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mgo 薄膜的制備方法及工藝條件對(duì)薄膜特性的影響不同的制膜方法具有不同的特點(diǎn)，制備方法的不同必將影響薄膜的性質(zhì)，譬如結(jié)晶取向、表面粗糙度、致密性等。不同的應(yīng)用對(duì)薄膜質(zhì)量的要求也不盡相同，這就需要選用不同的制備方法，即了解不同的制備方法，為薄膜的制備提供更多的選擇。
電子束蒸發(fā)的原理是燈絲在高溫狀態(tài)下發(fā)射出電子，在電場(chǎng)的作用下，這些電子向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng)并被電場(chǎng)加速。這樣高速運(yùn)動(dòng)的電子流在一定的電磁場(chǎng)作用下被匯聚成細(xì)束并轟擊到被鍍材料的表面，使其蒸發(fā)沉積在待鍍襯底上。電子束加熱可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料。工作時(shí)聚焦電子束能量高度集中，使蒸發(fā)材料的局部表面可達(dá)到 ， ---。/ --- 0高溫，因而使高熔點(diǎn)的材料蒸發(fā)。通過(guò)調(diào)節(jié)電子束的加速電壓和束流，就能準(zhǔn)確而方便地調(diào)節(jié)與控制蒸發(fā)的溫度。由于蒸氣分子動(dòng)能很大，所以能夠得到比較牢固致密的薄膜。另外，電子束蒸發(fā)方法具有很高的沉積速率，是制備 1（2 薄膜最常用的方法之一。
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