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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過(guò)程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。
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半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié):芯片測(cè)試
CP(Chip Probing)測(cè)試也叫晶圓測(cè)試(wafer test),也就是在芯片未封裝之前對(duì)wafer進(jìn)行測(cè)試,這樣就可以把有問(wèn)題的芯片在封裝之前...
2024-04-20 標(biāo)簽:測(cè)試系統(tǒng)芯片測(cè)試測(cè)試機(jī) 2627 0
芯片廠為什么要使用超純水? 普通的水中含有氯,硫等雜質(zhì),會(huì)腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na,K等金屬雜質(zhì),會(huì)造成MIC(可動(dòng)離子污染)等問(wèn)題。因此芯片制...
2023-06-29 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體制造 2523 0
半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備行業(yè)深度報(bào)告(2022)
從所處環(huán)節(jié)看,半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備從設(shè)計(jì)驗(yàn)證到最終測(cè)試均不可或缺,貫穿整個(gè)半導(dǎo)體制造過(guò)程,半導(dǎo)體集成度提升、小型化、產(chǎn)品門(mén)類增加以及需求量增大對(duì)檢測(cè)設(shè)備技術(shù)提...
2022-09-06 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造半導(dǎo)體測(cè)試 2481 1
?cmp工藝是什么?化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹
化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹以及其比單純物理研磨的優(yōu)勢(shì)介紹。
臺(tái)積電將帶來(lái)全球第一個(gè)2D納米片晶體管,預(yù)計(jì)2024年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
對(duì)與更先進(jìn)的2nm制程,臺(tái)積電早在2019年就宣布對(duì)此研發(fā)。 去年,在5nm量產(chǎn)不久后,臺(tái)積電宣布2nm制程取得重大突破——切入環(huán)繞式柵極技術(shù) (gat...
2023-02-16 標(biāo)簽:晶體管半導(dǎo)體制造 2321 0
在半導(dǎo)體制造這個(gè)高度精密且復(fù)雜的領(lǐng)域中,CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)技術(shù)宛如一顆隱匿于幕后的璀璨明珠,雖不被大眾所熟知,卻在芯片制造的進(jìn)程中扮演著不可或缺的關(guān)...
2024-12-17 標(biāo)簽:CMP半導(dǎo)體制造 2305 0
芯片流片后經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)哪些問(wèn)題?如何解決這些問(wèn)題呢?
芯片流片是半導(dǎo)體制造中一個(gè)非常重要的步驟,是將設(shè)計(jì)好的芯片圖案刻印到硅片上,從而制造出成品芯片。
2023-10-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造芯片制程 2258 0
硅基氮化鎵技術(shù)是一種將氮化鎵器件直接生長(zhǎng)在傳統(tǒng)硅基襯底上的制造工藝。在這個(gè)過(guò)程中,由于氮化鎵薄膜直接生長(zhǎng)在硅襯底上,可以利用現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體制造基礎(chǔ)設(shè)施實(shí)...
2023-02-10 標(biāo)簽:無(wú)線通信氮化鎵半導(dǎo)體制造 2255 0
熱平衡等離子體中,電子和離子的能量服從玻爾茲曼分布(見(jiàn)下圖)。電容耦合型等離子體源的平均電子能量為2?3eV。等離子體中離子能量主要取決于反應(yīng)室的溫度,...
2022-12-12 標(biāo)簽:等離子體工藝半導(dǎo)體制造 2236 0
襯底(substrate)是由半導(dǎo)體單晶材料制造而成的晶圓片,襯底可以直接進(jìn)入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也可以進(jìn)行外延工藝加工生產(chǎn)外延片。
2024-03-08 標(biāo)簽:GaN單晶硅半導(dǎo)體制造 2165 0
芯片封裝鍵合技術(shù)工藝流程以及優(yōu)缺點(diǎn)介紹
芯片封裝是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié),承擔(dān)著為芯片提供物理保護(hù)、電氣互連和散熱的功能,這其中的鍵合技術(shù)就是將裸芯片與外部材料連接起來(lái)的方法。鍵合可以通俗的理解...
2025-03-22 標(biāo)簽:芯片封裝鍵合半導(dǎo)體制造 2033 0
半導(dǎo)體是醫(yī)療設(shè)備內(nèi)部工作的一個(gè)組成部分,有助于非導(dǎo)體和導(dǎo)體之間的導(dǎo)電性以控制電流。反過(guò)來(lái),制造完美半導(dǎo)體的組裝過(guò)程非常詳細(xì),尤其是現(xiàn)在設(shè)備變得越來(lái)越小。
2023-07-15 標(biāo)簽:激光器醫(yī)療設(shè)備半導(dǎo)體制造 2027 0
關(guān)于半導(dǎo)體價(jià)值鏈分析(設(shè)計(jì)、制造和后制造)
半導(dǎo)體價(jià)值鏈的制造階段包括晶圓制造、前段制程、中段制程、后段制程和遠(yuǎn)端制程。
2024-02-19 標(biāo)簽:DRAMNAND半導(dǎo)體制造 2027 0
半導(dǎo)體制造過(guò)程的熱處理,指的是將矽晶圓放置在充滿氮?dú)猓∟2)或氫氣(Ar2)等惰性氣體環(huán)境中施予熱能的處理。
2024-04-15 標(biāo)簽:晶圓熱處理半導(dǎo)體制造 1986 0
為什么尺寸縮小并沒(méi)按應(yīng)有的速度不斷進(jìn)步呢?為什么高端硅成本依然如此昂貴?答案就在于芯片設(shè)計(jì)的復(fù)雜性——如今的芯片設(shè)計(jì)層數(shù)繁多,各層之間還必須無(wú)縫連接。
2020-08-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)半導(dǎo)體制造 1947 0
在半導(dǎo)體制造這一高度精密且不斷進(jìn)步的領(lǐng)域,每一項(xiàng)技術(shù)都承載著推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵使命。原子層沉積(Atomic Layer Deposition,簡(jiǎn)稱AL...
2025-01-20 標(biāo)簽:芯片封裝半導(dǎo)體制造晶圓制造 1826 0
在這篇文章中,我們將學(xué)習(xí)基本的半導(dǎo)體制造過(guò)程。為了將晶圓轉(zhuǎn)化為半導(dǎo)體芯片,它需要經(jīng)歷一系列復(fù)雜的制造過(guò)程,包括氧化、光刻、刻蝕、沉積、離子注入、金屬布線...
全球Top25半導(dǎo)體公司發(fā)布:臺(tái)積電領(lǐng)跑,英偉達(dá)異軍突起
在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)遭遇諸多挑戰(zhàn)的2023年,臺(tái)積電卻以穩(wěn)健的步伐取得了驕人的成績(jī)。盡管其營(yíng)收同比出現(xiàn)了9%的下滑,但相較于英特爾營(yíng)收同比下滑的14%,臺(tái)積...
2024-04-16 標(biāo)簽:高通英特爾半導(dǎo)體制造 1641 0
半導(dǎo)體制造關(guān)鍵流程中的常見(jiàn)技術(shù)難題有哪些
在光刻、晶圓探測(cè)、測(cè)試、安裝以及切割過(guò)程中,視覺(jué)對(duì)位的準(zhǔn)確性至關(guān)重要。不精準(zhǔn)的對(duì)位可能導(dǎo)致頻繁的人工干預(yù),嚴(yán)重時(shí)損壞成千上萬(wàn)塊晶圓。性能低下的視覺(jué)系統(tǒng)可...
極紫外 (EUVL) 光刻設(shè)備技術(shù)應(yīng)用分析
歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來(lái)制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來(lái)源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大...
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