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晶片是LED最主要的原物料之一，是LED的發光部件，LED最核心的部分，晶片的好壞將直接決定LED的性能。晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族復合半導體物質構成。在LED封裝時，晶片來料呈整齊排列在晶片膜上。

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晶片技術

通過兩步濕法刻蝕法制備黑硅

本研究對黑硅的形成進行了兩步短濕蝕刻處理,所建議的結構包括兩個步驟。第一步：濕酸性蝕刻凹坑狀形態，具有降低紋理化溫度的新解決方案；第二步：通過金屬輔助蝕...

2022-03-29 標簽：工藝晶片刻蝕 1160 0

紫外熒光在晶圓表面清潔分析中的應用

引言紫外熒光(UVF)是一種新穎而通用的檢測硅片表面金屬雜質污染的方法。我們證明了UVF在硅片加工中污染控制的有效性。實驗顯示了室溫下鐵、銅、鎳、鈉等...

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MACE工藝制備黑硅的表面形態學和光學性能研究

本文研究了用兩步金屬輔助化學蝕刻(MACE)工藝制備的黑硅（b-Si）的表面形態學和光學性能，研究了銀膜低溫退火和碳硅片蝕刻時間短的兩步MACE法制備硼...

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半導體晶片干燥場非內部和晶片周圍的流動特性

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2022-05-06 標簽：半導體特性晶片 1041 0

GaN單晶晶片的清洗與制造方法

作為用于高壽命藍色LD (半導體激光器)、高亮度藍色LED (發光二極管)、高特性電子器件的GaN單晶晶片，通過hvpe (氫化物氣相)生長法等進行生長...

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2022-04-20 標簽：半導體晶片清洗 1032 0

一種提高晶片干燥效率的馬蘭戈尼型干燥劑系統

晶片干洗系統，更詳細地說，是一種能夠提高對晶片干燥效率的馬蘭戈尼型(MARANGONI)TYPE)干洗系統。

2022-04-08 標簽：半導體工藝晶片 1028 0

石英晶體切割類型與頻率的關系

今天這節課，讓我們來了解一下石英晶體切割類型與頻率的關系，所謂晶體切割類型，就是對晶體坐標軸某種取向的切割。石英晶片的切割類型有很多種，不同的切型其物理...

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半導體光刻的工藝過程（3）

涂布后，所得抗蝕劑膜將含有 20-40% 重量的溶劑。后應用烘烤過程，也稱為軟烘烤或預烘烤，包括在旋涂后通過去除多余的溶劑來干燥光刻膠。減少溶劑含量的主...

2022-08-29 標簽：半導體工藝光刻 1021 0

硅晶圓的制備流程

本文從硅片制備流程為切入點，以方便了解和選擇合適的硅晶圓，硅晶圓的制備工藝流程比較復雜，加工工序多而長，所以必須嚴格控制每道工序的加工質量，才能獲得滿足...

2024-10-21 標簽：硅晶圓晶片 1020 0

外延沉積前原位工藝清洗的效果

本文研究了外延沉積前原位工藝清洗的效果，該過程包括使用溶解的臭氧來去除晶片表面的有機物，此外，該過程是在原位進行的，沒有像傳統上那樣將晶圓從工藝轉移到沖...

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晶振是如何工作的

晶振在單片機中是必不可少的元器件，只要用到CPU的地方就必定有晶振的存在，那么晶振是如何工作的呢？什么是晶振晶振一般指晶體振蕩器，晶體振蕩器是指從一...

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EGEE、NMP和THFA的微粒去除和基底損傷性能

在本報告中，我們華林科納探討了2-乙氧基乙醇(EGEE)、NMP和THFA在常規氣溶膠噴霧清潔系統中的微粒去除和基底損傷性能。在300毫米和200毫米的...

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半導體晶片和器件清洗工序中使用的清洗藥液和超純水的純度要求隨著半導體的微細化而變得嚴格，金屬雜質的含有濃度達到了ppt水平。在使用該藥液的半導體清洗工序...

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