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標簽 > 光刻機
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節點的尺寸數值基本上和晶體管的長寬成正比關系,每一個節點基本上是前一個節點的0.7倍。這樣以來,由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節點上晶體管...
光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝,需要高度專業化的技術和設備。它涉及到許多關鍵的工藝步驟和組件,如光學系統、曝光光源、掩模制作等。
作為光刻工藝中最重要設備之一,光刻機一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況...
2020-08-28 標簽:光刻機 1.3萬 1
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithogr...
EDA技術的核心是將電子設計自動化,實現快速、準確、方便的電路設計和仿真,以提高電路設計的效率和可靠性。通過提高EDA技術的運用水平,可以縮短電路設計周...
摩爾定律 Intel創始人之一摩爾1964年提出,大約每隔12個月: 1)。芯片能力增加一倍、芯片價格降低- -倍; 2)。廣大用戶的福音、行業人...
從光刻機出來后還要經歷曝光后的烘焙,簡稱后烘。這一步的目的是通過加熱讓光刻膠中的光化學反應充分完成,可以彌補曝光強度不足的問題。
超級全面!一文看懂***:MEMS傳感器及芯片制造的最核心設備
文章大綱 光刻是芯片制造最核心環節,大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備,市場規模全球第二 ·一超兩強壟斷市場,大陸卡脖子現象凸顯 光刻機:...
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