白光干涉儀自動拼接測量功能介紹

SuperViewW1白光干涉儀測量小尺寸樣品時，可以測到12mm，也可以測到更小的尺寸，XY載物臺標準行程為140*110mm，局部位移精度可達亞微米...

2023-02-23 標簽：測量干涉儀 900 0

SJ6000激光干涉儀應用拓展：透鏡曲率半徑測量

透鏡是由透明物質（如玻璃、水晶等）制成的一種光學元件，廣泛應用于安防、車載、數碼相機、激光、光學儀器等各個領域。曲率半徑是透鏡設計與制造的一個重要參數，...

2024-04-26 標簽：測量干涉儀激光干涉儀 887 0

白光干涉儀拼接功能怎么用？

SuperViewW1白光干涉儀XY載物臺標準行程為140*110mm，可以測到12mm，也可以測到更小的尺寸，局部位移精度可達亞微米級別，可以測量非常...

2023-03-01 標簽：光學儀器干涉儀白光干涉儀 876 0

優可測白光干涉儀AM-7000系列測量心臟支架表面粗糙度應用案例

??心臟支架作為一種常用的心臟介入手術醫療器械在治療心臟疾病方面的重要作用，心臟支架的構造和表面粗糙度對治療效果至關重要。本文將分享優可測白光干涉儀AM...

2024-01-24 標簽：測量干涉儀粗糙度 860 0

白光干涉儀測量臺階高度有哪些優勢

上兩期介紹了粗糙度的概念、設備，也著重說明了白光干涉原理在粗糙度的應用優勢，而目前半導體、3C制造、材料、精密加工等領域，除了粗糙度，還會涉及到臺階高度...

2023-04-07 標簽：測量干涉儀白光干涉儀 842 0

數控測量|激光干涉儀80米直測，診斷校準運動導軌

在現代工業制造中，運動導軌作為精密設備的關鍵組件之一，其精密度和穩定性影響著設備的定位準確性和運動穩定性。為了保證導軌的高精度性能，激光干涉儀應運而生。...

2024-03-04 標簽：激光干涉儀激光干涉儀 827 0

CIOE2024：光電科技的璀璨盛宴即將開啟

當光影交織，科技與未來相遇，一場光電領域的國際盛會正悄然臨近。第25屆國際光電博覽會（CIOE2024）即將在金秋時節盛大開幕，這不僅是一場技術的展示，...

2024-09-05 標簽：干涉儀博覽會光電儀器 826 0

白光干涉儀AM系列助力3D打印技術的科研發展

自品牌開創以來，優可測一直秉承著“用心檢測”的理念，樂于協助高校、研究院以及實驗室的學子、老師進行學術研究，助力3D打印技術發展以及行業創新，推動中國科...

2024-02-23 標簽：透鏡干涉儀表面粗糙度 771 0

顯微雙姝，“文”、“武”雙全——中圖顯微家族又一力作上線！

期期盼盼，中圖儀器耗時數載研制而成的共聚焦顯微鏡在完成多項關鍵技術指標的驗證并得到先期若干客戶及應用場景的檢驗后，終于正式上線！繼成功推出SuperVi...

2023-02-03 標簽：顯微鏡干涉儀 743 0

優可測白光干涉儀：助力手機玻璃蓋板品質提升 | 行業應用

手機蓋板材料從塑料、金屬到玻璃/陶瓷，再到納米紋理玻璃，不斷革新以滿足消費者需求。其中，影響手機玻璃蓋板關鍵因素包括蝕刻深度、角度、粒子統計、粗糙度等。...

2024-11-19 標簽：干涉儀表面粗糙度白光干涉儀 650 0

金秋九月，芝加哥機床展&深圳光博會約定您

金秋九月，中圖儀器將在美國芝加哥和中國深圳參加兩場行業盛會，向全球用戶展示中國制造的先進精密測量解決方案。2024美國芝加哥金屬加工及工業展覽會（IMT...

2024-08-30 標簽：檢測干涉儀精密測量 630 0

新材料測樣難？優可測提供白光干涉儀測試服務

隨著 “中國制造”向高質量、高性能、高精密發展吹起號角，半導體、光學、3C制造、新材料、精度加工、醫療、航空航天、新能源等高端產業相繼得到重點投資和扶持...

2023-05-04 標簽：干涉儀 486 0

減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

? ? 引言 ? 在半導體制造領域，光刻膠剝離工藝是關鍵環節，但其可能對器件性能產生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文...

2025-06-14 標簽：干涉儀光刻膠 213 0

電壓放大器在線性相位調制雙零差干涉儀位移測量實驗中的應用

實驗名稱：線性相位調制雙零差干涉儀位移測量相關實驗 測試目的：測試雙零差干涉儀在測量鏡M2靜止時，進行長時間的測量時，環境參數變化引起的兩路干涉信號相位...

2025-04-18 標簽：電壓放大器干涉儀 192 0

低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導體制造過程中，光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）雖在光刻膠剝離方面表現出色，但因其高含量使用帶來的成...

2025-06-17 標簽：光刻NMF干涉儀 151 0

可再生光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導體制造與微納加工行業，光刻膠剝離液的使用量龐大。傳統剝離液存在環境污染、資源消耗等問題，可再生光刻膠剝離液憑借環保與可持續優勢成為研究熱點。...

2025-06-05 標簽：干涉儀光刻膠 135 0

Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術，在微型顯示領域極具潛力。其中，陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果，而光刻圖形的精準測量...

2025-05-23 標簽：光刻測量干涉儀 107 0

光刻膠圖案化方法及光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻膠的圖案化和剝離是形成精確圖形結構的關鍵步驟，而光刻圖形的準確測量則是確保工藝質量的重要環節。本文將詳細介紹光刻膠...

2025-06-20 標簽：干涉儀光刻膠 91 0

針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節，其效果直接影響芯片性能與良率。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹...

2025-06-25 標簽：晶圓干涉儀 59 0