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光刻機(jī)

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光刻機(jī)技術(shù)

光刻機(jī)的常見類型解析

光刻機(jī)有很多種類型，但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備，因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。

2024-04-10 標(biāo)簽：攝像機(jī)晶體管光刻機(jī) 2161 0

SPM光刻工藝的研究報(bào)告

在這篇文章中，我們?nèi)A林科納演示了在鈦薄膜上形成納米尺度陽極氧化物的設(shè)備，以及在接觸或半接觸模式下使用NTMDT公司的求解器PROTM AFM對其進(jìn)行表征。

2022-02-08 標(biāo)簽：電極光刻光刻機(jī) 1923 0

EUV光刻工藝制造技術(shù)主要有哪些難題？

光掩模可以被認(rèn)為是芯片的模板。光掩模用電子束圖案化并放置在光刻工具內(nèi)。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允許它們穿過晶圓。這就是在晶圓上創(chuàng)建圖案的原因。

2023-03-03 標(biāo)簽：gpu 晶體管光刻機(jī) 1898 0

半導(dǎo)體工藝裝備現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

集成電路前道工藝及對應(yīng)設(shè)備主要分八大類，包括光刻（光刻機(jī)）、刻蝕（刻蝕機(jī)）、薄膜生長（PVD-物理氣相沉積、CVD-化學(xué)氣相沉積等薄膜設(shè)備）、擴(kuò)散（擴(kuò)散...

2023-05-30 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體工藝 1872 0

用于***照明均勻化的微柱面鏡陣列設(shè)計(jì)

在投影光刻機(jī)照明系統(tǒng)中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項(xiàng)重要技術(shù)。通常，用于光刻機(jī)照明系統(tǒng)的勻光元件有積分棒、衍射光學(xué)元件和微透鏡陣列。積分...

2023-05-17 標(biāo)簽：照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)光刻機(jī) 1869 0

如何評估CPU硬件效率？CPU硬件運(yùn)行效率介紹

提到CPU性能，大部分同學(xué)想到的都是CPU利用率，這個(gè)指標(biāo)確實(shí)應(yīng)該首先被關(guān)注。但是除了利用率之外，還有很容易被人忽視的指標(biāo)，就是指令的運(yùn)行效率。

2023-05-17 標(biāo)簽：寄存器 PMC 光刻機(jī) 1734 0

納米壓印，終于走向臺前？

納米壓印技術(shù)，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術(shù)...

2023-05-19 標(biāo)簽：晶體管納米光刻機(jī) 1705 0

幾種新興存儲器的技術(shù)對比

根據(jù)存儲與計(jì)算的距離遠(yuǎn)近，將廣義存算一體的技術(shù)方案分為三大類，分別是近存計(jì)算 (Processing Near Memory，PNM)、存內(nèi)處理(Pro...

2023-06-09 標(biāo)簽：存儲器光刻機(jī)EUV 1660 0

光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用

由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的，而對所有的圖形進(jìn)行SMO是極為耗時(shí)的，因此，我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復(fù)或者冗余的圖形剔除，以保...

2023-08-01 標(biāo)簽：摩爾定律芯片制造光刻機(jī) 1651 0

EUV 光刻制造全流程設(shè)計(jì)解析

其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機(jī)和顯影劑，再到計(jì)量學(xué)，再到單個(gè)晶圓。

2023-03-07 標(biāo)簽：芯片晶圓光刻 1648 0

請問ARTPI是怎樣使用軟件I2C讀取mpu6050的？

喜報(bào)！我國第一臺28nm光刻機(jī)，交付時(shí)間已定！

2023-08-02 標(biāo)簽：傳感器連接器光刻機(jī) 1583 0

什么是納米壓印技術(shù)？能否取代***？

納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪坦に嚕亲钣邢Ｍ〈鷺O紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機(jī)，進(jìn)行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取...

2023-11-08 標(biāo)簽：芯片晶體管光刻機(jī) 1537 0

浸沒式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。

2023-08-23 標(biāo)簽：編碼器晶圓交換機(jī) 1481 0

光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，...

2023-12-18 標(biāo)簽：集成電路摩爾定律光刻機(jī) 1474 0

淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)...

2024-03-08 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 1465 0

步進(jìn)式***在碲鎘汞紅外芯片工藝中的應(yīng)用以及取得的效果

光刻是制備碲鎘汞紅外探測器芯片過程中非常關(guān)鍵的工藝。

2023-06-18 標(biāo)簽：晶圓紅外探測器光刻機(jī) 1357 0

光刻對準(zhǔn)原理與精度控制

中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

2023-06-26 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)光刻技術(shù) 1348 0

EUV反射鏡的鍍膜工藝：如何選擇合適的鍍膜機(jī)

對基板移動進(jìn)行仔細(xì)管理和將基板支架的機(jī)械公差降至最低，實(shí)現(xiàn)無與倫比的厚度均勻性濺射工藝的卓越穩(wěn)定性和極高水平的層厚度精度。

2024-02-21 標(biāo)簽：光譜反射鏡鍍膜機(jī) 1311 0

EUV光刻技術(shù)出現(xiàn)新的挑戰(zhàn)：3nm節(jié)點(diǎn)的金屬間距約為22nm

22 nm 節(jié)距quasar illumination的較小部分使得最低衍射級避免了遮擋可以安全使用，但填充的pupil不到 20%，這再次意味著額外的...

2022-08-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 1305 0

計(jì)算光刻技術(shù)有多重要？計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造？

光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。

2023-04-25 標(biāo)簽：gpu 芯片制造光刻 1304 0

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Wi-Fi模塊又名串口Wi-Fi模塊，屬于物聯(lián)網(wǎng)傳輸層，功能是將串口或TTL電平轉(zhuǎn)為符合Wi-Fi無線網(wǎng)絡(luò)通信標(biāo)準(zhǔn)的嵌入式模塊，內(nèi)置無線網(wǎng)絡(luò)協(xié)議IEEE802.11b.g.n協(xié)議棧以及TCP/IP協(xié)議棧。傳統(tǒng)的硬件設(shè)備嵌入Wi-Fi模塊可以直接利用Wi-Fi聯(lián)入互聯(lián)網(wǎng)，是實(shí)現(xiàn)無線智能家居、M2M等物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的重要組成部分。
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UHD是”超高清“的意思UHD的應(yīng)用在電視機(jī)技術(shù)上最為普遍，目前已有不少廠商推出了UHD超高清電視。
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　　文本顯示器，又名終端顯示器，是一種單純以文字呈現(xiàn)的人機(jī)互動系統(tǒng)。通過文本顯示器，將所需要控制的內(nèi)容，編寫成相應(yīng)的程序，最終在文本顯示器的界面上顯示出來。這樣，不但大大提高了操作的方便性，而且能夠顯著提高工作效率。
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