資料介紹
本文檔的主要內容詳細介紹的是半導體制造教程之工藝晶體的生長資料概述
一、襯底材料的類型
1.元素半導體 Si、Ge…。
2. 化合物半導體 GaAs、SiC 、GaN…
二、對襯底材料的要求
導電類型:N型與P型都易制備;
電阻率:0.01-105·cm,均勻性好(縱向、橫向、微區)、可靠性高(穩定、真實);
壽命(少數載流子):晶體管—長壽命; 開關器件—短壽命;
晶格完整性:低位錯(《1000個/cm2);
純度高:電子級硅(EGS) --1/109雜質;
晶向:Si:雙極器件--《111》;MOS--《100》;
直徑、平整度、禁帶寬度、遷移率等。
Si:
含量豐富,占地殼重量25%;
單晶Si 生長工藝簡單,目前直徑最大18英吋(450mm)
氧化特性好, Si/SiO2界面性能理想,可做掩蔽膜、鈍化膜、介質隔離、絕緣柵等介質材料;
易于實現平面工藝技術;
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