子器件吸引了國內(nèi)外眾多科研團隊的目光,近些年已取得了重要進展。
2022-12-15 16:25:35754

晶能光電帶驅(qū)動的三基色Micro LED顯示模組再獲央視報道

作為國家虛擬現(xiàn)實創(chuàng)新中心入局者,晶能光電利用自主創(chuàng)新的硅襯底GaNLED技術(shù),承擔(dān)硅襯底Micro LED的關(guān)鍵共性技術(shù)開發(fā)。
2023-02-15 10:53:39260

淺談帶驅(qū)動的三基色Micro LED顯示模組

作為國家虛擬現(xiàn)實創(chuàng)新中心入局者,晶能光電利用自主創(chuàng)新的硅襯底GaNLED技術(shù),承擔(dān)硅襯底Micro LED的關(guān)鍵共性技術(shù)開發(fā)。
2023-02-21 11:00:20245

探索GaN-on-Si技術(shù)難點

GaN-on-Si LED技術(shù)是行業(yè)夢寐以求的技術(shù)。首先,硅是地殼含量第二的元素,物理和化學(xué)性能良好,在大尺寸硅襯底上制作氮化鎵LED的綜合成本可以降低25%;
2023-03-10 09:04:16886

介紹硅襯底GaN基Micro LED技術(shù)的發(fā)展情況

Micro LED新型顯示具有巨大市場前景,也面臨著一系列技術(shù)挑戰(zhàn)。選擇合理的產(chǎn)業(yè)化路線對推動Micro LED應(yīng)用落地非常關(guān)鍵。
2023-04-26 10:16:371460

淺談GaN 異質(zhì)襯底外延生長方法

HVPE(氫化物氣相外延法)與上述兩種方法的區(qū)別還是在于鎵源,此方法通常以鎵的氯化物GaCl3為鎵源,NH3為氮源,在襯底上以1000 ℃左右的溫度生長出GaN晶體。
2023-06-11 11:11:32277

GaN單晶襯底顯著改善HEMT器件電流崩塌效應(yīng)

襯底材料和GaN之間純在較大的晶格失配和熱失配,外延層中往往存在大量的缺陷,使得HEMT器件中存在較強電流崩塌效應(yīng),影響器件的性能發(fā)揮。
2023-06-14 14:00:551654

幾種led襯底的主要特性對比 氮化鎵同質(zhì)外延的難處

GaN半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)為:襯底GaN材料外延→器件設(shè)計→器件制造。其中,襯底是整個產(chǎn)業(yè)鏈的基礎(chǔ)。 作為襯底GaN自然是最適合用來作為GaN外延膜生長的襯底材料。
2023-08-10 10:53:31664

氮化鎵襯底和外延片哪個技術(shù)襯底為什么要做外延層

生長氮化鎵薄膜,形成GaN基礎(chǔ)器件的結(jié)構(gòu)。由于氮化鎵材料的性質(zhì)優(yōu)良,GaN技術(shù)被廣泛應(yīng)用于LED、高頻功率放大器、射頻器件等領(lǐng)域。
2023-08-22 15:17:312379

晶能光電硅襯底UVA LED 產(chǎn)品性能處于行業(yè)先進水平

2023年9月,第三屆紫外LED國際會議暨長治LED發(fā)展推進大會在長治隆重召開,國內(nèi)外專家云集,深入交流紫外LED最新技術(shù)進展與發(fā)展趨勢。晶能光電外延工藝高級經(jīng)理周名兵受邀作《硅襯底GaN基近紫外
2023-09-19 11:11:285752

語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)機遇

一、引言 隨著科技的快速發(fā)展,語音識別技術(shù)成為了人機交互的重要方式。然而,盡管語音識別技術(shù)在某些領(lǐng)域已經(jīng)取得了顯著的進步,但在實際應(yīng)用中仍然存在許多挑戰(zhàn)機遇。本文將探討語音識別技術(shù)的現(xiàn)狀、面臨
2023-09-20 16:17:19277

語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)機遇

一、引言 語音識別技術(shù)是一種將人類語言轉(zhuǎn)化為計算機可理解數(shù)據(jù)的技術(shù)。隨著科技的不斷發(fā)展,語音識別技術(shù)面臨著諸多挑戰(zhàn),同時也帶來了許多機遇。本文將探討語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)機遇。 二、語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)
2023-10-10 17:10:59467

晶能光電:硅襯底GaN材料應(yīng)用大有可為

襯底GaN材料在中低功率的高頻HEMT和LED專業(yè)照明領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)規(guī)模商用。基于硅襯底GaN材料的Micro LED微顯技術(shù)和低功率PA正在進行工程化開發(fā)。DUV LEDGaN LD以及GaN/CMOS集成架構(gòu)尚處于早期研究階段。
2023-10-13 16:02:31317

語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)機遇再探討

一、引言 隨著科技的不斷發(fā)展,語音識別技術(shù)得到了廣泛應(yīng)用。然而,語音識別技術(shù)在發(fā)展過程中面臨著許多挑戰(zhàn),同時也帶來了許多機遇。本文將再探討語音識別技術(shù)挑戰(zhàn)機遇。 二、語音識別技術(shù)挑戰(zhàn) 1.噪聲
2023-10-18 16:56:20368

GaN的驅(qū)動電路有哪些挑戰(zhàn)?怎么在技術(shù)上各個突破?

GaN的驅(qū)動電路有哪些挑戰(zhàn)?怎么在技術(shù)上各個突破?GaN驅(qū)動電路有哪些設(shè)計技巧? GaN(氮化鎵)是一種新型的半導(dǎo)體材料,相比傳統(tǒng)的硅材料,具有更高的電子遷移率和能力,因此在功率電子領(lǐng)域有著廣泛
2023-11-07 10:21:44513

助熔劑法生長GaN單晶襯底的研究進展

GaN性能優(yōu)異,在光電子、微電子器件應(yīng)用廣泛,發(fā)展?jié)摿薮螅贿M一步發(fā)展,需提升材料質(zhì)量,制備高質(zhì)量氮化鎵同質(zhì)襯底
2023-12-09 10:24:57716

微波GaN HEMT 技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)

報告內(nèi)容包含: 微帶WBG MMIC工藝 GaN HEMT 結(jié)構(gòu)的生長 GaN HEMT 技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
2023-12-14 11:06:58178

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